JPS614661A - 平面研摩装置の被加工物保持機構 - Google Patents
平面研摩装置の被加工物保持機構Info
- Publication number
- JPS614661A JPS614661A JP59121458A JP12145884A JPS614661A JP S614661 A JPS614661 A JP S614661A JP 59121458 A JP59121458 A JP 59121458A JP 12145884 A JP12145884 A JP 12145884A JP S614661 A JPS614661 A JP S614661A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- center
- pressing plate
- polishing
- workpiece
- centering
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、平面研摩装置の被加工物保持機構、特に薄板
の表面を研摩するだめの平面研摩装置の被加工物保持機
構に関する。
の表面を研摩するだめの平面研摩装置の被加工物保持機
構に関する。
一般に平面研摩装置の被加工物保持機構は、平面研摩装
置の研摩面上の被加工物を保持する保持部を含んで構成
され、研摩面上において被加工物を摺動させて被加工物
の表面を研摩している。
置の研摩面上の被加工物を保持する保持部を含んで構成
され、研摩面上において被加工物を摺動させて被加工物
の表面を研摩している。
第３図に従来の平面研摩装置の被加工物保持機構の一例
を示す。第３図において、平面研摩装置の円盤１は軸２
を中心として回転させられる。一方平面研摩装置のフレ
ーム３１Ｌはスリーブ４が回転自在に取り付けられ、と
のス１ノーブ４の中心孔にスプライン軸５が軸方向に移
動自在に、かつ軸回りにスリーブ４と一体となって回転
するように取り付けられている。フレーム３に設けられ
たエアシリンダ６に取り付けられたレバー７はスプライ
ン軸５に回転自在に係合している。またフレーム３に設
けだモータ８に取り付けた歯車９はスリーブ４．に設け
た歯車１０と噛み合っている。
を示す。第３図において、平面研摩装置の円盤１は軸２
を中心として回転させられる。一方平面研摩装置のフレ
ーム３１Ｌはスリーブ４が回転自在に取り付けられ、と
のス１ノーブ４の中心孔にスプライン軸５が軸方向に移
動自在に、かつ軸回りにスリーブ４と一体となって回転
するように取り付けられている。フレーム３に設けられ
たエアシリンダ６に取り付けられたレバー７はスプライ
ン軸５に回転自在に係合している。またフレーム３に設
けだモータ８に取り付けた歯車９はスリーブ４．に設け
た歯車１０と噛み合っている。
スプライン軸５の先端に設けた球面状の凹部５ａに半球
体１１が摺動自在に係合している。半球体１１に抑圧板
１２が固着され、抑圧板１２には枠１３が設けられてい
る。枠１３に設けられたピン１４は、スプライン軸５の
先端部に設けた溝１５に係合している。
体１１が摺動自在に係合している。半球体１１に抑圧板
１２が固着され、抑圧板１２には枠１３が設けられてい
る。枠１３に設けられたピン１４は、スプライン軸５の
先端部に設けた溝１５に係合している。
スプライン軸５と枠１３との間に設けられた圧縮ばね１
６は半球体１１をスプライン軸５に押し付けるように作
用し、スリーブ軸５が上昇したときに半球体１１が落下
するのを防止している。
６は半球体１１をスプライン軸５に押し付けるように作
用し、スリーブ軸５が上昇したときに半球体１１が落下
するのを防止している。
押圧板１２に設けられた導通孔１７及び半球体１１と押
圧板１２の間に設けられた導通孔１８は、管１９を介し
て真空ポンプ（図示省略）に連通され、被加工物である
磁気テスクの素材２０を押圧板１２に真空吸着するだめ
のものである。まだ素材加の位置を決めるために押圧板
１２にリング２１が固設されている。
圧板１２の間に設けられた導通孔１８は、管１９を介し
て真空ポンプ（図示省略）に連通され、被加工物である
磁気テスクの素材２０を押圧板１２に真空吸着するだめ
のものである。まだ素材加の位置を決めるために押圧板
１２にリング２１が固設されている。
この平面研摩装置で素材２０の表面を研摩するには、エ
アシリンダ６を作動させて抑圧板１２を上昇させ、素材
２０を押圧板１２の下面のリング２１の内側に真空吸着
させる。次にモータ８により回転させながら抑圧板１２
をエアシリンダ６により下降させ、素材２０を円盤１の
研摩面２２に押し付ける。捷だ図には示してないが研摩
面２２には、研摩液が散布されている。従って素材２０
の下面は、自からの回転及び円＃１の回転による摺動で
研摩される。
アシリンダ６を作動させて抑圧板１２を上昇させ、素材
２０を押圧板１２の下面のリング２１の内側に真空吸着
させる。次にモータ８により回転させながら抑圧板１２
をエアシリンダ６により下降させ、素材２０を円盤１の
研摩面２２に押し付ける。捷だ図には示してないが研摩
面２２には、研摩液が散布されている。従って素材２０
の下面は、自からの回転及び円＃１の回転による摺動で
研摩される。
円盤１の研摩面２２は、平面になるように加工されてい
るが、実際には僅かであるかうねシが残されている場合
が多い。従って、素材２０を研摩面２２に常に密着させ
て滑らかに研摩するには、素材２０及び押圧板１２を研
摩面２２のうねシに従って多少傾くことができるように
する必要がある。この傾きは、半球体１１のスプライン
軸５０球状の凹部５ａとの摺動で得られ、しかも半球体
１１０球面の中心Ｃが素材２０の下面に位置するように
設定されているので素材２０は中心Ｃを中心として傾き
、傾いても素材２０の下面の位置は変化せずに研摩する
ことができる。
るが、実際には僅かであるかうねシが残されている場合
が多い。従って、素材２０を研摩面２２に常に密着させ
て滑らかに研摩するには、素材２０及び押圧板１２を研
摩面２２のうねシに従って多少傾くことができるように
する必要がある。この傾きは、半球体１１のスプライン
軸５０球状の凹部５ａとの摺動で得られ、しかも半球体
１１０球面の中心Ｃが素材２０の下面に位置するように
設定されているので素材２０は中心Ｃを中心として傾き
、傾いても素材２０の下面の位置は変化せずに研摩する
ことができる。
なお管１９は弾性を有し半球体１１の多少の傾きは吸収
できる。また半球体１１がスプライン軸５に対し摺動す
るため、ピン１４．と溝１５の係合により押圧板１２及
び素材２０−１てモータ８による回転が伝わるようにし
ている。
できる。また半球体１１がスプライン軸５に対し摺動す
るため、ピン１４．と溝１５の係合により押圧板１２及
び素材２０−１てモータ８による回転が伝わるようにし
ている。
しかし、エアシリンダ６により素材２０を研摩面２２に
押し付ける力によりスプライン軸５と半球体１１との摺
動には大きな摩擦力が働くこと、及び半球体１１ 、押
圧板１２の傾き運動をする部分、の重量すなわち慣性が
大きくなるため、抑圧板１２が研摩面２２のうねりに追
従して傾むくことができず、円滑に研摩することができ
ない場合があるという欠点があった。またスプライン軸
５及び半球体１１の球面を高精度に清めらかに加工する
のが困難であるという欠点もあった。
押し付ける力によりスプライン軸５と半球体１１との摺
動には大きな摩擦力が働くこと、及び半球体１１ 、押
圧板１２の傾き運動をする部分、の重量すなわち慣性が
大きくなるため、抑圧板１２が研摩面２２のうねりに追
従して傾むくことができず、円滑に研摩することができ
ない場合があるという欠点があった。またスプライン軸
５及び半球体１１の球面を高精度に清めらかに加工する
のが困難であるという欠点もあった。
本発明の目的は、上記欠点を除去し、被加工物の頌きの
研摩面のうねりに対する追従性がよく円滑に被加工物を
研摩することが可能な平面研摩装置の被加工物保持機構
を提供することにある。
研摩面のうねりに対する追従性がよく円滑に被加工物を
研摩することが可能な平面研摩装置の被加工物保持機構
を提供することにある。
本発明の他の目的は、球面の加工を必要とせず、容易に
製作することができる平面研摩装置の被加工物保持機構
を提供することにある。
製作することができる平面研摩装置の被加工物保持機構
を提供することにある。
本発明は、平面研摩装置の研摩面上の被加工物を保持す
る保持部と、姿勢を一定に保って設けられた支持部と、
一端が該支持部に傾動自在に連結され他端が前記保持部
に傾動自在に連結され軸心延長が前記被加工物の被加工
面上の一点を通りかつ一平面上に位置しないように設け
られた３本のリンクと、前記保持部と前記支持部とを、
相互に係合させこれらが相対的に回転するのを阻止する
係合手段とを有することを特徴とする平面研摩装置の被
加工物保持機構である。
る保持部と、姿勢を一定に保って設けられた支持部と、
一端が該支持部に傾動自在に連結され他端が前記保持部
に傾動自在に連結され軸心延長が前記被加工物の被加工
面上の一点を通りかつ一平面上に位置しないように設け
られた３本のリンクと、前記保持部と前記支持部とを、
相互に係合させこれらが相対的に回転するのを阻止する
係合手段とを有することを特徴とする平面研摩装置の被
加工物保持機構である。
次に本発明の実施例について図面を参照して説明する。
第１図は本発明の一実施例の縦断面図、第２図は第１図
に示すＡＡ′断面図である。円盤１、軸２、フしノーム
３、スＩＪ −フ４ 、エアシリンダ６、レバー７、モ
ータ８、歯車９．ｌＯば、第３図に示すものと同じであ
る。スプライン軸３１は、軸方向に摺動自在に軸回りに
一体となって回転するようにスリーブ４に取り付けられ
ている。押圧板３４はリンク３３によってスプライン軸
３１の下端に設けられたフランジ３２す々わち支持部に
連結している。抑圧板３４に設けた導通孔３５は管１９
を介して真空ポンプ（図示省略）に連通され、素材２０
を押圧板３４に吸着するだめのものである。また素材２
ｏの位置を決めるため押圧板３４にリンク２１が固設さ
れている。
に示すＡＡ′断面図である。円盤１、軸２、フしノーム
３、スＩＪ −フ４ 、エアシリンダ６、レバー７、モ
ータ８、歯車９．ｌＯば、第３図に示すものと同じであ
る。スプライン軸３１は、軸方向に摺動自在に軸回りに
一体となって回転するようにスリーブ４に取り付けられ
ている。押圧板３４はリンク３３によってスプライン軸
３１の下端に設けられたフランジ３２す々わち支持部に
連結している。抑圧板３４に設けた導通孔３５は管１９
を介して真空ポンプ（図示省略）に連通され、素材２０
を押圧板３４に吸着するだめのものである。また素材２
ｏの位置を決めるため押圧板３４にリンク２１が固設さ
れている。
リンク３３．３３．３３は３本からなりそれぞれのリン
ク３３が球面からなる一端３６でフランジ３２に取り付
けられ、フランジ３２に傾動自在に連結される。
ク３３が球面からなる一端３６でフランジ３２に取り付
けられ、フランジ３２に傾動自在に連結される。
またそれぞれリンク３３は、同様に球面からなる他端３
７で押圧板３４・に取シ付けられ、押圧板３４て傾動自
在に連結される。３本のリンク３３の軸心ａは素材２０
の被加工面上の点である中心Ｃを通シがっ３本のリンク
３３の軸心ａが一平面上にないように配設されている。
７で押圧板３４・に取シ付けられ、押圧板３４て傾動自
在に連結される。３本のリンク３３の軸心ａは素材２０
の被加工面上の点である中心Ｃを通シがっ３本のリンク
３３の軸心ａが一平面上にないように配設されている。
従ってリンク３３によってリモートセンターコンプライ
アンス（Ｒａｎｏｔｅ Ｃｅｎｔｅｒ Ｃｃｒｒｐｌｉ
ａｎｃｅ）の機構が構成され、フランジ３２を固定すれ
ば、押圧板３４及び素材２０は微小な範囲内で中心Ｃを
中心として傾く。すなわち微小範囲ではリンク３３が一
端３６を中心として傾くだめ、他端３７は軸心と直角な
平面上で変位する。他端３７が軸心と直角な平面上で微
小変位することがら、他端３７と係合する抑圧板３４の
回転運動の中心は軸心ａ上にあるはずということになる
。この条件が３本のリンク３３にっいて生じることから
、軸心ａの交点である中心Ｃを中心として押圧板３４は
傾くこととなる。
アンス（Ｒａｎｏｔｅ Ｃｅｎｔｅｒ Ｃｃｒｒｐｌｉ
ａｎｃｅ）の機構が構成され、フランジ３２を固定すれ
ば、押圧板３４及び素材２０は微小な範囲内で中心Ｃを
中心として傾く。すなわち微小範囲ではリンク３３が一
端３６を中心として傾くだめ、他端３７は軸心と直角な
平面上で変位する。他端３７が軸心と直角な平面上で微
小変位することがら、他端３７と係合する抑圧板３４の
回転運動の中心は軸心ａ上にあるはずということになる
。この条件が３本のリンク３３にっいて生じることから
、軸心ａの交点である中心Ｃを中心として押圧板３４は
傾くこととなる。
なお、フランジ３２、リンク３３、押圧板３４からなる
機構は、フランジ３２を固定しても押圧板３４は任意の
位置に傾き得るため位置が不定となるが、エアシリンダ
６によって素材２ｏが研摩面に押し付けられ素材２０及
び押圧板３４の傾きが定ま九ば、これに伴ない抑圧板３
４の位置も定まる。ただし、上記機構のみでは、抑圧板
３４の研摩面と直角な方向を軸とする回転を許すことと
なる。そこでフランジ３２に設けた縦方向の溝４１に抑
圧板３４に設けたピン４２を係合させて抑圧板３４の回
転を阻止している。
機構は、フランジ３２を固定しても押圧板３４は任意の
位置に傾き得るため位置が不定となるが、エアシリンダ
６によって素材２ｏが研摩面に押し付けられ素材２０及
び押圧板３４の傾きが定ま九ば、これに伴ない抑圧板３
４の位置も定まる。ただし、上記機構のみでは、抑圧板
３４の研摩面と直角な方向を軸とする回転を許すことと
なる。そこでフランジ３２に設けた縦方向の溝４１に抑
圧板３４に設けたピン４２を係合させて抑圧板３４の回
転を阻止している。
素材２０を研摩面２２に押し付けて研摩するときに、研
摩面２２のうねりに従って押圧板３４及び素材２ｏは中
心Ｃを中心として傾き、傾きによる素材側の被加工面の
位置ずれが生じず清めらかに研摩することができる。
摩面２２のうねりに従って押圧板３４及び素材２ｏは中
心Ｃを中心として傾き、傾きによる素材側の被加工面の
位置ずれが生じず清めらかに研摩することができる。
また第３図に示す従来の平面研摩装置の被加工物保持機
構では、エアシリンダ６による素材２ｏを研摩面２２に
押し付けるための力を伝達するために、半球体１１とス
プライン軸５との間に発生する摩擦力によシ半球体１１
、押圧板１２及び素材２ｏを傾けるのに要するトルク
が非常に大きくなるのに対し、第１図に示す本発明の平
面研摩装置の被加工物保持機構てば、リンク３３の一端
３６及び他端３７の球面により摩擦力を小さくできるた
め、押圧板３４及び素イ２２０を傾けるのに要するｌ・
ルクを小さくすることができる。
構では、エアシリンダ６による素材２ｏを研摩面２２に
押し付けるための力を伝達するために、半球体１１とス
プライン軸５との間に発生する摩擦力によシ半球体１１
、押圧板１２及び素材２ｏを傾けるのに要するトルク
が非常に大きくなるのに対し、第１図に示す本発明の平
面研摩装置の被加工物保持機構てば、リンク３３の一端
３６及び他端３７の球面により摩擦力を小さくできるた
め、押圧板３４及び素イ２２０を傾けるのに要するｌ・
ルクを小さくすることができる。
また従来の平面研摩装置の被加工物保持機構の半球体１
１及びスプライン軸５の球面の加工が困難であるのに対
し、第１図に示す平面研摩装置の被加工物保持機構にお
けるリンク３３の一端３６及び他端３７は、球面を有す
る構造であるが市販の球面継手又は自動調心の玉軸受等
を利用して容易に得ることができる。さらにリンク３３
の中間部分は剛体とし、一端３６及び他端３７のみをゴ
ム又はコイルばね等の弾性体としてリンク３３がフラン
ジ３２及び抑圧板３４に対し任意に傾き得るようにする
こともできる。
１及びスプライン軸５の球面の加工が困難であるのに対
し、第１図に示す平面研摩装置の被加工物保持機構にお
けるリンク３３の一端３６及び他端３７は、球面を有す
る構造であるが市販の球面継手又は自動調心の玉軸受等
を利用して容易に得ることができる。さらにリンク３３
の中間部分は剛体とし、一端３６及び他端３７のみをゴ
ム又はコイルばね等の弾性体としてリンク３３がフラン
ジ３２及び抑圧板３４に対し任意に傾き得るようにする
こともできる。
なお本発明は、第１図における円盤ｌが固定してあって
フレーム３とともに押圧板３４等が軸２を中心として旋
回するよう力平面研摩装置にも適用できる。
フレーム３とともに押圧板３４等が軸２を中心として旋
回するよう力平面研摩装置にも適用できる。
本発明の平面器、摩装置の被加工物保持機構は、以上説
明したように、保持部と支持部の間に半球体を設ける代
わりに、この保持部及び支持部に傾き自在に連結し軸心
の延長が被加工物の被加工面上の一点を通るリンクを設
けることにより、支持部と半球体との間の摩擦をなくし
、壕だ半球体による大きな慣性をなくすことができ、研
摩面のうねりに対する被加工物の追従性がよく円滑に被
加工物を研摩できる。寸だ支持部及び半球体の球面の加
工を必要とせず、容易に製作できる効果を有する。
明したように、保持部と支持部の間に半球体を設ける代
わりに、この保持部及び支持部に傾き自在に連結し軸心
の延長が被加工物の被加工面上の一点を通るリンクを設
けることにより、支持部と半球体との間の摩擦をなくし
、壕だ半球体による大きな慣性をなくすことができ、研
摩面のうねりに対する被加工物の追従性がよく円滑に被
加工物を研摩できる。寸だ支持部及び半球体の球面の加
工を必要とせず、容易に製作できる効果を有する。
第１図は本発明の一実施例の縦断面図、第２図は第１図
に示すＡ Ａｌ断面図、第３図は従来装置の一例を示す
縦断面図である。 １ 円１１．３トスプライン軸、１１・・半球体、３
４押圧板、４２ ピン、４１・溝、２０・・素材、３
２・・・フランジ、３３ リンク。
に示すＡ Ａｌ断面図、第３図は従来装置の一例を示す
縦断面図である。 １ 円１１．３トスプライン軸、１１・・半球体、３
４押圧板、４２ ピン、４１・溝、２０・・素材、３
２・・・フランジ、３３ リンク。
Claims (1)
- （１）平面研摩装置の研摩面上の被加工物を保持する保
持部と、姿勢を一定に保つて設けられた支持部と、一端
が該支持部に傾動自在に連結され他端が前記保持部に傾
動自在に連結され軸心延長が前記被加工物の被加工面上
の一点を通りかつ一平面上に位置しないように設けられ
た３本のリンクと、前記保持部と前記支持部とを相互に
係合させこれらが相対的に回転するのを阻止する係合手
段とを有することを特徴とする平面研摩装置の被加工物
保持機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59121458A JPS614661A (ja) | 1984-06-13 | 1984-06-13 | 平面研摩装置の被加工物保持機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59121458A JPS614661A (ja) | 1984-06-13 | 1984-06-13 | 平面研摩装置の被加工物保持機構 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS614661A true JPS614661A (ja) | 1986-01-10 |
Family
ID=14811630
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59121458A Pending JPS614661A (ja) | 1984-06-13 | 1984-06-13 | 平面研摩装置の被加工物保持機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS614661A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5476414A (en) * | 1992-09-24 | 1995-12-19 | Ebara Corporation | Polishing apparatus |
| US5791973A (en) * | 1995-04-10 | 1998-08-11 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Apparatus for holding substrate to be polished and apparatus and method for polishing substrate |
| USRE38878E1 (en) | 1992-09-24 | 2005-11-15 | Ebara Corporation | Polishing apparatus |
-
1984
- 1984-06-13 JP JP59121458A patent/JPS614661A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5476414A (en) * | 1992-09-24 | 1995-12-19 | Ebara Corporation | Polishing apparatus |
| USRE38878E1 (en) | 1992-09-24 | 2005-11-15 | Ebara Corporation | Polishing apparatus |
| US5791973A (en) * | 1995-04-10 | 1998-08-11 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Apparatus for holding substrate to be polished and apparatus and method for polishing substrate |
| US5921853A (en) * | 1995-04-10 | 1999-07-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Apparatus for polishing substrate using resin film or multilayer polishing pad |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6125768A (ja) | 平面研摩装置の被加工物保持機構 | |
| TWI537099B (zh) | 用於修整研磨墊之裝置，化學機械研磨裝置及方法 | |
| US5291692A (en) | Polishing work holder | |
| KR100281721B1 (ko) | 연마기주축대 | |
| JPH07223158A (ja) | フローティング装置 | |
| JP3630958B2 (ja) | レンズ保持装置 | |
| JPH0317622B2 (ja) | ||
| JPS614661A (ja) | 平面研摩装置の被加工物保持機構 | |
| JPS614662A (ja) | 平面研摩装置の被加工物保持機構 | |
| KR101526309B1 (ko) | 렌즈가공장치 | |
| JP2886205B2 (ja) | 研摩用ワークホルダー | |
| JP2715379B2 (ja) | 研摩用ワークホルダー | |
| JP2000094309A (ja) | ポリッシング装置 | |
| JPH02256452A (ja) | ローラセグメントの保持方法および保持装置 | |
| JPS6125767A (ja) | 平面研摩装置の被加工物保持機構 | |
| JP2938593B2 (ja) | 研磨工具保持装置および該研磨工具保持装置を備えた研磨ヘッド | |
| JPS60228060A (ja) | 平面研摩装置の被加工物保持機構 | |
| JP2599918B2 (ja) | 研磨保持装置 | |
| JP3890188B2 (ja) | 研磨装置 | |
| JPS6119566A (ja) | リモ−トセンタ−コンプライアンス機構 | |
| JPH0431820B2 (ja) | ||
| JP6513236B2 (ja) | 部品の製造方法および研磨装置 | |
| JPH10128656A (ja) | 研磨装置の加工ヘッド | |
| JPH03178725A (ja) | フローティングホルダ | |
| JPS6237627Y2 (ja) |