JPS6161163B2 - - Google Patents
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- JPS6161163B2 JPS6161163B2 JP4707077A JP4707077A JPS6161163B2 JP S6161163 B2 JPS6161163 B2 JP S6161163B2 JP 4707077 A JP4707077 A JP 4707077A JP 4707077 A JP4707077 A JP 4707077A JP S6161163 B2 JPS6161163 B2 JP S6161163B2
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- Japan
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- magnetic
- carbon
- magnetic head
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- Expired
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- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 17
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は磁気テープ、磁気デイスク、磁気カ
ード等の磁気媒体に情報を書き込み読み出す磁気
ヘツドの構造に関するものである。
ード等の磁気媒体に情報を書き込み読み出す磁気
ヘツドの構造に関するものである。
磁気テープ、磁気デイスク、磁気カード等を用
いた磁気記録装置を安価に提供するためにはこれ
らの磁気媒体をできる限り、有効に使うことが必
要であり、そのために磁気媒体を高密度に使うこ
とが研究されている。しかしこの事は必然的に磁
気媒体と磁気ヘツドとの間隔を小さくすることに
なり、逆に磁気ヘツドは磁気媒体と衝突擦過する
機会が増え磁気媒体との対向面では変質、磨耗は
もとより甚しくは欠落を生じ、磁気記録の高密度
化に大きな障害となつている。このため磁気ヘツ
ドの前記対向面或いはその近傍に、変質保護膜或
いは補強材を設置することが提案されている。し
かし磁気ヘツドとしての特性を損わないためには
これらの保護膜乃至補強材は極めて薄いものでな
ければならず、強度的に十分な材料を薄膜で形成
することがむづかしいために実用に供されるまで
には至つていない。
いた磁気記録装置を安価に提供するためにはこれ
らの磁気媒体をできる限り、有効に使うことが必
要であり、そのために磁気媒体を高密度に使うこ
とが研究されている。しかしこの事は必然的に磁
気媒体と磁気ヘツドとの間隔を小さくすることに
なり、逆に磁気ヘツドは磁気媒体と衝突擦過する
機会が増え磁気媒体との対向面では変質、磨耗は
もとより甚しくは欠落を生じ、磁気記録の高密度
化に大きな障害となつている。このため磁気ヘツ
ドの前記対向面或いはその近傍に、変質保護膜或
いは補強材を設置することが提案されている。し
かし磁気ヘツドとしての特性を損わないためには
これらの保護膜乃至補強材は極めて薄いものでな
ければならず、強度的に十分な材料を薄膜で形成
することがむづかしいために実用に供されるまで
には至つていない。
この発明は上述の保護膜乃至補強材として高硬
度の炭素系皮膜を採用したことを特徴とするもの
で、従来の磁気ヘツドの機械的強度を増大させる
とともに、磁気特性も殆んど損うことのない高性
能長寿命の磁気ヘツドを提供することを目的とす
るものである。
度の炭素系皮膜を採用したことを特徴とするもの
で、従来の磁気ヘツドの機械的強度を増大させる
とともに、磁気特性も殆んど損うことのない高性
能長寿命の磁気ヘツドを提供することを目的とす
るものである。
以下この発明に関し図面を用いて説明する。第
１図はこの発明の一実施例を示したもので、高透
磁率磁性体１１及び１２が接着剤１３及び１４で
接合され、端子１５，１６及び１７を持つコイル
１８が巻かれている。磁気媒体との対向面にはこ
の発明の特徴である厚さｔの高硬度炭素系皮膜１
９が設けられている。この高硬度炭素系皮膜１９
によりヘツドの耐磨耗性を飛躍的に向上させるこ
とができる。それ故この発明は特に磁気テープと
の摩擦で磨耗と変質の激しいVTR用磁気ヘツド
に適する。また後述の方法で作製される炭素系皮
膜はダイアモンドに近い構造を持つており、単に
硬度が極めて高いばかりでなく、熱伝導にも優れ
熱放散にも役立つていると考えられる。なお炭素
系皮膜１９の厚さｔとしては磁気ヘツドと磁気媒
体との実効的間隔を小さくするため1000Å程度が
適する。
１図はこの発明の一実施例を示したもので、高透
磁率磁性体１１及び１２が接着剤１３及び１４で
接合され、端子１５，１６及び１７を持つコイル
１８が巻かれている。磁気媒体との対向面にはこ
の発明の特徴である厚さｔの高硬度炭素系皮膜１
９が設けられている。この高硬度炭素系皮膜１９
によりヘツドの耐磨耗性を飛躍的に向上させるこ
とができる。それ故この発明は特に磁気テープと
の摩擦で磨耗と変質の激しいVTR用磁気ヘツド
に適する。また後述の方法で作製される炭素系皮
膜はダイアモンドに近い構造を持つており、単に
硬度が極めて高いばかりでなく、熱伝導にも優れ
熱放散にも役立つていると考えられる。なお炭素
系皮膜１９の厚さｔとしては磁気ヘツドと磁気媒
体との実効的間隔を小さくするため1000Å程度が
適する。
第２図はこの発明の他の実施例を示したもの
で、磁気デイスク装置や磁気ドラム装置に使われ
る浮揚型磁気ヘツドの典型的構成のものにこの発
明の特徴である高硬度炭素系皮膜２９を、第１図
の例とは違つて磁気媒体との対向面全体に被覆す
るのではなく両脇のスライダー部にのみ設けたも
のである。すなわち高透磁率磁性体２１及び２２
は接着剤２３及び２４で接合され、端子２５，２
６及び２７を持つコイル２８が巻れている。高透
磁率磁性体２１の両側の凸部はスライダーを兼ね
ており、この表面に膜厚ｔの前記皮膜２９がある
ために、スライダー自身の耐磨耗性の向上が計ら
れている。皮膜２９の表面と情報の書込み読出し
を行う中央のギヤツプ部２０とを同一面にするこ
とによつてギヤツプ部２０と磁気媒体との間隙を
極力小さくでき、高密度記録を可能にできる。
で、磁気デイスク装置や磁気ドラム装置に使われ
る浮揚型磁気ヘツドの典型的構成のものにこの発
明の特徴である高硬度炭素系皮膜２９を、第１図
の例とは違つて磁気媒体との対向面全体に被覆す
るのではなく両脇のスライダー部にのみ設けたも
のである。すなわち高透磁率磁性体２１及び２２
は接着剤２３及び２４で接合され、端子２５，２
６及び２７を持つコイル２８が巻れている。高透
磁率磁性体２１の両側の凸部はスライダーを兼ね
ており、この表面に膜厚ｔの前記皮膜２９がある
ために、スライダー自身の耐磨耗性の向上が計ら
れている。皮膜２９の表面と情報の書込み読出し
を行う中央のギヤツプ部２０とを同一面にするこ
とによつてギヤツプ部２０と磁気媒体との間隙を
極力小さくでき、高密度記録を可能にできる。
さらにこの発明の他の実施例としての次のよう
な浮揚型磁気ヘツドも有用である。すなわちギヤ
ツプ部を磁気媒体との接触・摩擦等から解放し信
頼性と長寿命を計るため、第２図に類似した構成
で、炭素系皮膜のあるスライダー部のみギヤツプ
部より磁気媒体側に飛出（例えば500Å位が適す
る。）した形にしたものである。この構成のもの
は第２図に示した構成のものより製作が容易であ
る。
な浮揚型磁気ヘツドも有用である。すなわちギヤ
ツプ部を磁気媒体との接触・摩擦等から解放し信
頼性と長寿命を計るため、第２図に類似した構成
で、炭素系皮膜のあるスライダー部のみギヤツプ
部より磁気媒体側に飛出（例えば500Å位が適す
る。）した形にしたものである。この構成のもの
は第２図に示した構成のものより製作が容易であ
る。
このように、ここで示した浮揚型磁気ヘツドの
２つの実施例は、停止時に磁気デイスクと接触
し、動作時には浮揚して無接触となる最新の磁気
デイスク装置に特に好適である。
２つの実施例は、停止時に磁気デイスクと接触
し、動作時には浮揚して無接触となる最新の磁気
デイスク装置に特に好適である。
さて、この発明をさらに具体的にするため、前
記高硬度炭素系皮膜の製法の一例を挙げよう。第
３図は、このような目的のために設計された装置
の一例を模式的に示したものである。ニードルバ
ルブ３１を通して送気管３２よりアルゴンガスが
イオン化室３７に導かれ一部は真空排気口４２よ
り、残りは絞り３８を通つて試料室４１に入り真
空排気口４３より系外に排気される。アルゴン圧
が約10-2mmHg程度にされたイオン化室３７には
それぞれの先端に炭素３３および３５を有する電
極３４および３６があり、外部のコイル４４に流
れる電流の作る磁場のもとで高圧電源Ｅ（100〜
1000V程度）により炭素電極３４と３６の間で放
電が起り、炭素原子又は炭素イオンが発生する。
このようにして発生した炭素原子又は炭素イオン
は高真空（ガス圧10-5mmHg程度）に引かれた試
料室４１に導入され電極４０を持つ試料台３９上
の磁気ヘツドの表面に達し、炭素を主成分とする
皮膜を形成する。1971年発行の学術雑読ジヤーナ
ル・オブ・アプライド・フイジイツクス
（Journal of Applied Physics）42巻第７号2953
乃至2958頁の記載によれば、このようにして形成
された皮膜はダイアモンドに近い結晶構造を有
し、従つて極めて高い硬度を持つことが知られて
いる。この製法のさらに別の利点はこのようなダ
イアモンドに近い高硬度皮膜を室温で磁気ヘツド
の表面に形成できることにあり、磁気ヘツドの磁
気特性に悪影響を及ぼすことがない。この皮膜の
厚さは成長速度（毎時数十及至数百Å）をもとに
所定の時間の成長によつて制御される。
記高硬度炭素系皮膜の製法の一例を挙げよう。第
３図は、このような目的のために設計された装置
の一例を模式的に示したものである。ニードルバ
ルブ３１を通して送気管３２よりアルゴンガスが
イオン化室３７に導かれ一部は真空排気口４２よ
り、残りは絞り３８を通つて試料室４１に入り真
空排気口４３より系外に排気される。アルゴン圧
が約10-2mmHg程度にされたイオン化室３７には
それぞれの先端に炭素３３および３５を有する電
極３４および３６があり、外部のコイル４４に流
れる電流の作る磁場のもとで高圧電源Ｅ（100〜
1000V程度）により炭素電極３４と３６の間で放
電が起り、炭素原子又は炭素イオンが発生する。
このようにして発生した炭素原子又は炭素イオン
は高真空（ガス圧10-5mmHg程度）に引かれた試
料室４１に導入され電極４０を持つ試料台３９上
の磁気ヘツドの表面に達し、炭素を主成分とする
皮膜を形成する。1971年発行の学術雑読ジヤーナ
ル・オブ・アプライド・フイジイツクス
（Journal of Applied Physics）42巻第７号2953
乃至2958頁の記載によれば、このようにして形成
された皮膜はダイアモンドに近い結晶構造を有
し、従つて極めて高い硬度を持つことが知られて
いる。この製法のさらに別の利点はこのようなダ
イアモンドに近い高硬度皮膜を室温で磁気ヘツド
の表面に形成できることにあり、磁気ヘツドの磁
気特性に悪影響を及ぼすことがない。この皮膜の
厚さは成長速度（毎時数十及至数百Å）をもとに
所定の時間の成長によつて制御される。
以上に述べた実施例および皮膜作製法はこの発
明を具現するための一例にすぎず、炭素を主成分
とする高硬度皮膜を磁気ヘツドの表面に設けたも
のであれば、いずれもこの発明の特徴が生される
ことは言うまでもない。
明を具現するための一例にすぎず、炭素を主成分
とする高硬度皮膜を磁気ヘツドの表面に設けたも
のであれば、いずれもこの発明の特徴が生される
ことは言うまでもない。
第１図および第２図はそれぞれこの発明の実施
例を示す斜視図、第３図は高硬度炭素系皮膜を形
成する装置の一例の模式図である。 １１，１２，２１，２２……高透磁率磁性体、
１３，１４，２３，２４……接着剤、１５，１
６，１７，２５，２６，２７……端子、１８，２
８……コイル、１９，２９……高硬度炭素系皮
膜、２０……ギヤツプ部、３１……ニードルバル
ブ、３２……送気管、３３，３５……炭素電極、
３４，３６，４０……電極、３７……イオン化
室、３８……絞り、３９……試料台、４１……試
料室、４２，４３……真空排気口、４４……コイ
ル。
例を示す斜視図、第３図は高硬度炭素系皮膜を形
成する装置の一例の模式図である。 １１，１２，２１，２２……高透磁率磁性体、
１３，１４，２３，２４……接着剤、１５，１
６，１７，２５，２６，２７……端子、１８，２
８……コイル、１９，２９……高硬度炭素系皮
膜、２０……ギヤツプ部、３１……ニードルバル
ブ、３２……送気管、３３，３５……炭素電極、
３４，３６，４０……電極、３７……イオン化
室、３８……絞り、３９……試料台、４１……試
料室、４２，４３……真空排気口、４４……コイ
ル。
Claims (1)
- １ 磁気媒体に情報を書き込み読み出す磁気ヘツ
ドにおいて、前記磁気媒体との対向面全面に薄膜
技術により炭素を主成分とするダイアモンドに近
い結晶構造と高硬度を備えた皮膜が形成されてい
ることを特徴とする磁気ヘツド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4707077A JPS53132322A (en) | 1977-04-22 | 1977-04-22 | Magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4707077A JPS53132322A (en) | 1977-04-22 | 1977-04-22 | Magnetic head |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS53132322A JPS53132322A (en) | 1978-11-18 |
| JPS6161163B2 true JPS6161163B2 (ja) | 1986-12-24 |
Family
ID=12764894
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4707077A Granted JPS53132322A (en) | 1977-04-22 | 1977-04-22 | Magnetic head |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS53132322A (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5984325A (ja) * | 1982-11-04 | 1984-05-16 | Kao Corp | 垂直磁気記録方式の磁気ヘツド |
| JPS59210520A (ja) * | 1983-05-14 | 1984-11-29 | Yukio Ichinose | 磁気ヘツド |
| JPS60119609A (ja) * | 1983-11-30 | 1985-06-27 | Kao Corp | 垂直磁気記録方式の磁気ヘツド |
| JPS6233317A (ja) * | 1985-08-06 | 1987-02-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| FR2597247B1 (fr) * | 1986-04-11 | 1995-01-27 | Thomson Csf | Procede de realisation d'une couche de protection mecanique pour tete magnetique d'enregistrement/lecture et tete magnetique d'enregistrement/lecture mettant en oeuvre ce procede |
| FR2622337B1 (fr) * | 1987-10-27 | 1995-06-16 | Thomson Csf | Tete d'enregistrement/lecture video, procede de realisation et appareil mettant en oeuvre ce procede |
-
1977
- 1977-04-22 JP JP4707077A patent/JPS53132322A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS53132322A (en) | 1978-11-18 |
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