JPS6158709B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はデイスク式分流弁、特に熱交換器の配
管の清掃に使用する分流弁に関する。

従来、熱交換器の配管の内部清掃には、管の端
にブラシ・ブラケツト装置を配置し、まず流体を
一方向に流し、次に反対方向に流してブラシを管
内で往復動させることが提案されていた。米国特
許第3319710号を参照されたい。

また、米国特許第3973592号におけるように、
管内で流体の流れを逆転させて清掃ブラシを管内
で前後方向に移動させるのに４方向弁を利用する
ことが示唆されている。この米国特許第3973592
号は外部の配管を簡略化あるいは省略し、バタフ
ライ型プラグ弁と組合わせた一連の一定流量室を
利用しており、このプラグ弁がこれらの室を通し
て流体を流すような回転羽根を備えている。この
構造は非常に複雑であり、羽根支持軸受にサイ
ド・スラストがかかる上に羽根を回転させるのに
比較的高いトルクを必要とする。また、羽根を通
るときにかなりの圧力低下があり、高圧（すなわ
ち供給）流体が低圧（戻し）流体側に或る程度侵
入するのを防ぐことができないのである。

米国特許第660011号、同第925692号および同第
1339284号が当該回転弁の種々の形式のものを開
示している。米国特許第660011号の構造は、流れ
る流体が高速圧力を生じる弁内で多数回のＵター
ンを行なうため、高い回転トルクを受けやすく、
弁を通しかなりの圧力低下を生じる。米国特許第
925692号および同第1339284号では、流れる流体
が回転ユニツトの端部材を通るので高い回転トル
クを発生する。

本発明の目的は、外部配管を省略し、回転軸受
にかかるサイド・スラストや回転トルクを最小限
度まで減らした形式の改良４方向流体流逆転弁を
提供することにある。

本発明の別の目的は、弁を通るときの圧力低下
を最小限度まで減らすことにある。

本発明のまた別の目的は回転部分と固定部分と
の密封状態を最大限度まで高め、高圧側の流体が
低圧側に侵入するのを防ぐことにある。

本発明のさらに別の目的は製作、すえ付け作業
および保守が比較的安価かつ容易に行なえる４方
向弁を提供することにある。

本発明の種々の特徴によれば、長手方向に延び
るハウジングがほぼ円筒形の側壁を備え、このハ
ウジングの両端が端壁で閉じてある。ハウジング
側壁にはポートが設けてあり、加圧流体源に通じ
る供給管路、戻り管路と接続し、また、プロセ
ス・ループの入力管路、放出管路とも接続してい
る。ハウジングは長手方向の回転軸を収容してお
り、この軸は弁回転子組立体の一部となつてい
る。この弁回転子組立体は通常流体流位置と逆流
位置との間で角度的に位置決めできるようになつ
ている。

弁回転子組立体は軸と一緒に回転できるように
装着した複数のセグメント式の円弧パイ形の無ボ
ート・デイスクを包含する。デイスクは軸から半
径方向外方に延びていてこの軸の軸線に対して横
方向となつており、ハウジング側壁に近接して終
つている。デイスクは軸の両端に隣接して交互に
配置してあるが、隣接のハウジング側壁からは隔
たつている。軸線方向に整合した交互のデイスク
縁は半径方向長手方向に延びる隔壁によつて結合
してあつてハウジング・ポートと連絡するように
なつている複数の交互に軸線方向に対向した回転
室を形成している。各室は１つのデイスクと２つ
の隔壁と、それにハウジング側壁によつて構成さ
れており、室のデイスクと反対側の端はハウジン
グ室に開いている。

２対の直径方向に対向したデイスクが一対の軸
線方向に隔たつた横方向平面を構成しており、こ
れらの平面はそれぞれのハウジング端壁に隣接
し、そこから隔たつて配置してある。ハウジン
グ・ポートはこれらの平面の間に設けられる。室
端が開いていることにより、直径方向に対向した
室はそれらの前記開放端を通し、ハウジング室を
経て常に連絡している。

或る実施例では、２つの直径方向に対向した室
は円弧長さがほぼ等しくなつており、他方の直径
方向に対向した室は円弧長さが異なつており、、
一方の室の円弧長まさが他方のものよりもかなり
小さくなつている。弁回転子組立体が通常位置に
あるとき、寸法の小さい方の室が閉塞され、直径
方向に対向する大きい方の室が２つのポートと合
致する。弁回転子組立体が逆流位置にあるとき、
小さい方の室およびそれに直径方向に対向する大
きい方の室は、各々、ただ１つのポートと一致す
る。これら両方の位置で、直径方向に対向するほ
ぼ等しい寸法の室はそれぞれ１つのポートと一致
する。

この構造によれば、ハウジングを通つてポート
間を流れる流体は常に隔たつた平面に対して平行
なデイスク面を横切つて流れ、ハウジングを通つ
てほぼ直径方向に流れる。

弁回転子組立体の全周は円弧デイスク縁に沿つ
て延びるシールによつてハウジング側壁に対して
シールされる。これらのシールは隔たつた平面内
に位置し、ハウジング・ポートはこれら平面間に
位置するので、これらのシールはハウジング側壁
と常時完全に係合する。別の実施例では、長手方
向のシールが隔壁の外側長手方向縁に沿つて余分
に配置される。

以下、添付図面を参照しながら本発明の実施例
について説明する。

本発明のデイスク式分流弁１が第１図に概略的
に示してあり、これはプロセス装置、たとえば、
端閉鎖ヘツド４，５を持つ円筒形ハウジング３お
よびその中を長手方向に延びるチユーブ６を有す
る熱交換器２と一緒に利用できる。チユーブ６の
露出した開放端は円形の横方向チユーブ・シート
７，８に連結してあり、これらのチユーブ・シー
トはそれぞれのヘツド端４，５から隔たつてい
る。ヘツド４およびチユーブ・シート７は１つの
流体流室９を構成し、隔壁１０がヘツド５とチユ
ーブ・シート８の間の空間を一対の流体流室１
１，１２に分離している。熱交換流体は入口１３
を通してチユーブ６まわりの区域に導かれ、出口
１４を通して排出される。

弁１は、通常、流体源１５から冷却水の供給を
受け、その流れはポンプ１６によつて連続的に発
生させられる。弁は適当な流体供給管路１７を通
してポンプ１６および流体源１５に接続してあ
り、また、適当な戻り管路１８によつて流体源１
５に通じている。一対の管路１９，２０が弁１を
普通の要領で熱交換器２に接続している。弁１は
管路１９，２０内の流れを逆転させるように作動
し、チユーブ清掃ブラシ（図示せず）を時々チユ
ーブ６内で前後に往復動させることができる。

第２−５図に最も良く示すように、本発明のデ
イスク式分流弁１はハウジング２１を包含し、こ
のハウジングは円筒形側壁２２を包含し、これは
端壁２３，２４で閉ざしてある。端壁２３はハウ
ジング側壁２２の一端に対してＯリング２５でシ
ールした閉鎖体として図示してあり、これはボル
ト２６によつて取外自在となつている。端壁２４
はハウジング側壁２２の反対端にややくぼんだ状
態で示してあり、環状の溶接部２７で密封固着し
てある。この実施例では、第５，８図に最も良く
わかるように、側壁２２の内面２８は端壁２４に
隣接して長手方向にまつすぐとなつているが、端
壁２３に近づくにつれて外側にテーパが付いてい
る。

ハウジング２１の円筒形壁２２は一対の平行に
隔たつたポート２９，３０を備えており、これら
のポートは管路１７，１８で形成したループ内の
上流にある。ポート２９，３０は、弁が図示の接
続状態にあるときには、常にそれぞれ供給管路、
戻り管路として作用する。壁２２は同様闘に平行
に隔たつた一対のポート３１，３２を包含し、こ
れらのポートは管路１９，２０で構成されたルー
プ内の下流にある。図示のように、これらのポー
ト２９，３１はポート３０，３２と同様に一線上
にある。

回転軸線３４を構成する長手方向回転軸３３は
弁ハウジング２１内の中央に配置してある。第
２，５図に最も良く示してあるように、軸３３の
一端は端壁２４の内面に適当に固着した半径方向
スリーブ軸受３５内に回転自在に装着してある。
軸３３の反対端部は端壁２３を（Ｏリングシール
３６と共に）貫通しており、端壁２３の外面に装
着した半径方向スラスト軸受３７内に回転自在に
支持されている。軸３３は軸受３７から突出し、
適当な円弧、たとえば45度の円弧を描いて軸を回
転させる手段に連結してある。図示実施例では、
この手段はレバー・アーム３８を包含し、このレ
バー・アーム３８は流体シリンダ４１（任意適当
な周知要領で作動させられる）の往復動ピストン
４０の外端に装着したＵリンク３９と軸３３を結
合している。

軸３３は弁回転子組立体４２（第７，９図参
照）の一部をなし、供給ボート２９に入つた流体
は選択的に下流ポート３１，３２のいずれかに送
られ、下流ポートのいずれかを通つて戻る流体は
戻りポート３０を通して放出される。

この目的のために、弁回転子組立体４２は複数
のセグメント式円弧状パイ形無ポート・デイスク
４３，４４，４５，４６を包含する。これらのデ
イスクは軸３３と一緒に回転できるように装着し
てある、デイスクのの各は軸３３から半径方向外
方に延び、この軸および軸線３４に対して横方向
に配置されている。各デイスクは一対の円弧状に
隔たつたほぼ半径方向の縁４７，４８を包含し、
これらの縁はその外端で円弧状縁４９によつてつ
ながつている。この縁４９はハウジング側壁２２
の内面に極めて近接して配置してある。デイスク
４３，４５はデイスク４４，４６の半径よりも幾
分半径が短くなつている。これはハウジング側壁
２２の前記の内側テーパのためである。

デイスク４３−４６は軸３３の両端部に隣接し
て交互に配置してある。したがつて、デイスク４
３，４５は一方の軸端部のところにあつて第１の
横方向平面５０を構成しており、デイスク４４，
４６は軸３３の反対端部のところにあつて平面５
０から軸線方向に隔たつた第２の横方向平面５１
を構成している。

軸線方向に整合した交互のデイスク縁４７，４
８は長手方向隔壁５２，５３によつてつながつて
おり、これらの隔壁は軸３３から円弧縁４９の端
まで半径方向に延びるように装着してある。こう
して、横方向デイスク４３は隔壁５２，５３によ
つて軸線方向に隔たつたデイスク４４，４６につ
ながる。同様の隔壁がデイスク４５をデイスク４
４，４６につなげている。

デイスクおよび隔壁のこうしてできたジグザ
グ・パターンはローマ数字，，，で示す
複数の周方向に隔たつた回転可能な分流室を作り
出す。さらに、弁回転子組立体４２の形態がそれ
ぞれのハウジング端壁２４，２３から内方に隔た
つた平面５０，５１と共に、一対の分離したハウ
ジング室５４，５５を作り出している。

各分流室からの開放外側部分はハウジング
側壁２２で閉ざされている。各交互の分流室の一
方の端壁は交互に軸線方向に位置したデイスクに
よつて構成され、各分流室の反対端は開いてい
る。さらに、隔壁５２，５３は各分流室の側壁を
構成している。

こうして、分流室はハウジング２２、デイス
ク４３および隔壁５２，５３（デイスク４４，４
６に連結されている）によつて構成されている。
第８図で最も良くわかるように、分流室のデイ
スク４３と反対側の端はハウジング室５５に開い
ており、その一部となつている。同様にして、分
流室はハウジング側壁２２、デイスク４４およ
び隔壁（デイスク４３，４５に連結している）に
よつて形成されており、そのデイスク４４と反対
側の端はハウジング室５４内に開き、その一部と
なつている。この配置は交互の分流室，の場
合も同様である。

分流室からは選択的にそれぞれの開放外側
部分を通してポート２９から３２と連絡する。さ
らに、ポート２９−３２は、すべて、平面５０，
５１間に位置するように設けてある。

弁回転子組立体４２の全周はハウジング側壁２
２に対してシールされており、弁の高圧側すなわ
ち供給側から低圧側すなわち戻り側へ加圧流体が
侵入するのを防いでいる。この目的のために、デ
イスク４３−４６の円弧状縁部にはシール・プレ
ート５６，５７が設けてあり、これらのシール・
プレートはボルト５８，５９によつてデイスクに
固着してある。シール・プレート間には円弧状の
弾性シール６０，６１が閉じ込めてある。シール
６０，６１はハウジング側壁２２と係合するよう
に外方に突出し、デイスクの高圧側すなわち供給
側に配置してある。すなわち、ハウジング室５５
と連通している。第３−６図を参照されたい。弁
１の高圧、低圧側間になんらかの漏洩があつて
も、それはシール６０，６１をハウジング側壁２
２に締付けることになる。ポート２９−３２が平
面５０，５１間に配置してあり、シール６０，６
１と重なつていないので、シールは常時側壁２２
と完全に係合する。

所望に応じて、第１１図の実施例に示すよう
に、同様のシール６２を隔壁５２，５３の外側長
手方向縁に沿つて設けてもよい。

図示実施例において、直径方向に対向したデイ
スク４４，４６およびそれぞれの分流室，は
ほぼ等しい円弧長さを持ち、デイスク４５，４６
およびその分流室は直径方向に対向したデイス
ク４３およびその分流室よりも円弧長さがかな
り小さくなつている。図示したように、分流室
，は、各々、ハウジングの円周の約1/4を占
め、一方、分流室は約1/8を占め、分流室は
約3/8を占める。こうして、第３図に示す弁回転
子組立体４２の通常位置においては、分流室は
なんらハウジング・ポートと一致せず、分流室
が２つのポート２９，３１と一致する。分流室
，は、各々、ただ１つのポート３２，３０と
それぞれ一致する。第４図に示す弁回転子組立体
４２の逆流位置では、各分流室からはそれぞ
れただ１つのポート３１，３２，３０，２９と一
致する。

さて第３，５，７，８図に示すような弁１の通
常流れ動作に目を転じて、弁回転子組立体４２の
通常位置において、分流室は供給ポート２９お
よび下流ポート３１の両方と一致しており、分流
室は下流ポート３２と一致し、分流室はいか
なるポートとも一致しておらず、分流室は戻り
ポート３０と一致している。高圧供給流体は源１
５から管路１７を通り、供給ポート２９を通して
弁１に入る。供給ポート２９から、流体は分流室
に流入し、そこを満たす。分流室が開いた室
端およびハウジング室５５を通して直径方向に対
向した室と常に連通しているので、分流室も
供給ポート２９からの供給流体で満たされること
になる。しかしながら、分流室がいかなるポー
トとも一致していないので、この流体はほぼ阻止
される。したがつて、流体は強制的に直接デイス
ク４３の内面を横切つて流れ、分流室から下流
ポート３１を通つて熱交換器２にほぼまつすぐに
流れる。

熱交換器２からの戻り流体はそこでの圧力低下
で低圧となつており、管路２０を通り、下流ポー
ト３２を経て弁１に入る。ポート３２から、流体
は分流室に流入し、そこを満たす。分流室は
開いた室端およびハウジング室５４を通して直径
方向に対向した分流室と常に連絡しているの
で、流体は分流室に流入し、戻りポート３０を
通つて排出し、源１５に戻る。この実施例では、
流体はデイスク４４，４６の内面を直接横切つて
流れる。

熱交換器２を通る流体の流れを逆流させたい場
合には、ピストン４１を作動させて弁回転子組立
体４２を45度だけ第４，９，１０図に示す位置ま
で回転させる。この逆流位置で、分流室はポー
ト３１と一致し、分流室はポート３２と一致
し、分流室はポート３０と一致し、分流室は
ポート２９と一致する。高圧供給流体が再び源１
５から管路１７を通つて流れ、供給ポート２９か
ら弁１に入る。供給ポート２９から、流体は分流
室に流入し、そこを満たし、それから室端およ
びハウジング室５４を通つて反対側の分流室に
流れ、次に分流室から下流ポート３２を通つて
熱交換器２に流れる。この実施例では、流体はデ
イスク４４，４６の内面を直接横切つて流れる。

戻り流体（再び低圧となる）は管路１９を通
り、下流ポート３１を通つて弁１に入り、そこ
で、分流室に入つてそれを満たす。したがつ
て、流体は室端およびハウジング室５５を通つて
反対側の分流室に入り、戻りポート３０を通つ
て分流室から排出し、源１５に戻る。

第１２図は、ハウジング室５４，５５を分離し
ているただ１つの平らな円形デイスク６３として
処理した４つのパイ形デイスク・セグメントを持
つ本弁を概略的に示している。ハウジング室５５
内の供給圧力SPはデイスク６３の上面に対して
均等に加わり、戻り圧力RPもデイスクの下面に
均等に加わる。圧力SPが圧力RPよりも高いこと
により当然圧力差があるけれども、各デイスク面
面に均一に圧力が分布し、SP，RPの力が軸線３
４に対して平行に作用するため、軸受３５，３７
にはなんらサイド・スラストがかからない。

トルクに関しては、これは種々の弁要素、すな
わち端壁２３，２４の内面の面積、デイスク６３
の頂、底面の面積に依存する。これらの面積が完
全に等しくはないがかなり近い値であるという事
実により、軸受３５，３７にかかる摩擦力は無視
できる。したがつて、弁回転子組立体４２を回転
させるに必要なトルクは最小となる。

これは第１３，１４図に概略的に示すような公
知のプラグ弁に匹敵する。この公知プラグ弁で
は、回転軸６４が半径方向スリーブ軸受６５，６
６内に支えられ、軸線６８まわりに回転できるよ
うにテーパ羽根６７を支持している。羽根６７の
片面６９は高圧供給圧力SPを受け、反対面７０
は低圧戻り圧力RPを受ける。

このプラグ弁では、サイド・スラストは羽根の
両面にかかる圧力差（SPマイナスRP）に正比例
する。この圧力差は、もちろん、下流のプロセス
装置が大きい圧力低下を生じさせたときにはかな
りのものとなる。トルクに関しては、それは羽根
面積、供給圧力SP、軸線６８から羽根６７の片
側にかかる供給圧力７１の中心（重心にやや近
い）までの距離Ｌの積に正比例する。こうして、
羽根６７を回転させるに必要なトルクはかなりの
ものとなる。これを第１２図のデイスク弁と比べ
た場合、本発明によれば、サイド・スラストおよ
び回転トルクはほとんどない。

本発明の弁は外部配管のない形式の４方向弁に
おいてサイド・スラストおよび回転トルクを減少
させた独特のシステムを提供する、この弁は作動
部品を鋳造するなどして容易に製作でき、機械加
工をほんの少し必要とするかあるいはまつたく不
要である。

所望に応じて、本発明の精神から逸脱すること
なく弁１の流体の流れ管路を逆にしてもよい。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のデイスク式分流弁を適用する
ことのできる熱交換システムの概略図である。第
２図は本発明の分流弁の斜視図である。第３図は
第２図の３−３線に沿つた垂直断面図であり、弁
回転子組立体を通常流れ位置で示す図である。第
４図は第３図と同様の図であり、弁回転子組立体
を逆流位置で示す図である。第５図は第３図の５
−５線に沿つた断面図である。第６図は説明の簡
略化のためにハウジングの一部を破断して示す弁
の斜視図である。第７図は弁回転子組立体が通常
流れ位置にあるときの流体の流れ経路を示す概略
図である。第８図は第３図の８−８線に沿つた断
面図である。第９図は第７図と同様の図であり、
弁回転子組立体を逆流位置で示す図である。第１
０図は第４図の１０−１０線に沿つた断面図であ
る。第１１図は弁回転子組立体の第２実施例を示
す斜視図である。第１２図は流体が横方向部材に
衝突する回転弁に伴なう力を示す概略図である。
第１３図は回転軸線方向プラグに流体が衝突する
ときに伴なう力を示す概略頂面図である。第１４
図は第１３図のプラグの側面図である。 図面において、１……デイスク式分流弁、２…
…熱交換器、３……円筒形ハウジング、４，５…
…端閉鎖ヘツド、６……チユーブ、７，８……チ
ユーブ・シート、９……流れ室、１０……隔壁、
１１，１２……流れ室、１３……入口、１４……
出口、１５……加圧流体源、１６……ポンプ、１
７……流体供給管路、１８……流体戻り管路、２
１……ハウジング、２２……円筒形側壁、２３，
２４……端壁、２９，３０……上流ポート、３
１，３２……下流ポート、３３……回転軸、３７
……スラスト軸受、４０……往復動ピストン、４
１……流体シリンダ、４２……弁回転子組立体、
４３，４４，４５，４６……デイスク、５０，５
１……横方向平面、５２，５３……隔壁、５４，
５５……ハウジング室。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 加圧流体源１５とプロセス装置２とを接続す
   る流体流逆転用分流弁１であつて、 (a) 長手方向に延びるほぼ円筒形の側壁２２およ
   び端壁２３，２４を有する密閉ハウジング２１
   と、 (b) このハウジングの側壁に配置してあつて加圧
   流体源に接続する一対の平行に隔たつた上流供
   給、戻りポート２９，３０と、 (c) 前記ハウジングに配置してあつてプロセス装
   置に接続する一対の平行に隔たつた下流出力、
   入力ポート３１，３２であつて、前記上流のポ
   ートと整列している下流出力、入力ポートと、 (d) 前記ハウジング内に配置してあつて長手軸線
   ３４まわりに第１、第２の位置の間で回転し、
   前記供給ポート２９に入つた流体を前記下流ポ
   ートのいずれかに選択的に送り、また、前記下
   流ポートのいずれかを通つて戻る流体を前記戻
   りポート３０を通して放出させるようになつて
   いる弁回転子組立体４２と、 を包含し、この弁回転子組立体がこれを前記ハウ
   ジング内で回転させる手段に連結してあり、ま
   た、この弁回転子組立体が、 (i) 前記軸線に関して回転できるように装着し
   てあるが、軸線方向に移動できないように固
   定してある軸手段３３と、 (ii) この軸手段に対して横方向に配置してあ
   り、そこから半径方向外方に延びる複数のデ
   イスク・セグメント４３−４６であつて、一
   対の円弧上に隔たつたほぼ半径方向の縁４
   ７，４８を有し、さらに、端部に前記ハウジ
   ング側壁に近接して配置した円弧上の縁４９
   を有し、前記軸手段の両端部に隣接して交互
   に配置してあつて２対の円弧上に隔たつたデ
   イスク・セグメント４３，４５−４４，４６
   を構成しているデイスク・セグメントと、 (iii) 交互のデイスク・セグメントの前記半径方
   向縁を結合する長手方向の隔壁５２，５３
   と、 を包含し、 (e) 前記ハウジング側壁、前記デイスク・セグメ
   ントおよび前記隔壁によつて複数の回転自在の
   交互の円弧状分流室−を構成しており、こ
   れらの分流室の前記デイスク・セグメントと反
   対の側の端が開いている ことを特徴とする分流弁。 ２ 特許請求の範囲第１項記載の分流弁におい
   て、前記デイスク・セグメントが前記ハウジング
   を一対のハウジング室５４，５５に分離してお
   り、各ハウジング室が一対の前記分流室と連通し
   ていることを特徴とする分流弁。 ３ 特許請求の範囲第１項記載の分流弁におい
   て、前記各対の円弧状に隔たつたデイスク・セグ
   メント４３，４５−４４，４６がそれぞれの分流
   室，−，と共にほぼ直径方向に対向して
   いることを特徴とする分流弁。 ４ 特許請求の範囲第２項記載の分流弁におい
   て、 (a) 前記各対の円弧状に隔たつたデイスク・セグ
   メント４３，４５−４４，４６がそれぞれの分
   流室，−，と共にほぼ直径方向に対向
   し、 (b) 前記円弧状に隔たつたデイスク・セグメント
   の各対によつて部分的に境されるそれぞれの分
   流室が前記対のハウジング室の一方と連絡して
   いる ことを特徴とする分流弁。 ５ 特許請求の範囲第１項または第４項記載の分
   流弁において、 (a) 前記ほぼ直径方向に対向する分流室の一方の
   対，がほぼ等しい円弧長さとなつており、 (b) 他方の対の前記ほぼ直径方向に対向した分流
   室，が等しくない円弧長さとなつている ことを特徴とする分流弁。 ６ 特許請求の範囲第５項記載の分流弁におい
   て、 (a) 前記一方の対の分流室，の各々が前記ハ
   ウジング側壁の円周の約1/4の円弧長さを有
   し、 (b) 前記他方の対の分流室の他方が前記ハウジ
   ング側壁の円周の約3/8の円弧長さを有する ことを特徴とする分流弁。 ７ 特許請求の範囲第５項記載の分流弁におい
   て、 (a) 前記弁回転子組立体の前記第１回転位置にお
   いて、 (i) 前記一方の対の分流室の各々，が前記
   ハウジング・ボート３２，３０の一方と一致
   し、 (ii) 前記他方の対の分流室の前記一方の分流室
   が前記ハウジング・ポートと一致せず、遮断
   され、 (iii) 前記他方の対の分流室の前記他方の分流室
   が前記ハウジング・ポートのうちの２つ３
   １，２９と一致し、 (b) 前記弁回転子組立体の前記第２回転位置にお
   いて、前記分流室の各々が前記ハウジング・ポ
   ートの１つと一致する ことを特徴とする分流弁。