JPS6150949A - トランス−１，２−ジアミノシクロヘキサン誘導体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ９産業上の利用分野〕 本発明は、医薬品合成中間体として有用なトラ／スー１
．２−ジアミノシクロヘキサン誘導体の製造方法に関す
る。

〔従来の技術〕

従来、ｌ＋２−ジアミノシクロヘキサンの製造方法とし
ては、たとえばａ−クロロシクロヘキサノ／を出発原料
とする方法（米国特許２８５０５３２号明細占）など、
各種の方法が提案されているスー１．２−ジアミノシク
ロヘキサンの立体選択（特公昭４５−２９６５５号公報
）。また、トラン的合成法としては、ｌ、２−イミノシ
クロへキサ　　　　５ンをアジドイオンで開裂させた後
、還元する方法（Ｊ、（Ｊｒｇ、Ｃｈｅｍ、、　３２．
５１１　（１９６７）　）　すどかある。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、一般的な非選択的合成法では、生成物は
、シス体及びトランス体の混合物として得られ、トラン
ス体の取得を特徴とする特許には効率が悪い。

一方、立体選択的合成法は、目的物を選択的に与えるが
、複雑かつ多段階の工程？要し、工業的に有利な方法と
は言い雉い。

本発明は、かかる従来技術の欠点に濫み、トランス体生
成比率の高い１．２−ジアミノシクロヘキサン誘導体を
容易に製造する方法を提供することを目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明の１肥目的は、下記一般式中 （ただし前記（１）式及び下記（１）式におけるＲは、
低級アルキル基、あるいはアリール基をそれぞれ示す。

） で表わされる２−７フルアミノシクロへキサノンオキ／
ム誘導体を、無水酢酸及び金属触媒の共存下で接触水薬
添加することを特徴とする、下記一般式帽）で表わされ
るトランス−１，２−ジアミノシクロヘキサン誘導体 の製造方法を採用することによって達成される。

以下、本発明の構成の詳り４０を説明する。

本発明に用いられる２−アシルアミツノタコへキサノン
オキ／ム誘導体は、２−アミノシクロヘキ′す゛ノンオ
キシム塩酸塩を適当なアシル化剤、たとえばカルボ／酸
無水物やハロゲン化アシル等でアシル化することによっ
て得られる。

なお前記一般式（Ｉ）１こおけるＲで示される低級アル
キル基としては、直鎖状または分枝状の炭素数１〜７の
アルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ
−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ
−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル誌が好ましい
。アリール基としては、たとえばフェニル基、ナフチル
基、トリール基、キソリル基などがあげられる。これら
の低級アルキル基、アリール基は、反応に支障のない限
り適宜の置換基、例えばハロゲン原子、アルコキシ、ア
リールオキン、置換アミノ基などを有していてもよい。

さらに、これらのＲの中では、対応するアシル化剤の入
手の容易さの点で、メチル基、エチル基、クロロメチル
基、フェニル基などが特に好ましい。

本発明において出発原料となる２−アミノシクロへキサ
ン／オキシム塩酸塩は、特公昭４８−１０７８９号公報
等記載の方法により、シクロヘキセンを原料として火星
にかつ奪価に製造される。

本発明の接融水素添加反応なこおいて、無水酢酸は、ア
セチル化剤及び脱水剤として作用す４無水酢酸の使用量
は、通常２−アシルアミノシクロへキサノンオキシム１
モルに対して２〜ｌＯモル、好ましくは４〜６モルであ
る。

接触水素添加反応は、通常金属触媒の存在下に行なわれ
る。触媒としては、窒累官能仏によって被毒され雉いも
のなら何でも良いが、触媒活性が高いことから、白金−
活性炭触媒が持ｅこ好ましく用いられる。触媒の匣用批
は、通常２−アンルアミノシクロへキサノンオキシム１
００部に対して、３〜５０這計部、好ましくは５〜２０
亜量部である。

接触水素添加反応は、適当な溶１ａを用いて行なっても
よい。溶媒としては、無水酢酸、アミン及びアミドと反
応しないもので、かつ水素添加され雉いものなら同でも
良いが、接触水素添加反応の進行に伴って酢酸が生成す
ることがら酢酸がＩｆましい。溶棹の使用量は、池の条
件に好ましくは７〜１５ＭｊＭ部である。

接触水素添加反応は、通常２０〜８０℃、好ましくは４
０〜５０℃の温度で行なわれる。反応時の水素圧は、通
常１〜５０　ｋｑ／ｄ　、好ましくは２〜２０λｇ／ｃ
ｄである。反応時間は、反応条件によって兄なるが、通
常１〜２４時間、好ましくは；３〜８時間である。

接触水素添加反応反応によって得らＩするｌ、　２−ビ
ス（アシルアミノ）フクロヘキサン中のトランス体の含
酊比・ｔ（は、８０〜８５％であり、必要に応じ、再債
晶精裂できる。このものを常法に従って加水分）ψ１す
ればトランス−１，２−ジアミノ／クロヘキサンとなる
。

次に本発明法を実施例をもって説明する。

〔実施例〕 最初１こ本発明に使用する出発原料の一製法を参考例と
して述べる。

参考例 ２−アセトアミドシクロへキサノンオキシムの製造 ４Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液６５０　ｄとクロロホル
ム６００層ｌの二相系溶媒に２−アミ／’／ｐロヘキサ
ノンオキシム塩酸塩１８０Ｆを溶解させた。この溶液を
１０℃に保ち、塩化アセチル８０１１１をＬ５時間かけ
て滴下した。滴下後１０℃でさらにＬ５時間攪拌した後
、生成した結晶をｉ１取した。Ｐ液の有４１層を分取し
、水層はクロロホルム５００騨ｔで抽出した。有４ｊ−
は、まとめて濃縮し、析出した結晶と先の結晶をあわせ
て再結晶積装し、２−アセトアミド７りａヘキサノ／オ
キシム１２５Ｆを得た。

実施例」 トランス−１，２−ビス（アセトアミド）シクロヘキサ
ンの製造 酢酸３００　ｗｅと無水酢酸９　Ｑ　譚ｌの混合溶液に
２−アセトアミドシクロへキサノンオキシム４０ｆ及び
５％白金−活性炭触媒２．０ｇを加えた。

この混合物を、２０　ｋｇ／ｄの水素加圧下に５０℃で
５．５時間攪拌した。反応混合物から触媒をｉ濾過除去
した後、Ｆ液を減圧下にａ縮した。残渣は、クロロホル
ムＬ６ｇに希釈し、２０９６水酸化ナトリウム水溶液３
００　ｗｅで洗浄した後、無水゛硫酸ナト１７ウムで乾
燥し、減圧下にｉｌＡ縮して、１、２−ビス（アセトア
ミド）シクロヘキサン４２．７ｇを得た。このものをガ
スクロマトグラフィー（’［’ｈｅｒｍｏｎ−３０００
，３ｗｗｘ１．Ｏｔｎ、　２１５℃。

トランス１ド：８．９分、シス体：１１１分）で分析し
たところ、トランス体対シス体の比率は８１対１９であ
った。

実施例２ トランス−Ｎ−アセチル−Ｎ′−クロロアセチル−１，
２−ジアミノ／クロヘキサンの製造実施例１と同法の方
法で、５％白金−活性炭触媒０．１５Ｆの存在下に、酢
酸２４　ｍｌと無水酢酸５．５膚ｌの混合溶液中で２−
クロロアセトアミドシクロへキサノンオキシム３．Ｏｆ
を接触水素添刀口し、Ｎ−アセチル−Ｎ′−クロロアセ
チル−１，２−ジアミノ／りａヘキサ７３．２　Ｆを得
た。この生成物を常法により、２Ｎ−塩０で加水分解し
、１．２−ジアミノシクロヘキサ／二塩酸塩２．４１を
得た。このもののトランス体対シス体の比率は８８対１
２であった。

実施例３ トランス−Ｎ−アセチル−Ｎ′−ベンゾイル−１，２−
ジアミノシフａへキサンの製造 実施例１と開鎖の方法で、５％白金−活性炭触啄０．１
５Ｆの存在下、酢酸２５　ｍｌと無水酢酸５．０ｍｌの
ｕ　合ｍ　Ｈ中で、２−ベンズアミドシクロへキサノン
オキシム３．Ｏｆを接噛水′４添加し、Ｎ−７セチルー
Ｎ’−ベンゾイル−１，２−ジアミノシクロヘキサン３
．３１を得た。この生成物を常法により、２Ｎ−塩酸で
加水分解し、ｌ、　２−ジアミノシクロヘキサ／二塩酸
塩２．３１を得た。このもののトランス体対シス体の比
率は８７：１３であった。

〔発明の効果〕

本発明は次のよプな効果を有する。

■　本発明法の出発原料となる２−アシルアミ　　　　
□ノンクロへキサノンオキシム誘導体は、比軟的簡単な
プロセスで大量に製造されるので安■　本発明法によれ
ば、トランス体の含有比率　　　　□価に入手できる。

の高いＩ、　２−ジアミノシクロヘキサン誘導体が、接
触水薬？ム加反応で、安易に得ら６るので、工業的に有
利である。

■　本発明法によれば、互いに異なる保護基を持ったｌ
、　２−ジアミノシクロヘキサン誘導体が得られるので
、さらに高次の誘４体化が可能である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 下記一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・（ I ） （ただし前記（ I ）式及び下記（II）式におけるＲは
   低級アルキル基あるいはアリール基をそれぞれ示す。） で表わされる２−アシルアミノシクロヘキサノンオキシ
   ム誘導体を、無水酢酸及び金属触媒の共存下で接触水素
   添加することを特徴とする下記一般式（II）で表わされ
   るトランス−１，２−ジアミノシクロヘキサン誘導体の
   製造方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・（II）