JPS6161343A - ガス放電器内の圧力保持装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明はガス放電器特に後段加速型の平板形プラズマ
表示パネルの放電室の圧力を一定に保持する装置に関す
る。

〔従来の技術〕

電子の後段加速が行なわれるプラズマ表示パネルは一般
によく知られている（例えばドイツ連部共和国特許出願
公開第２４４２８６９号明細書３照）。

〔発明が解決しようとする問題点〕

この発明の目的は、この種のガス放電器のガス圧力を一
定に保持する装置を提供することである。

〔問題点を解決するための手段〕

この目的は特許請求の範囲第１項に特徴として挙げた構
成とすることだよって達成される。この発明の有利な実
施形態とその拡張は特許請求の範囲第２項以下に示さ八
ている。

〔実施例〕

図面に示した実施例によってこの発明？更に詳細に説明
する、 電子の後段刀口速を行なうプラズマ表示パネルでは充填
ガスとして主としてヘリウムが使用される。

その際最適充填圧力は２．５　ｍｂａｒであり、ガス容
積は１２インチセルの場合約１ａ、、３で６る。

ガラス壁を通しての拡散をできるだけ少くするため、セ
ル壁にはヘリウム拡散の少ないガラス例えンヨアルカリ
を約１５％含むソーダ石灰ガラスが便用される。この種
のガラス容器からのヘリウムの拡散損失は著しく僅少で
あり、１０年間における圧力低下１はα＋　ｍｂａｒ以
下と兄すことができる。

ガラスはんだＶＣは酸化鉛分含むガラスが使用され、こ
れもヘリウムに対する拡散速度が低い。

このセルにガス放電が起るとＨｅイオンと電子が発生す
る。ＨｅイオンはＨ９原子よりも包囲壁を通しての拡散
が強いので、ある程度のＨｅ消粍は壁けられない。ヘリ
ウムの大部分は陰極に包含される。放電電圧的２００７
．電流密度１００μＡ／ｃｍ２、放電時間フ００００ｈ
で約［１５ｍｂａｒのヘリウム消費が起るが、このガス
消費量はプラズマ表示の動作にとって猶受容できるもの
である。

放電電圧が高くなるかあるいはプラズマ表示パネルの場
合電子後段加速電圧が数ｋＶＫ達しＨｅイオンが１５制
御板に向って加速されそこに包含されるようになると、
ヘリウム消ｆｆｆｉは著しく増大する。プラズマ陰極の
種類と＠段加速室に向った制御板表面の性質ならびに表
示電流の大きさによっては、１０００時間の動作時間で
１ｍｂａｒＫ４するヘリウム消耗が起る。

画像表示セルの動作にとって２　ｍｂａｒ以下と３？Ｍ
ｂａｒ以上のガス圧力は許容されない。圧力が低過ぎる
と画像のコントラストが低下し、高過ぎると耐電圧性に
問題が起る。

上記の説明からガスの補給が絶対必要であることが分る
。

５ｉ０２　ＮとＢｚＯａ　量のいずれか一方又は双方が
高いガラスはヘリウム透過性が高いことは公知である。

例えば２５℃における石英ガラスのガス透過率はソーダ
石灰ガラスのそれに対して係数１０４だけ高い。石英ガ
ラスの通気率ｑｐｅｒｎｏ　　は７×１ｃｒ５ｍｂａｒ
　＋　Ｌ／　ｓ　・ｗｎ／　ｍ２ｂａｒ　である。

このヘリウム透過率は内容債５３・３、壁厚１■の管容
器にヘリウムをｌ　ｂａｒに充填したとき、明淡続され
たセルのヘリウム消費を補慣するのに光分である。

しかしセルが貯蔵されるだけでヘリウムの消費が無い場
合には、貯蔵器か乙のヘリウムの補給が過大となる。し
かし実際に使用されるまでの貯蔵期間が１年になること
は少ないから、その間の圧力上昇はα５　ｆｆ１ｂａｒ
に過ぎない。石英ガラスを使用した場合１年間の圧力上
昇は約５ｍｂａｒとなる。

Ｅｌｉ０２　＋　Ｂ２Ｏ３ｉｎｋが低いガラスはＨｅＫ
敗も少ない。アルカリ土類を含１ないホウケイ酸ガラス
で５１ｏｚ　＋　８２０３量が約９６％のものは、２５
℃のＩｌｅ通気率は である。この値は充分小さぐ、１年の間に起るセル内の
圧力上昇は猶許きれる限度内にある９４給管を１００℃
に加熱すると、明示動作においての補給も確保される。

アルカリ土類を含まないホウケイ酸ガラスの通気率はこ
の温度において藁温の値より約２桁高い。ガラス管の加
熱に必要な電力は約５Ｗである。

図面にこの発明の実施例の断面を模式的に示す。

ここではこの発明を理解するために必要としない部分は
除か九ている。

図面に示さ４１てｂるプラズマ表示セルの圭要部は１ｉ
ｉ１４御板６を備える映像面５である。プラズマ表示セ
ルはガラスキャップで閉鎖され、その内部に（はｉ＃！
Ｉ御ｊｌｆｉ、６に対向して電流導入部７を備える陰極
５が設けられている。陰極５の下にはガラス容器１が置
刀１れている。ガラス容器１は一種のガラスアンプルで
あって、厚膜導体ペーストで作られた巻回２を加熱体と
して電流導入端８を通して送り込まれる電流により別格
される。絶縁性の陰憧保持体４は酸化アルミニウム・セ
ラミックで作られる。

耐久試験の結果によれば陰極６へのヘリウムの収′ｉ量
は時間と共にいくらか減小するから、ガラス容器１の容
積はガスの補充を２回（２Ｘ１ｄｆｆ＋３゜２．５ｍｂ
ａｒ）行うことができる程度に選べば充分である。この
量はガラス壁厚を１智として′ｘ、填圧を１ｂａｒとす
るときｊ４Ｘ４Ｘ１００−のＨｅ供給容積に対応する。

Ｈｅ通気率はプラズマ表示セルのＨθ圧を通し一一：；
ｉｉ’制御することができる。Ｈｅ王自体：は放電電圧
の変化を通して測定技術的に捕捉できる。

〔発明の効果〕

・二の発明の装ｅによれば、Ｈθプラズマが発生しそこ
から出た陽イオンが後段加速Ｍ内でガス放電陰極に同っ
て加速されるガラス容器内の圧力を←定に保持すること
ができる。

ガラス容器の形のガス貯蔵器は、温度によって制御され
とりわけヘリウムに対するガス透過度が可変であるから
、動作状態に対応してヘリウムの補給が確保される。

【図面の簡単な説明】

図面はこの発明の実施例の断面を模式的に示すものて、
１はガラス容器、２は加熱用の巻回、３は陰極、４は陰
極保持体である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）ガス放電器内にヘリウムその他のガスを満たしたガ
   ラス容器（１）が設けられ、この容器がその温度を制御
   してガス透過度を変える加熱器（２）を備えていること
   を特徴とするガス放電器内の圧力保持装置。 ２）ガラス容器（１）がＳｉＯ＿２又はＢ＿２Ｏ＿３又
   はその双方を成分とするガラスで作られていることを特
   徴とする特許請求の範囲第１項記載の装置。 ３）ガラス容器（１）がアルカリ土類を含まないホウケ
   イ酸ガラスで作られていることを特徴とする特許請求の
   範囲第１項又は第２項記載の装置。 ４）ガラス容器（１）がソーダ石灰ガラスで作られてい
   ることを特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第３項の
   いずれか１項に記載の装置。 ５）ガラス容器（１）が石英ガラスで作られていること
   を特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第４項のいずれ
   か１項に記載の装置。 ６）ガラス容器（１）が厚膜導体ペーストで作られたら
   せん形の加熱器（２）で囲まれていることを特徴とする
   特許請求の範囲第１項乃至第５項のいずれか１項に記載
   の装置。