JPS6145630B2 - - Google Patents
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- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 30
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 28
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000003831 tetrazolyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000001113 thiadiazolyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- -1 isobutyryl Chemical group 0.000 description 205
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 68
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 48
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 45
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 31
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 31
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 26
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 21
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 17
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 15
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 14
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 11
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical class CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 10
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 9
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 9
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 8
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 8
- WLJVXDMOQOGPHL-UHFFFAOYSA-N phenylacetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=CC=C1 WLJVXDMOQOGPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 7
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 7
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 7
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 7
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 7
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 7
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 6
- NRNOFFFWOYJUCR-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyimino-2-phenylacetic acid Chemical compound ON=C(C(O)=O)C1=CC=CC=C1 NRNOFFFWOYJUCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001243 acetic acids Chemical class 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 5
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 5
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 5
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 5
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 5
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 description 4
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 4
- SIOVKLKJSOKLIF-UHFFFAOYSA-N bis(trimethylsilyl)acetamide Chemical compound C[Si](C)(C)OC(C)=N[Si](C)(C)C SIOVKLKJSOKLIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 159000000007 calcium salts Chemical class 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- 159000000003 magnesium salts Chemical class 0.000 description 4
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 4
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 4
- 229960003424 phenylacetic acid Drugs 0.000 description 4
- 239000003279 phenylacetic acid Substances 0.000 description 4
- XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N phosphoryl trichloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)=O XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 4
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DBUFYVWQUUGFAO-UHFFFAOYSA-N 2-acetyloxyimino-2-phenylacetic acid Chemical compound CC(=O)ON=C(C(O)=O)C1=CC=CC=C1 DBUFYVWQUUGFAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N N-Methylmorpholine Chemical compound CN1CCOCC1 SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 3
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 3
- 125000003435 aroyl group Chemical group 0.000 description 3
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUTQHTOXGKVJPN-XCGJVMPOSA-N (6r)-7-amino-3-[(1-methyltetrazol-5-yl)sulfanylmethyl]-8-oxo-5-thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-2-ene-2-carboxylic acid Chemical compound CN1N=NN=C1SCC1=C(C(O)=O)N2C(=O)C(N)[C@H]2SC1 XUTQHTOXGKVJPN-XCGJVMPOSA-N 0.000 description 2
- ASOKPJOREAFHNY-UHFFFAOYSA-N 1-Hydroxybenzotriazole Chemical class C1=CC=C2N(O)N=NC2=C1 ASOKPJOREAFHNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UTQNKKSJPHTPBS-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trichloroethanone Chemical group ClC(Cl)(Cl)[C]=O UTQNKKSJPHTPBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OTTXCOAOKOEENK-UHFFFAOYSA-N 2,2-difluoroethenone Chemical group FC(F)=C=O OTTXCOAOKOEENK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YQTCQNIPQMJNTI-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropan-1-one Chemical group CC(C)(C)[C]=O YQTCQNIPQMJNTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OXQGTIUCKGYOAA-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylbutanoic acid Chemical compound CCC(CC)C(O)=O OXQGTIUCKGYOAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000242 4-chlorobenzoyl group Chemical group ClC1=CC=C(C(=O)*)C=C1 0.000 description 2
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical group CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBPCUCUWBYBCDP-UHFFFAOYSA-N Dicyclohexylamine Chemical class C1CCCCC1NC1CCCCC1 XBPCUCUWBYBCDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N acetyl chloride Chemical compound CC(Cl)=O WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 description 2
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000005236 alkanoylamino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005115 alkyl carbamoyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000637 arginyl group Chemical class N[C@@H](CCCNC(N)=N)C(=O)* 0.000 description 2
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 2
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001584 benzyloxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC1=CC=CC=C1)* 0.000 description 2
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- 125000002668 chloroacetyl group Chemical group ClCC(=O)* 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NKLCHDQGUHMCGL-UHFFFAOYSA-N cyclohexylidenemethanone Chemical group O=C=C1CCCCC1 NKLCHDQGUHMCGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 2
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 2
- HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N furfural Chemical compound O=CC1=CC=CO1 HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- 125000003104 hexanoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000005935 hexyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005929 isobutyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000005928 isopropyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(OC(*)=O)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 2
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTSLXHKWHWQRSH-UHFFFAOYSA-N oxalyl chloride Chemical compound ClC(=O)C(Cl)=O CTSLXHKWHWQRSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 125000003232 p-nitrobenzoyl group Chemical group [N+](=O)([O-])C1=CC=C(C(=O)*)C=C1 0.000 description 2
- DTUQWGWMVIHBKE-UHFFFAOYSA-N phenylacetaldehyde Chemical compound O=CCC1=CC=CC=C1 DTUQWGWMVIHBKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UYWQUFXKFGHYNT-UHFFFAOYSA-N phenylmethyl ester of formic acid Natural products O=COCC1=CC=CC=C1 UYWQUFXKFGHYNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentachloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)(Cl)Cl UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000137 polyphosphoric acid Polymers 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N salicylaldehyde Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=O SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,7-diazaspiro[4.5]decane-7-carboxylate Chemical compound C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCCC11CNCC1 ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RUPAXCPQAAOIPB-UHFFFAOYSA-N tert-butyl formate Chemical group CC(C)(C)OC=O RUPAXCPQAAOIPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005425 toluyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004044 trifluoroacetyl group Chemical group FC(C(=O)*)(F)F 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003774 valeryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- IKWLIQXIPRUIDU-ZCFIWIBFSA-N (6r)-8-oxo-5-thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-2-ene-2-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CCS[C@@H]2CC(=O)N12 IKWLIQXIPRUIDU-ZCFIWIBFSA-N 0.000 description 1
- WOGITNXCNOTRLK-VOTSOKGWSA-N (e)-3-phenylprop-2-enoyl chloride Chemical compound ClC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WOGITNXCNOTRLK-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- 125000004514 1,2,4-thiadiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004517 1,2,5-thiadiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMDZBCPBFSXMTL-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-3-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide Chemical compound CCN=C=NCCCN(C)C LMDZBCPBFSXMTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006039 1-hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- SNUSZUYTMHKCPM-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxypyridin-2-one Chemical compound ON1C=CC=CC1=O SNUSZUYTMHKCPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZMPYXSXCKDDRB-UHFFFAOYSA-N 2-(2,2-dichloroacetyl)oxyimino-2-phenylacetic acid Chemical compound ClC(Cl)C(=O)ON=C(C(=O)O)C1=CC=CC=C1 CZMPYXSXCKDDRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 1
- ODXCMWLJDMOSSL-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-1,2-benzoxazol-2-ium Chemical class C1=CC=C2O[N+](CC)=CC2=C1 ODXCMWLJDMOSSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTCCNERMXRIPTR-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-naphthaldehyde Chemical compound C1=CC=CC2=C(C=O)C(O)=CC=C21 NTCCNERMXRIPTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006024 2-pentenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- SDXAWLJRERMRKF-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethyl-1h-pyrazole Chemical compound CC=1C=C(C)NN=1 SDXAWLJRERMRKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWOOKDULMBMMPN-UHFFFAOYSA-N 3-(2-ethyl-1,2-oxazol-2-ium-5-yl)benzenesulfonate Chemical compound O1[N+](CC)=CC=C1C1=CC=CC(S([O-])(=O)=O)=C1 MWOOKDULMBMMPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRWILAKSARHZPR-UHFFFAOYSA-N 3-chlorobenzaldehyde Chemical compound ClC1=CC=CC(C=O)=C1 SRWILAKSARHZPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGHRJJRRZDOVPD-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutanal Chemical compound CC(C)CC=O YGHRJJRRZDOVPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGIJSFNBEUBMGB-UHFFFAOYSA-N 4-(cyclohexyliminomethylideneamino)-n,n-diethylcyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N(CC)CC)CCC1N=C=NC1CCCCC1 IGIJSFNBEUBMGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXYNZSATHOXXBJ-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxyisoindole-1,3-dione Chemical compound OC1=CC=CC2=C1C(=O)NC2=O XXYNZSATHOXXBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXRFQSNOROATLV-UHFFFAOYSA-N 4-nitrobenzaldehyde Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C(C=O)C=C1 BXRFQSNOROATLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZCYLJGNWDVJRA-UHFFFAOYSA-N 6-chloro-1-hydroxybenzotriazole Chemical compound C1=C(Cl)C=C2N(O)N=NC2=C1 TZCYLJGNWDVJRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001817 Agar Polymers 0.000 description 1
- 241001120493 Arene Species 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- 239000005973 Carvone Substances 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDFFVHSMHLDSLO-UHFFFAOYSA-N Dibenzyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1COP(=O)(O)OCC1=CC=CC=C1 HDFFVHSMHLDSLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N Dicylcohexylcarbodiimide Chemical compound C1CCCCC1N=C=NC1CCCCC1 QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASMQGLCHMVWBQR-UHFFFAOYSA-N Diphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(=O)(O)OC1=CC=CC=C1 ASMQGLCHMVWBQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQTADLQHYWFPDB-UHFFFAOYSA-N N-Hydroxysuccinimide Chemical compound ON1C(=O)CCC1=O NQTADLQHYWFPDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNPOFXIBHOVFFH-UHFFFAOYSA-N N-cyclohexyl-N'-(2-(4-morpholinyl)ethyl)carbodiimide Chemical compound C1CCCCC1N=C=NCCN1CCOCC1 XNPOFXIBHOVFFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000577218 Phenes Species 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005076 adamantyloxycarbonyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)OC(=O)* 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000008272 agar Substances 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000005098 aryl alkoxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005116 aryl carbamoyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical class OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N benzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1 PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical compound BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002775 capsule Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- QQVDYSUDFZZPSU-UHFFFAOYSA-M chloromethylidene(dimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)=CCl QQVDYSUDFZZPSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 235000008504 concentrate Nutrition 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 238000003113 dilution method Methods 0.000 description 1
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002552 dosage form Substances 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 239000003937 drug carrier Substances 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- ZCRZCMUDOWDGOB-UHFFFAOYSA-N ethanesulfonimidic acid Chemical group CCS(N)(=O)=O ZCRZCMUDOWDGOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002024 ethyl acetate extract Substances 0.000 description 1
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- CNUDBTRUORMMPA-UHFFFAOYSA-N formylthiophene Chemical compound O=CC1=CC=CS1 CNUDBTRUORMMPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004993 haloalkoxycarbonyl group Chemical class 0.000 description 1
- 125000004996 haloaryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- MSYBLBLAMDYKKZ-UHFFFAOYSA-N hydron;pyridine-3-carbonyl chloride;chloride Chemical compound Cl.ClC(=O)C1=CC=CN=C1 MSYBLBLAMDYKKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000338 in vitro Methods 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000001261 isocyanato group Chemical group *N=C=O 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001810 isothiocyanato group Chemical group *N=C=S 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid Chemical compound CC(C)CC(O)=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000400 lauroyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002688 maleic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- HNQIVZYLYMDVSB-UHFFFAOYSA-N methanesulfonimidic acid Chemical group CS(N)(=O)=O HNQIVZYLYMDVSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 125000002911 monocyclic heterocycle group Chemical group 0.000 description 1
- JVHPKYBRJQNPAT-UHFFFAOYSA-N n-cyclohexyl-2,2-diphenylethenimine Chemical compound C1CCCCC1N=C=C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 JVHPKYBRJQNPAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001038 naphthoyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C(=O)* 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 description 1
- 125000001715 oxadiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005740 oxycarbonyl group Chemical group [*:1]OC([*:2])=O 0.000 description 1
- 125000001312 palmitoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007911 parenteral administration Methods 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 125000001148 pentyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000008194 pharmaceutical composition Substances 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical class [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000006678 phenoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N phenyl phosphate Chemical compound OP(O)(=O)OC1=CC=CC=C1 CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940100595 phenylacetaldehyde Drugs 0.000 description 1
- 125000000405 phenylalanyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 1
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N phosphorus trichloride Chemical compound ClP(Cl)Cl FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUGYQRQAERSCNH-UHFFFAOYSA-N pivalic acid Chemical compound CC(C)(C)C(O)=O IUGYQRQAERSCNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940086066 potassium hydrogencarbonate Drugs 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- QLNJFJADRCOGBJ-UHFFFAOYSA-N propionamide Chemical group CCC(N)=O QLNJFJADRCOGBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940080818 propionamide Drugs 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005554 pyridyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003696 stearoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003459 sulfonic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-N sulfurothioic S-acid Chemical compound OS(O)(=O)=S DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000829 suppository Substances 0.000 description 1
- 239000006188 syrup Substances 0.000 description 1
- 235000020357 syrup Nutrition 0.000 description 1
- NYBWUHOMYZZKOR-UHFFFAOYSA-N tes-adt Chemical class C1=C2C(C#C[Si](CC)(CC)CC)=C(C=C3C(SC=C3)=C3)C3=C(C#C[Si](CC)(CC)CC)C2=CC2=C1SC=C2 NYBWUHOMYZZKOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003536 tetrazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004149 thio group Chemical group *S* 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-M toluenesulfonate group Chemical group C=1(C(=CC=CC1)S(=O)(=O)[O-])C LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002088 tosyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1C([H])([H])[H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 125000005270 trialkylamine group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/30—Against vector-borne diseases, e.g. mosquito-borne, fly-borne, tick-borne or waterborne diseases whose impact is exacerbated by climate change
Landscapes
- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
この発明は抗菌性物質として有用な一般式
(式中、R1は水素原子またはアシル基を、R2はチ
アジアゾリル基、アルキル基で置換されたまたは
置換されないテトラゾリル基をそれぞれ意味す
る)で示される新規な7−置換アセトアミド−3
−置換チオメチル−3−セフエム−4−カルボン
酸およびその塩類に関するものである。 この発明で提供される化合物()は、シン
(syn)異性体である。 一般式()中、R1のアシル基としては、例
えばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリ
ル、イソブチリル、バレリル、ピバロイル、ヘキ
サノイル、ラウロイル、パルミトイル、ステアロ
イル等のアルカノイル基、シクロプロパンカルボ
ニル、シクロブタンカルボニル、シクロペンタン
カルボニル、シクロヘキサンカルボニル等のシク
ロアルカンカルボニル基、アクリロイル、クロト
ノイル、2−メチルアクリロイル、ヘキセノイル
等のアルケノイル基、ベンゾイル、トルオイル、
キシロイル、ナフトイル、4−イソプロピルベン
ゾイル等のアロイル基、メトキシカルボニル、エ
トキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、
イソブトキシカルボニル、1・1−ジメチルプロ
ポキシカルボニル、第3級ブトキシカルボニル、
ヘキシルオキシカルボニル、アダマンチルオキシ
カルボニル等のアルコキシカルボニル基、フエノ
キシカルボニル、トリルオキシカルボニル、キシ
リルオキシカルボニル等のアリールオキシカルボ
ニル基、メシル、エタンスルホニル等のアルカン
スルホニル基、ベンゼンスルホニル、トシル等の
アレーンスルホニル基、8−キノリルオキシカル
ボニル、ピリジルオキシカルボニル等の酸素原
子、硫黄原子、窒素原子、その他のヘテロ原子を
1個以上含む飽和もしくは不飽和の単環もしくは
多環の複素環残基を有する複素環オキシカルボニ
ル基、テノイル、フロイル、ニコチノイル、イソ
ニコチノイル等の酸素原子、硫黄原子、窒素原
子、その他のヘテロ原子を1個以上含む、飽和も
しくは不飽和の、単環もしくは多環の複素環残基
を有する複素環カルボニル基、フエニルカルバモ
イル、トリルカルバモイル等のアリールカルバモ
イル基、メチルカルバモイル、エチルカルバモイ
ル、ヘキシルカルバモイル等のアルキルカルバモ
イル基、メチルチオカルバモイル、エチルチオカ
ルバモイル等のアルキルチオカルバモイル基、フ
エニルチオカルバモイル、トリルチオカルバモイ
ル等のアリールチオカルバモイル基等が挙げら
れ、これらのアシル基は、その任意の位置にフエ
ニル、トリル、キシリル等のアリール基、前記の
アロイル基、クロル、フルオル、ブロム等のハロ
ゲン、シアノ基、シクロプロピル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル等のシクロアルキル基、メト
キシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチ
ルオキシ、ヘキシルオキシ等のアルコキシ基、メ
チルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロ
ピルチオ、ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキシル
チオ等のアルキルチオ基、前記のアルコキシカル
ボニル基、アミノ基、ヒドロキシ基、アセトキ
シ、プロピオニルオキシ等のアルカノイルオキシ
基、フエノキシ、トリルオキシ、キシリルオキシ
等のアリールオキシ基、フエニルチオ、トリルチ
オ、キシリルチオ等のアリールチオ基、チエニ
ル、チアジアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、
オキサジアゾリル、ベンゾチアゾロン−3−イル
等の複素環式基、ピリジルオキシ、チアジアゾリ
ルチオ等の複素環オキシもしくは複素環チオ基、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル等のアルキル基、ニトロ
基、フエニルアゾ基、メシル、エタンスルホニル
等のアルカンスルホニル基、メタンスルホンアミ
ド、エタンスルホンアミド等のアルカンスルホン
アミド基、アセトアミド、プロピオンアミド等の
アルカノイルアミノ基等の置換分を1個以上有し
ていてもよく、置換分が2個以上の場合にはそれ
らの置換分は同一でもよく、互いに異なつていて
もよいものとする。上記の置換分のうち、アリー
ル基、アリールオキシ基、アリールチオ基および
複素環式基は、さらに上記で例示したようなアル
コキシ基、ハロゲン、アルキル基、ニトロ基等を
その任意の位置に1個以上有していてもよい。 上記の置換分を有するアシル基としては、例え
ばフエニルグリオキシロイルのようなアロイルア
ルカノイル基、クロロアセチル、ジクロロアセチ
ル、ジフルオロアセチル、トリフルオロアセチ
ル、クロロプロピオニル、クロロブチリル、クロ
ロバレリル、トリクロロアセチル、ブロモヘキサ
ノイル等のハロアルカノイル基、シアノアセチ
ル、シアノプロピオニル等のシアノアルカノイル
基、シクロプロピルアセチル、シクロヘキシルア
セチル等のシクロアルキルアルカノイル基、メト
キシアセチル、エトキシアセチル等のアルコキシ
アルカノイル基、メチルチオアセチル、エチルチ
オプロピオニル、イソプロピルチオアセチル、ヘ
キシルチオヘキサノイル等のアルキルチオアルカ
ノイル基、メトキシカルボニルプロピオニル、エ
トキシカルボニルアセチル、プロポキシカルボニ
ルブチリル、ヘキシルオキシカルボニルヘキサノ
イル等のアルコキシカルボニルアルカノイル基、
フエニルアセチル、トリルアセチル、フエニルプ
ロピオニル、フエニルヘキサノイル等のアリール
アルカノイル基、フエニルグリシル、フエニルア
ラニル等のアリール基およびアミノ基置換アルカ
ノイル基、マンデリルのようなアリール基および
ヒドロキシ基置換アルカノイル基、2−アセトキ
シフエニルアセチルのようなアリール基およびア
ルカノイルオキシ基置換アルカノイル基、フエノ
キシアセチル、3−メトキシフエノキシアセチ
ル、2−ニトロフエノキシアセチル、4−クロロ
フエノキシアセチル、4−ブロモフエノキシプロ
ピオニル、2・5−ジクロロフエノキシアセチ
ル、3−フルオロフエノキシヘキサノイル、2−
ニトロ−4−クロロフエノキシアセチル等のアル
コキシ基、ニトロ基、ハロゲンもしくはニトロ基
およびハロゲン置換または非置換アリールオキシ
アルカノイル基、フエニルチオアセチル、2−ニ
トロフエニルチオアセチル、4−クロロフエニル
チオアセチル等のニトロ基もしくはハロゲン置換
または非置換アリールチオアルカノイル基、チエ
ニルアセチル、チアジアゾリルアセチル、テトラ
ゾリルアセチル、ピリジルアセチル、チエニルプ
ロピオニル、チエニルヘキサノイル、ベンゾチア
ゾロン−3−イルアセチル、オキサジアゾリルア
セチル等の複素環式基置換アルカノイル基、メチ
ルチアジアゾリルアセチルのようなアルキル置換
複素環式基置換アルカノイル基、ピリジルオキシ
アセチルのような複素環オキシアルカノイル基、
チアジアゾリルチオアセチルのような複素環チオ
アルカノイル基、シンナモイル、フエニルヘキセ
ノイルのようなアリールアルケノイル基、4−ニ
トロベンゾイル、4−クロロベンゾイル、3−ブ
ロモベンゾイル、4−メシルベンゾイル、サリチ
ロイル、4−ヒドロキシベンゾイル、2−ヒドロ
キシ−5−クロロベンゾイル、4−メタンスルホ
ンアミドベンゾイル、4−アセトアミドベンゾイ
ル、P−アニソイル、4−ヘキシルオキシベンゾ
イル、4−メトキシカルボニルベンゾイル、4−
エトキシカルボニルベンゾイル、4−シアノベン
ゾイル、3・4・5−トリメトキシベンゾイル、
4−ヘキシルオキシカルボニルベンゾイル等のニ
トロ基、ハロゲン、アルカンスルホニル基、ヒド
ロキシ基、ヒドロキシ基およびハロゲン、アルカ
ンスルホンアミド基、アルカノイルアミノ基、ア
ルコキシ基、アルコキシカルボニル基もしくはシ
アノ基置換アロイル基、トリクロロエトキシカル
ボニル、トリブロモエトキシカルボニル等のハロ
アルコキシカルボニル基、2−ピリジルメトキシ
カルボニルのような複素環式基置換アルコキシカ
ルボニル基、1−シクロプロピルエトキシカルボ
ニルのようなシクロアルキルアルコキシカルボニ
ル基、ベンジルオキシカルボニル、フエネチルオ
キシカルボニル、ジフエニルメトキシカルボニ
ル、フエニルヘキシルオキシカルボニル、2−ブ
ロモベンジルオキシカルボニル、4−ニトロベン
ジルオキシカルボニル、4−クロロベンジルオキ
シカルボニル、4−ブロモベンジルオキシカルボ
ニル、3・4−ジメトキシベンジルオキシカルボ
ニル、4−(フエニルアゾ)ベンジルオキシカル
ボニル、4−メトキシベンジルオキシカルボニル
等のハロゲン、ニトロ基、アルコキシ基もしくは
フエニルアゾ基置換または非置換アリールアルコ
キシカルボニル基、4−クロロフエノキシカルボ
ニルのようなハロアリールオキシカルボニル基、
クロロエチルカルバモイルのようなハロアルキル
カルバモイル基等が挙げられる。 上記したR1のアシル基の好ましい例として
は、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニ
ル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ピバロ
イル、ヘキサノイル等の低級アルカノイル基、シ
クロプロパンカルボニル、シクロブタンカルボニ
ル、シクロペンタンカルボニル、シクロヘキサン
カルボニル等の低級シクロアルカンカルボニル
基、ベンゾイル基、トルオイル、キシロイル、4
−イソプロピルベンゾイル、3−ヘキシルベンゾ
イル等の低級アルキル置換ベンゾイル基、メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポ
キシカルボニル、イソブトキシカルボニル、1・
1−ジメチルプロポキシカルボニル、第3級ブト
キシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘ
キシルオキシカルボニル等の低級アルコキシカル
ボニル基、テノイルのような硫黄原子含有不飽和
単環の複素環カルボニル基、ニコチノイル、イソ
ニコチノイル等の窒素原子含有不飽和単環の複素
環カルボニル基、フエニルカルバモイル基、メチ
ルカルバモイル、エチルカルバモイル、ヘキシル
カルバモイル等の低級アルキルカルバモイル基、
クロロアセチル、ジクロロアセチル、ジフルオロ
アセチル、トリフルオロアセチル、クロロプロピ
オニル、クロロブチリル、クロロバレリル、トリ
クロロアセチル、ブロモヘキサノイル等のハロ低
級アルカノイル基、メチルチオアセチル、エチル
チオプロピオニル、イソプロピルチオアセチル、
ヘキシルチオヘキサノイル等の低級アルキルチオ
低級アルカノイル基、メトキシカルボニルプロピ
オニル、エトキシカルボニルアセチル、プロポキ
シカルボニルブチリル、ヘキシルオキシカルボニ
ルヘキサノイル等の低級アルコキシカルボニル低
級アルカノイル基、フエニルアセチル、フエニル
プロピオニル、フエニルヘキサノイル等のフエニ
ル低級アルカノイル基、4−クロロフエノキシア
セチル、4−ブロモフエノキシプロピオニル、
2・5−ジクロロフエノキシアセチル、3−フル
オロフエノキシヘキサノイル等のハロゲン置換フ
エノキシ低級アルカノイル基、チエニルアセチ
ル、チエニルプロピオニル、チエニルヘキサノイ
ル等の硫黄原子含有不飽和単環の複素環式基置換
低級アルカノイル基、シンナモイル、フエニルヘ
キセノイルのようなフエニル低級アルケノイル
基、4−ニトロベンゾイル、4−クロロベンゾイ
ル、3−ブロモベンゾイル、サリチロイル、4−
ヒドロキシベンゾイル、P−アニソイル、4−ヘ
キシルオキシベンゾイル、4−メトキシカルボニ
ルベンゾイル、4−エトキシカルボニルベンゾイ
ル、3・4・5−トリメトキシベンゾイル、4−
ヘキシルオキシカルボニルベンゾイル等のニトロ
基、ハロゲン、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基
もしくは低級アルコキシカルボニル基置換ベンゾ
イル基、ベンジルオキシカルボニル、フエネチル
オキシカルボニル、ジフエニルメトキシカルボニ
ル、フエニルヘキシルオキシカルボニル等のフエ
ニル低級アルコキシカルボニル基等が挙げられ
る。 前記一般式()で示される化合物は、その
R2として、1・2・4−チアジアゾリル、1・
3・4−チアジアゾリル、1・2・5−チアジア
ゾリル等のチアジアゾリル基、アルキル基好まし
くは前記の低級アルキル基好ましくはビニル、1
−プロペニル、アリル、イソプロペニル、2−ブ
テニル、2−ペンテニル、1−ヘキセニル等の低
級アルケニル基で置換されたまたは置換されない
1H−テトラゾリル、2H−テトラゾリル等のテト
ラゾリル基を有する化合物を意味する。 一般式()で示される化合物の塩類として
は、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属
塩、カルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ
土類金属塩等の無機塩基との塩およびトリエチル
アミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、アルギニ
ン塩等の有機塩機との塩等が挙げられる。 一般式()で示されるこの発明の化合物およ
びその塩類は、一般式 (式中、R2は前と同じ意味) で示される7−アミノ−3−置換チオメチル−3
−セフエム−4−カルボン酸もしくはそのアミノ
基における誘導体またはそれらの塩類に一般式 (式中、R1は前と同じ意味) で示される酢酸類またはその塩類もしくはそのカ
ルボキシ基における反応性誘導体を作用させ、得
られる化合物がR1としてアシル基を有する場合
には、次いでこれを必要に応じてアシル基の脱離
反応に付すことにより製造することができる。 この方法で原料物質として使用する酢酸類
()のうち、例えば2−アセトキシイミノ−2
−フエニル酢酸(シン異性体)は、2−ヒドロキ
シイミノ−2−フエニル酢酸(シン異性体)に酢
酸クロライドを作用させることにより製造するこ
とができ、その他の化合物も同様にして製造する
ことができる。 この発明の化合物()およびその塩類を製造
する反応は7−アミノ−3−置換チオメチル−3
−セフエム−4−カルボン酸()もしくはその
アミノ基における誘導体またはそれらの塩類に酢
酸類()またはその塩類もしくはそのカルボキ
シ基における反応性誘導体を作用させることによ
り行なわれる。 7−アミノ−3−置換チオメチル−3−セフエ
ム−4−カルボン酸は、前記一般式()で示さ
れ、さらに詳細には前記したチアジアゾリル基、
アルキル基で置換されたまたは置換されないテト
ラゾリル基をR2として有する化合物を意味す
る。 これらの7−アミノ−3−置換チオメチル−3
−セフエム−4−カルボン酸()のアミノ基に
おける誘導体としては、そのアミノ基がイソシア
ナト基、イソチオシアナト基になつたもの、およ
びアミノ基とアセトアルデヒド、イソペンタアル
デヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒ
ド、フエニルアセトアルデヒド、P−ニトロベン
ズアルデヒド、m−クロロベンズアルデヒド、P
−クロロベンズアルデヒド、ヒドロキシナフトア
ルデヒド、フルフラール、チオフエンカルボアル
デヒド、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、アセチルアセトン、アセト酢
酸エチルエステル等との反応により生ずる誘導体
になつたもの等が挙げられる。 また化合物()の塩類としては、そのアミノ
基またはカルボキシ基における塩類が挙げられ、
ここでアミノ基における塩類としては、塩酸塩、
硫酸塩等の無機酸との塩、酢酸塩、マレイン酸
塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸
塩等の有機酸との塩等の酸塩が挙げられ、またカ
ルボキシ基における塩類としては、ナトリウム
塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、カルシウム
塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金属塩等の
無機塩基との塩、トリエチルアミン塩、ジシクロ
ヘキシルアミン塩等の有機塩基との塩が挙げられ
る。 前記の一般式()で示される酢酸類はシン
(syn)異性体である。これらの酢酸類()の
塩類としては、ナトリウム塩、カリウム塩等のア
ルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩等
のアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩等の無機
塩基との塩、トリエチルアミン塩のような有機塩
基との塩が挙げられる。 またこれらの酢酸類()のカルボキシ基にお
ける反応性誘導体としては、例えば酸ハライド、
酸無水物、活性アミド、活性エステル等が挙げら
れるが、特に繁用されるものとしては酸クロリ
ド、酸アジド、ジアルキル燐酸混合無水物、フエ
ニル燐酸混合無水物、ジフエニル燐酸混合無水
物、ジベンジル燐酸混合無水物、ハロゲン化燐酸
混合無水物、ジアルキル亜燐酸混合無水物、亜硫
酸混合無水物、チオ硫酸混合無水物、硫酸混合無
水物、アルキル炭酸混合無水物、脂肪酸カルボン
酸(たとえばピバリン酸、ペンタン酸、イソペン
タン酸、2−エチルブタン酸、トリクロル酢酸)
混合無水物、芳香族カルボン酸(たとえば安息香
酸)混合無水物、対称形酸無水物等の酸無水物、
イミダゾール、4−置換イミダゾール、ジメチル
ピラゾール、トリアゾール、テトラゾールなどと
の酸アミド、シアノメチルエステル、メトキシメ
チルエステル、ビニルエステル、ピロパルギルエ
ステル、p−ニトロフエニルエステル、2・4−
ジニトロフエニルエステル、トリクロロフエニル
エステル、ペンタクロロフエニルエステル、メシ
ルフエニルエステル、フエニルアゾフエニルエス
テル、フエニルチオエステル、p−ニトロフエニ
ルチオエステル、p−クレジルチオエステル、カ
ルボキシメチルチオエステル、ピラニルエステ
ル、ピリジルエステル、ピペリジルエステル、8
−キノリルチオエステル、N・N−ジメチルヒド
ロキシルアミン、1−ヒドロキシ−2−(1H)−
ピリドン、N−ヒドロキシサクシンイミド、N−
ヒドロキシフタルイミド、1−ヒドロキシベンゾ
トリアゾール、1−ヒドロキシ−6−クロロベン
ゾトリアゾール等の1−ヒドロキシベンゾトリア
ゾール類とのエステル等のエステル類等が挙げら
れ、これらは使用する酢酸類()の種類に応じ
て適宜選択される。 この反応では、あらかじめ原料化合物()を
クロロトリメチルシラン、ビス(トリメチルシリ
ル)アセトアミド等のシリル化合物と反応させ、
カルボキシ基またはアミノ基およびカルボキシ基
におけるシリル誘導体に導き、ついで酢酸類
()またはその塩類もしくはそのカルボキシ基
における反応性誘導体と反応させてもよい。 この反応は通常、溶媒中で行なわれる。溶媒と
しては水、アセトン、ジオキサン、アセトニトリ
ル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレ
ン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、ジメチル
ホルムアミド、ピリジンまたはその他の反応に悪
影響を及ぼさない一般有機溶媒が挙げられ、これ
らのうち、親水性の溶媒は水と混合して使用する
こともできる。 この反応において酢酸類()を遊離酸もしく
はその塩の状態で使用する際は、たとえばN・
N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド、N−シ
クロヘキシル−N′−モルホリノエチルカルボジ
イミド、N−シクロヘキシル−N′−(4−ジエチ
ルアミノシクロヘキシル)カルボジイミド、N・
N′−ジエチルカルボジイミド、N・N′−ジイソ
プロピルカルボジイミド、N−エチル−N′−(3
−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド、
N・N′−カルボニルビス(2−メチルイミダゾ
ール)、ペンタメチレンケテン−N−シクロヘキ
シルイミン、ジフエニルケテン−N−シクロヘキ
シルイミン、アルコキシアセチレン、1−アルコ
キシ−1−クロロエチレン、1−(4−クロロベ
ンゼンスルホニルオキシ)−6−クロロベンゾト
リアゾールのようなスルホン酸エステル型縮合
剤、亜燐酸トリアルキルエステル、ポリ燐酸エチ
ルエステル、ポリ燐酸イソプロピルエステル、オ
キシ塩化燐、3塩化燐、塩化チオニル、オキサリ
ルクロリド、トリフエニルホスフイン、N−エチ
ルベンズイソキサゾリウム塩、N−エチル−5−
フエニルイソキサゾリウム−3′−スルホナート、
その他(クロロメチレン)ジメチルアンモニウム
クロリドのような雑誌「化学の領域」第19巻第12
号第12〜26頁(1965年)に記載されているような
ビルスマイヤー試薬等の縮合剤の存在下に行なう
のが有利である。 また、この反応は後記の水酸化アルカリ金属、
炭酸水素アルカリ金属、炭酸アルカリ金属、トリ
アルキルアミン、N・N−ジアルキルアニリン、
N・N−ジアルキルベンジルアミン、アルカリ金
属アルコキサイド、ピリジン等の塩基の存在下に
行なつてもよく、塩基もしくは前述の縮合剤のう
ち液体のものは溶媒を兼ねて使用することができ
る。反応温度は特に限定されないが、通常冷却下
ないしは室温で行なわれることが多い。 この反応においては、R1としてアシル基を有
する化合物()を原料として用いた場合、アシ
ル基の種類、反応条件等によりアシル基の脱離し
た化合物()が直接得られることがあるが、得
られる化合物がR1としてアシル基を有する場合
には、次いでこれを必要に応じてアシル基の脱離
反応に付してもよい。アシル基の脱離反応は通
常、塩基による脱離方法が繁用され、使用される
塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
等の水酸化アルカリ金属、炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウム等の炭酸水素アルカリ金属、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸アルカリ金
属等の無機塩基、ナトリウムメトキサイド、ナト
リウムエトキサイド等のアルカリ金属アルコキサ
イド、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ト
リエタノールアミン、N・N−ジメチルアニリ
ン、N・N−ジメチルベンジルアミン、N−メチ
ルモルホリン、ピリジン等の有機塩基等が挙げら
れる。アシル基の脱離反応にはその他、シリカゲ
ル、塩基性または酸性アルミナもしくはイオン交
換樹脂、チオ尿素、トリフルオロ酢酸、トリフル
オロ酢酸・アニソール、銅・ジメチルホルムアミ
ド、亜鉛・ジメチルホルムアミド、亜鉛・酢酸、
亜鉛・義酸、トリフルオロ酢酸・亜鉛等の還元剤
等も使用し得る。この脱離反応は水または親水性
溶媒もしくはそれらの混合溶媒中で行なわれるこ
とが多い。反応温度は特に限定されないが、通常
室温ないしは冷却下で行なわれることが多い。 このようにして得られる反応生成物が遊離の7
−置換アセトアミド−3−置換チオメチル−3−
セフエム−4−カルボン酸()である場合には
これをナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金
属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカ
リ土類金属塩等の無機塩基との塩、トリエチルア
ミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、アルギニン
塩等の有機塩基との塩等の所望の塩に導くことが
できる。 なお、この明細書では、シン異性体とは式 で示される立体配位を有する異性体を意味する。 この発明において使用する原料化合物()、
()および目的化合物()はいずれも比較的
不安定な物質であつて処理中に分解しやすいの
で、温和な条件下で反応を行ない、かつ、単離、
採取するのが望ましい。 この発明で提供される化合物()およびその
塩類はすべて新規化合物であり、酸およびペニシ
リナーゼに安定な抗菌性物質として有用である。 次にこの発明で提供される化合物()の内の
下記の数個の化合物の数種の菌に対する試験管内
抗菌作用のデータを示す。試験は寒天平板希釈法
で行ない、各菌の増殖が起こらなくなる最小発育
阻止濃度(MIC)を観察し、記録した。 試験化合物 (A) 7−(2−ヒドロキシイミノ−2−フエニル
アセトアミド)−3−(1−メチル−1H−テト
ラゾール−5−イル)チオメチル−3−セフエ
ム−4−カルボン酸のナトリウム塩(シン異性
体) (B) 7−(2−ヒドロキシイミノ−2−フエニル
アセトアミド)−3−(1・3・4−チアジアゾ
ール−2−イル)チオメチル−3−セフエム−
4−カルボン酸(シン異性体) (C) 7−(2−アセトキシイミノ−2−フエニル
アセトアミド)−3−(1−メチル−1H−テト
ラゾール−5−イル)チオメチル−3−セフエ
ム−4−カルボン酸(シン異性体) (D) 7−(2−エトキシカルボニルオキシイミノ
−2−フエニルアセトアミド)−3−(1−メチ
ル−1H−テトラゾール−5−イル)チオメチ
ル−3−セフエム−4−カルボン酸(シン異性
体) (E) 7−(2−イソブトキシカルボニルオキシイ
ミノ−2−フエニルアセトアミド)−3−(1−
メチル−1H−テトラゾール−5−イル)チオ
メチル−3−セフエム−4−カルボン酸(シン
異性体)
アジアゾリル基、アルキル基で置換されたまたは
置換されないテトラゾリル基をそれぞれ意味す
る)で示される新規な7−置換アセトアミド−3
−置換チオメチル−3−セフエム−4−カルボン
酸およびその塩類に関するものである。 この発明で提供される化合物()は、シン
(syn)異性体である。 一般式()中、R1のアシル基としては、例
えばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリ
ル、イソブチリル、バレリル、ピバロイル、ヘキ
サノイル、ラウロイル、パルミトイル、ステアロ
イル等のアルカノイル基、シクロプロパンカルボ
ニル、シクロブタンカルボニル、シクロペンタン
カルボニル、シクロヘキサンカルボニル等のシク
ロアルカンカルボニル基、アクリロイル、クロト
ノイル、2−メチルアクリロイル、ヘキセノイル
等のアルケノイル基、ベンゾイル、トルオイル、
キシロイル、ナフトイル、4−イソプロピルベン
ゾイル等のアロイル基、メトキシカルボニル、エ
トキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、
イソブトキシカルボニル、1・1−ジメチルプロ
ポキシカルボニル、第3級ブトキシカルボニル、
ヘキシルオキシカルボニル、アダマンチルオキシ
カルボニル等のアルコキシカルボニル基、フエノ
キシカルボニル、トリルオキシカルボニル、キシ
リルオキシカルボニル等のアリールオキシカルボ
ニル基、メシル、エタンスルホニル等のアルカン
スルホニル基、ベンゼンスルホニル、トシル等の
アレーンスルホニル基、8−キノリルオキシカル
ボニル、ピリジルオキシカルボニル等の酸素原
子、硫黄原子、窒素原子、その他のヘテロ原子を
1個以上含む飽和もしくは不飽和の単環もしくは
多環の複素環残基を有する複素環オキシカルボニ
ル基、テノイル、フロイル、ニコチノイル、イソ
ニコチノイル等の酸素原子、硫黄原子、窒素原
子、その他のヘテロ原子を1個以上含む、飽和も
しくは不飽和の、単環もしくは多環の複素環残基
を有する複素環カルボニル基、フエニルカルバモ
イル、トリルカルバモイル等のアリールカルバモ
イル基、メチルカルバモイル、エチルカルバモイ
ル、ヘキシルカルバモイル等のアルキルカルバモ
イル基、メチルチオカルバモイル、エチルチオカ
ルバモイル等のアルキルチオカルバモイル基、フ
エニルチオカルバモイル、トリルチオカルバモイ
ル等のアリールチオカルバモイル基等が挙げら
れ、これらのアシル基は、その任意の位置にフエ
ニル、トリル、キシリル等のアリール基、前記の
アロイル基、クロル、フルオル、ブロム等のハロ
ゲン、シアノ基、シクロプロピル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル等のシクロアルキル基、メト
キシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチ
ルオキシ、ヘキシルオキシ等のアルコキシ基、メ
チルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロ
ピルチオ、ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキシル
チオ等のアルキルチオ基、前記のアルコキシカル
ボニル基、アミノ基、ヒドロキシ基、アセトキ
シ、プロピオニルオキシ等のアルカノイルオキシ
基、フエノキシ、トリルオキシ、キシリルオキシ
等のアリールオキシ基、フエニルチオ、トリルチ
オ、キシリルチオ等のアリールチオ基、チエニ
ル、チアジアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、
オキサジアゾリル、ベンゾチアゾロン−3−イル
等の複素環式基、ピリジルオキシ、チアジアゾリ
ルチオ等の複素環オキシもしくは複素環チオ基、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル等のアルキル基、ニトロ
基、フエニルアゾ基、メシル、エタンスルホニル
等のアルカンスルホニル基、メタンスルホンアミ
ド、エタンスルホンアミド等のアルカンスルホン
アミド基、アセトアミド、プロピオンアミド等の
アルカノイルアミノ基等の置換分を1個以上有し
ていてもよく、置換分が2個以上の場合にはそれ
らの置換分は同一でもよく、互いに異なつていて
もよいものとする。上記の置換分のうち、アリー
ル基、アリールオキシ基、アリールチオ基および
複素環式基は、さらに上記で例示したようなアル
コキシ基、ハロゲン、アルキル基、ニトロ基等を
その任意の位置に1個以上有していてもよい。 上記の置換分を有するアシル基としては、例え
ばフエニルグリオキシロイルのようなアロイルア
ルカノイル基、クロロアセチル、ジクロロアセチ
ル、ジフルオロアセチル、トリフルオロアセチ
ル、クロロプロピオニル、クロロブチリル、クロ
ロバレリル、トリクロロアセチル、ブロモヘキサ
ノイル等のハロアルカノイル基、シアノアセチ
ル、シアノプロピオニル等のシアノアルカノイル
基、シクロプロピルアセチル、シクロヘキシルア
セチル等のシクロアルキルアルカノイル基、メト
キシアセチル、エトキシアセチル等のアルコキシ
アルカノイル基、メチルチオアセチル、エチルチ
オプロピオニル、イソプロピルチオアセチル、ヘ
キシルチオヘキサノイル等のアルキルチオアルカ
ノイル基、メトキシカルボニルプロピオニル、エ
トキシカルボニルアセチル、プロポキシカルボニ
ルブチリル、ヘキシルオキシカルボニルヘキサノ
イル等のアルコキシカルボニルアルカノイル基、
フエニルアセチル、トリルアセチル、フエニルプ
ロピオニル、フエニルヘキサノイル等のアリール
アルカノイル基、フエニルグリシル、フエニルア
ラニル等のアリール基およびアミノ基置換アルカ
ノイル基、マンデリルのようなアリール基および
ヒドロキシ基置換アルカノイル基、2−アセトキ
シフエニルアセチルのようなアリール基およびア
ルカノイルオキシ基置換アルカノイル基、フエノ
キシアセチル、3−メトキシフエノキシアセチ
ル、2−ニトロフエノキシアセチル、4−クロロ
フエノキシアセチル、4−ブロモフエノキシプロ
ピオニル、2・5−ジクロロフエノキシアセチ
ル、3−フルオロフエノキシヘキサノイル、2−
ニトロ−4−クロロフエノキシアセチル等のアル
コキシ基、ニトロ基、ハロゲンもしくはニトロ基
およびハロゲン置換または非置換アリールオキシ
アルカノイル基、フエニルチオアセチル、2−ニ
トロフエニルチオアセチル、4−クロロフエニル
チオアセチル等のニトロ基もしくはハロゲン置換
または非置換アリールチオアルカノイル基、チエ
ニルアセチル、チアジアゾリルアセチル、テトラ
ゾリルアセチル、ピリジルアセチル、チエニルプ
ロピオニル、チエニルヘキサノイル、ベンゾチア
ゾロン−3−イルアセチル、オキサジアゾリルア
セチル等の複素環式基置換アルカノイル基、メチ
ルチアジアゾリルアセチルのようなアルキル置換
複素環式基置換アルカノイル基、ピリジルオキシ
アセチルのような複素環オキシアルカノイル基、
チアジアゾリルチオアセチルのような複素環チオ
アルカノイル基、シンナモイル、フエニルヘキセ
ノイルのようなアリールアルケノイル基、4−ニ
トロベンゾイル、4−クロロベンゾイル、3−ブ
ロモベンゾイル、4−メシルベンゾイル、サリチ
ロイル、4−ヒドロキシベンゾイル、2−ヒドロ
キシ−5−クロロベンゾイル、4−メタンスルホ
ンアミドベンゾイル、4−アセトアミドベンゾイ
ル、P−アニソイル、4−ヘキシルオキシベンゾ
イル、4−メトキシカルボニルベンゾイル、4−
エトキシカルボニルベンゾイル、4−シアノベン
ゾイル、3・4・5−トリメトキシベンゾイル、
4−ヘキシルオキシカルボニルベンゾイル等のニ
トロ基、ハロゲン、アルカンスルホニル基、ヒド
ロキシ基、ヒドロキシ基およびハロゲン、アルカ
ンスルホンアミド基、アルカノイルアミノ基、ア
ルコキシ基、アルコキシカルボニル基もしくはシ
アノ基置換アロイル基、トリクロロエトキシカル
ボニル、トリブロモエトキシカルボニル等のハロ
アルコキシカルボニル基、2−ピリジルメトキシ
カルボニルのような複素環式基置換アルコキシカ
ルボニル基、1−シクロプロピルエトキシカルボ
ニルのようなシクロアルキルアルコキシカルボニ
ル基、ベンジルオキシカルボニル、フエネチルオ
キシカルボニル、ジフエニルメトキシカルボニ
ル、フエニルヘキシルオキシカルボニル、2−ブ
ロモベンジルオキシカルボニル、4−ニトロベン
ジルオキシカルボニル、4−クロロベンジルオキ
シカルボニル、4−ブロモベンジルオキシカルボ
ニル、3・4−ジメトキシベンジルオキシカルボ
ニル、4−(フエニルアゾ)ベンジルオキシカル
ボニル、4−メトキシベンジルオキシカルボニル
等のハロゲン、ニトロ基、アルコキシ基もしくは
フエニルアゾ基置換または非置換アリールアルコ
キシカルボニル基、4−クロロフエノキシカルボ
ニルのようなハロアリールオキシカルボニル基、
クロロエチルカルバモイルのようなハロアルキル
カルバモイル基等が挙げられる。 上記したR1のアシル基の好ましい例として
は、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニ
ル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ピバロ
イル、ヘキサノイル等の低級アルカノイル基、シ
クロプロパンカルボニル、シクロブタンカルボニ
ル、シクロペンタンカルボニル、シクロヘキサン
カルボニル等の低級シクロアルカンカルボニル
基、ベンゾイル基、トルオイル、キシロイル、4
−イソプロピルベンゾイル、3−ヘキシルベンゾ
イル等の低級アルキル置換ベンゾイル基、メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポ
キシカルボニル、イソブトキシカルボニル、1・
1−ジメチルプロポキシカルボニル、第3級ブト
キシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘ
キシルオキシカルボニル等の低級アルコキシカル
ボニル基、テノイルのような硫黄原子含有不飽和
単環の複素環カルボニル基、ニコチノイル、イソ
ニコチノイル等の窒素原子含有不飽和単環の複素
環カルボニル基、フエニルカルバモイル基、メチ
ルカルバモイル、エチルカルバモイル、ヘキシル
カルバモイル等の低級アルキルカルバモイル基、
クロロアセチル、ジクロロアセチル、ジフルオロ
アセチル、トリフルオロアセチル、クロロプロピ
オニル、クロロブチリル、クロロバレリル、トリ
クロロアセチル、ブロモヘキサノイル等のハロ低
級アルカノイル基、メチルチオアセチル、エチル
チオプロピオニル、イソプロピルチオアセチル、
ヘキシルチオヘキサノイル等の低級アルキルチオ
低級アルカノイル基、メトキシカルボニルプロピ
オニル、エトキシカルボニルアセチル、プロポキ
シカルボニルブチリル、ヘキシルオキシカルボニ
ルヘキサノイル等の低級アルコキシカルボニル低
級アルカノイル基、フエニルアセチル、フエニル
プロピオニル、フエニルヘキサノイル等のフエニ
ル低級アルカノイル基、4−クロロフエノキシア
セチル、4−ブロモフエノキシプロピオニル、
2・5−ジクロロフエノキシアセチル、3−フル
オロフエノキシヘキサノイル等のハロゲン置換フ
エノキシ低級アルカノイル基、チエニルアセチ
ル、チエニルプロピオニル、チエニルヘキサノイ
ル等の硫黄原子含有不飽和単環の複素環式基置換
低級アルカノイル基、シンナモイル、フエニルヘ
キセノイルのようなフエニル低級アルケノイル
基、4−ニトロベンゾイル、4−クロロベンゾイ
ル、3−ブロモベンゾイル、サリチロイル、4−
ヒドロキシベンゾイル、P−アニソイル、4−ヘ
キシルオキシベンゾイル、4−メトキシカルボニ
ルベンゾイル、4−エトキシカルボニルベンゾイ
ル、3・4・5−トリメトキシベンゾイル、4−
ヘキシルオキシカルボニルベンゾイル等のニトロ
基、ハロゲン、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基
もしくは低級アルコキシカルボニル基置換ベンゾ
イル基、ベンジルオキシカルボニル、フエネチル
オキシカルボニル、ジフエニルメトキシカルボニ
ル、フエニルヘキシルオキシカルボニル等のフエ
ニル低級アルコキシカルボニル基等が挙げられ
る。 前記一般式()で示される化合物は、その
R2として、1・2・4−チアジアゾリル、1・
3・4−チアジアゾリル、1・2・5−チアジア
ゾリル等のチアジアゾリル基、アルキル基好まし
くは前記の低級アルキル基好ましくはビニル、1
−プロペニル、アリル、イソプロペニル、2−ブ
テニル、2−ペンテニル、1−ヘキセニル等の低
級アルケニル基で置換されたまたは置換されない
1H−テトラゾリル、2H−テトラゾリル等のテト
ラゾリル基を有する化合物を意味する。 一般式()で示される化合物の塩類として
は、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属
塩、カルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ
土類金属塩等の無機塩基との塩およびトリエチル
アミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、アルギニ
ン塩等の有機塩機との塩等が挙げられる。 一般式()で示されるこの発明の化合物およ
びその塩類は、一般式 (式中、R2は前と同じ意味) で示される7−アミノ−3−置換チオメチル−3
−セフエム−4−カルボン酸もしくはそのアミノ
基における誘導体またはそれらの塩類に一般式 (式中、R1は前と同じ意味) で示される酢酸類またはその塩類もしくはそのカ
ルボキシ基における反応性誘導体を作用させ、得
られる化合物がR1としてアシル基を有する場合
には、次いでこれを必要に応じてアシル基の脱離
反応に付すことにより製造することができる。 この方法で原料物質として使用する酢酸類
()のうち、例えば2−アセトキシイミノ−2
−フエニル酢酸(シン異性体)は、2−ヒドロキ
シイミノ−2−フエニル酢酸(シン異性体)に酢
酸クロライドを作用させることにより製造するこ
とができ、その他の化合物も同様にして製造する
ことができる。 この発明の化合物()およびその塩類を製造
する反応は7−アミノ−3−置換チオメチル−3
−セフエム−4−カルボン酸()もしくはその
アミノ基における誘導体またはそれらの塩類に酢
酸類()またはその塩類もしくはそのカルボキ
シ基における反応性誘導体を作用させることによ
り行なわれる。 7−アミノ−3−置換チオメチル−3−セフエ
ム−4−カルボン酸は、前記一般式()で示さ
れ、さらに詳細には前記したチアジアゾリル基、
アルキル基で置換されたまたは置換されないテト
ラゾリル基をR2として有する化合物を意味す
る。 これらの7−アミノ−3−置換チオメチル−3
−セフエム−4−カルボン酸()のアミノ基に
おける誘導体としては、そのアミノ基がイソシア
ナト基、イソチオシアナト基になつたもの、およ
びアミノ基とアセトアルデヒド、イソペンタアル
デヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒ
ド、フエニルアセトアルデヒド、P−ニトロベン
ズアルデヒド、m−クロロベンズアルデヒド、P
−クロロベンズアルデヒド、ヒドロキシナフトア
ルデヒド、フルフラール、チオフエンカルボアル
デヒド、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、アセチルアセトン、アセト酢
酸エチルエステル等との反応により生ずる誘導体
になつたもの等が挙げられる。 また化合物()の塩類としては、そのアミノ
基またはカルボキシ基における塩類が挙げられ、
ここでアミノ基における塩類としては、塩酸塩、
硫酸塩等の無機酸との塩、酢酸塩、マレイン酸
塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸
塩等の有機酸との塩等の酸塩が挙げられ、またカ
ルボキシ基における塩類としては、ナトリウム
塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、カルシウム
塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金属塩等の
無機塩基との塩、トリエチルアミン塩、ジシクロ
ヘキシルアミン塩等の有機塩基との塩が挙げられ
る。 前記の一般式()で示される酢酸類はシン
(syn)異性体である。これらの酢酸類()の
塩類としては、ナトリウム塩、カリウム塩等のア
ルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩等
のアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩等の無機
塩基との塩、トリエチルアミン塩のような有機塩
基との塩が挙げられる。 またこれらの酢酸類()のカルボキシ基にお
ける反応性誘導体としては、例えば酸ハライド、
酸無水物、活性アミド、活性エステル等が挙げら
れるが、特に繁用されるものとしては酸クロリ
ド、酸アジド、ジアルキル燐酸混合無水物、フエ
ニル燐酸混合無水物、ジフエニル燐酸混合無水
物、ジベンジル燐酸混合無水物、ハロゲン化燐酸
混合無水物、ジアルキル亜燐酸混合無水物、亜硫
酸混合無水物、チオ硫酸混合無水物、硫酸混合無
水物、アルキル炭酸混合無水物、脂肪酸カルボン
酸(たとえばピバリン酸、ペンタン酸、イソペン
タン酸、2−エチルブタン酸、トリクロル酢酸)
混合無水物、芳香族カルボン酸(たとえば安息香
酸)混合無水物、対称形酸無水物等の酸無水物、
イミダゾール、4−置換イミダゾール、ジメチル
ピラゾール、トリアゾール、テトラゾールなどと
の酸アミド、シアノメチルエステル、メトキシメ
チルエステル、ビニルエステル、ピロパルギルエ
ステル、p−ニトロフエニルエステル、2・4−
ジニトロフエニルエステル、トリクロロフエニル
エステル、ペンタクロロフエニルエステル、メシ
ルフエニルエステル、フエニルアゾフエニルエス
テル、フエニルチオエステル、p−ニトロフエニ
ルチオエステル、p−クレジルチオエステル、カ
ルボキシメチルチオエステル、ピラニルエステ
ル、ピリジルエステル、ピペリジルエステル、8
−キノリルチオエステル、N・N−ジメチルヒド
ロキシルアミン、1−ヒドロキシ−2−(1H)−
ピリドン、N−ヒドロキシサクシンイミド、N−
ヒドロキシフタルイミド、1−ヒドロキシベンゾ
トリアゾール、1−ヒドロキシ−6−クロロベン
ゾトリアゾール等の1−ヒドロキシベンゾトリア
ゾール類とのエステル等のエステル類等が挙げら
れ、これらは使用する酢酸類()の種類に応じ
て適宜選択される。 この反応では、あらかじめ原料化合物()を
クロロトリメチルシラン、ビス(トリメチルシリ
ル)アセトアミド等のシリル化合物と反応させ、
カルボキシ基またはアミノ基およびカルボキシ基
におけるシリル誘導体に導き、ついで酢酸類
()またはその塩類もしくはそのカルボキシ基
における反応性誘導体と反応させてもよい。 この反応は通常、溶媒中で行なわれる。溶媒と
しては水、アセトン、ジオキサン、アセトニトリ
ル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレ
ン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、ジメチル
ホルムアミド、ピリジンまたはその他の反応に悪
影響を及ぼさない一般有機溶媒が挙げられ、これ
らのうち、親水性の溶媒は水と混合して使用する
こともできる。 この反応において酢酸類()を遊離酸もしく
はその塩の状態で使用する際は、たとえばN・
N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド、N−シ
クロヘキシル−N′−モルホリノエチルカルボジ
イミド、N−シクロヘキシル−N′−(4−ジエチ
ルアミノシクロヘキシル)カルボジイミド、N・
N′−ジエチルカルボジイミド、N・N′−ジイソ
プロピルカルボジイミド、N−エチル−N′−(3
−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド、
N・N′−カルボニルビス(2−メチルイミダゾ
ール)、ペンタメチレンケテン−N−シクロヘキ
シルイミン、ジフエニルケテン−N−シクロヘキ
シルイミン、アルコキシアセチレン、1−アルコ
キシ−1−クロロエチレン、1−(4−クロロベ
ンゼンスルホニルオキシ)−6−クロロベンゾト
リアゾールのようなスルホン酸エステル型縮合
剤、亜燐酸トリアルキルエステル、ポリ燐酸エチ
ルエステル、ポリ燐酸イソプロピルエステル、オ
キシ塩化燐、3塩化燐、塩化チオニル、オキサリ
ルクロリド、トリフエニルホスフイン、N−エチ
ルベンズイソキサゾリウム塩、N−エチル−5−
フエニルイソキサゾリウム−3′−スルホナート、
その他(クロロメチレン)ジメチルアンモニウム
クロリドのような雑誌「化学の領域」第19巻第12
号第12〜26頁(1965年)に記載されているような
ビルスマイヤー試薬等の縮合剤の存在下に行なう
のが有利である。 また、この反応は後記の水酸化アルカリ金属、
炭酸水素アルカリ金属、炭酸アルカリ金属、トリ
アルキルアミン、N・N−ジアルキルアニリン、
N・N−ジアルキルベンジルアミン、アルカリ金
属アルコキサイド、ピリジン等の塩基の存在下に
行なつてもよく、塩基もしくは前述の縮合剤のう
ち液体のものは溶媒を兼ねて使用することができ
る。反応温度は特に限定されないが、通常冷却下
ないしは室温で行なわれることが多い。 この反応においては、R1としてアシル基を有
する化合物()を原料として用いた場合、アシ
ル基の種類、反応条件等によりアシル基の脱離し
た化合物()が直接得られることがあるが、得
られる化合物がR1としてアシル基を有する場合
には、次いでこれを必要に応じてアシル基の脱離
反応に付してもよい。アシル基の脱離反応は通
常、塩基による脱離方法が繁用され、使用される
塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
等の水酸化アルカリ金属、炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウム等の炭酸水素アルカリ金属、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸アルカリ金
属等の無機塩基、ナトリウムメトキサイド、ナト
リウムエトキサイド等のアルカリ金属アルコキサ
イド、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ト
リエタノールアミン、N・N−ジメチルアニリ
ン、N・N−ジメチルベンジルアミン、N−メチ
ルモルホリン、ピリジン等の有機塩基等が挙げら
れる。アシル基の脱離反応にはその他、シリカゲ
ル、塩基性または酸性アルミナもしくはイオン交
換樹脂、チオ尿素、トリフルオロ酢酸、トリフル
オロ酢酸・アニソール、銅・ジメチルホルムアミ
ド、亜鉛・ジメチルホルムアミド、亜鉛・酢酸、
亜鉛・義酸、トリフルオロ酢酸・亜鉛等の還元剤
等も使用し得る。この脱離反応は水または親水性
溶媒もしくはそれらの混合溶媒中で行なわれるこ
とが多い。反応温度は特に限定されないが、通常
室温ないしは冷却下で行なわれることが多い。 このようにして得られる反応生成物が遊離の7
−置換アセトアミド−3−置換チオメチル−3−
セフエム−4−カルボン酸()である場合には
これをナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金
属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカ
リ土類金属塩等の無機塩基との塩、トリエチルア
ミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、アルギニン
塩等の有機塩基との塩等の所望の塩に導くことが
できる。 なお、この明細書では、シン異性体とは式 で示される立体配位を有する異性体を意味する。 この発明において使用する原料化合物()、
()および目的化合物()はいずれも比較的
不安定な物質であつて処理中に分解しやすいの
で、温和な条件下で反応を行ない、かつ、単離、
採取するのが望ましい。 この発明で提供される化合物()およびその
塩類はすべて新規化合物であり、酸およびペニシ
リナーゼに安定な抗菌性物質として有用である。 次にこの発明で提供される化合物()の内の
下記の数個の化合物の数種の菌に対する試験管内
抗菌作用のデータを示す。試験は寒天平板希釈法
で行ない、各菌の増殖が起こらなくなる最小発育
阻止濃度(MIC)を観察し、記録した。 試験化合物 (A) 7−(2−ヒドロキシイミノ−2−フエニル
アセトアミド)−3−(1−メチル−1H−テト
ラゾール−5−イル)チオメチル−3−セフエ
ム−4−カルボン酸のナトリウム塩(シン異性
体) (B) 7−(2−ヒドロキシイミノ−2−フエニル
アセトアミド)−3−(1・3・4−チアジアゾ
ール−2−イル)チオメチル−3−セフエム−
4−カルボン酸(シン異性体) (C) 7−(2−アセトキシイミノ−2−フエニル
アセトアミド)−3−(1−メチル−1H−テト
ラゾール−5−イル)チオメチル−3−セフエ
ム−4−カルボン酸(シン異性体) (D) 7−(2−エトキシカルボニルオキシイミノ
−2−フエニルアセトアミド)−3−(1−メチ
ル−1H−テトラゾール−5−イル)チオメチ
ル−3−セフエム−4−カルボン酸(シン異性
体) (E) 7−(2−イソブトキシカルボニルオキシイ
ミノ−2−フエニルアセトアミド)−3−(1−
メチル−1H−テトラゾール−5−イル)チオ
メチル−3−セフエム−4−カルボン酸(シン
異性体)
【表】
この発明の化合物()を医薬として用いる場
合は、医薬上許容される塩の形で使用してもよ
い。 この発明の化合物()およびその医薬上許容
される塩は、その有効かつ非毒性量を含有する組
成物の形で投与される。この組成物は医薬の製剤
において慣用されている無機もしくは有機のある
いは固体または液体の製剤用担体とともに、経口
または非経口投与に適した剤形で使用される。こ
の場合の経口剤としては、錠剤、カプセル剤、ト
ローチ剤、散剤等の固体製剤あるいはシロツプ剤
等の液剤が挙げられ、非経口剤としては注射剤、
坐薬等が挙げられる。これら各種の製剤は当業界
周知の方法で製造することができる。 次にこの発明を製造例および実施例により説明
する。 製造例 1 酢酸クロライド15.7gを乾燥塩化メチレン80ml
に溶解し、この溶液に氷冷撹拌下2−ヒドロキシ
イミノ−2−フエニル酢酸(シン異性体)8.25g
を加え、次いで徐々に反応温度を上げ室温で1時
間撹拌し、溶液としたのち氷冷する。析出する結
晶を石油エーテルを加えて取し、石油エーテル
で洗浄後、乾燥すると2−アセトキシイミノ−2
−フエニル酢酸(シン異性体)7.3gを得る。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 1760、1735cm-1 製造例 2 安息香酸クロライド28gを乾燥エーテル50mlに
溶解し、この溶解に2−ヒドロキシイミノ−2−
フエニル酢酸(シン異性体)8.25gを加え室温で
5時間撹拌し、析出する結晶を取後、n−ヘキ
サンで洗浄し乾燥すると2−ベンゾイルオキシイ
ミノ−2−フエニル酢酸(シン異性体)9.8gを
得る。mp145℃(分解)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 1740、1720cm-1 製造例 3 粉末化したニコチン酸クロライドの塩酸塩12.3
gを乾燥塩化メチレン75mlに懸濁し、これに2−
ヒドロキシイミノ−2−フエニル酢酸(シン異性
体)8.25gを加え室温で4.5時間撹拌する。析出
物を取後、乾燥塩化メチレン次いで石油エーテ
ルで洗浄し乾燥する。この粉末を水160mlに懸濁
し、酢酸エチル100mlを加えたのち氷冷撹拌下に
炭酸水素ナトリウム水溶液を加えてPH6として溶
解する。この溶液に次いで10%塩酸を加えてPH2
とし析出する結晶を取後、酢酸エチルで洗浄し
乾燥すると、2−ニコチノイルオキシイミノ−2
−フエニル酢酸(シン異性体)10.0gを得る。
mp233〜235℃(分解)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 1760、1710cm-1 製造例 4 桂皮酸クロライド25gを乾燥塩化メチレン80ml
に溶解し、この溶液に氷冷下2−ヒドロキシイミ
ノ−2−フエニル酢酸(シン異性体)8.25gを加
え、次いでエーテル30mlを加えたのち室温で4時
間撹拌する。析出物を取後、石油エーテルで洗
浄し、乾燥すると2−シンナモイルオキシイミノ
−2−フエニル酢酸(シン異性体とアンチ異性体
の混合物)10.0gを得る。mp138〜139℃(分
解)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 1735、1700cm-1 製造例 5 前記の製造例と同様にして次の化合物を得る。 (1) 2−(2−クロロアセトキシイミノ)−2−フ
エニル酢酸(シン異性体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 1780、1740cm-1 (2) 2−〔2−(2−チエニル)アセトキシイミ
ノ〕−2−フエニル酢酸(シン異性体)。mp112
℃(分解)。 (3) 2−(2−フエニルアセトキシイミノ)−2−
フエニル酢酸(シン異性体)。mp135〜136℃
(分解)。 (4) 2−〔2−(4−クロロフエノキシ)アセトキ
シイミノ〕−2−フエニル酢酸(シン異性体)。
mp132〜133℃。 (5) 2−(4−クロロベンゾイルオキシイミノ)−
2−フエニル酢酸(シン異性体)。mp184〜185
℃(分解)。 (6) 2−(3−メトキシカルボニルプロピオニル
オキシイミノ)−2−フエニル酢酸(シン異性
体)。mp90〜92℃(分解)。 (7) 2−イソブチリルオキシイミノ−2−フエニ
ル酢酸(シン異性体)。mp127〜128℃(分
解)。 (8) 2−サリチロイルオキシイミノ−2−フエニ
ル酢酸(シン異性体)。mp120〜122℃(分
解)。 (9) 2−(4−ニトロベンゾイルオキシイミノ)−
2−フエニル酢酸(シン異性体)。mp238〜239
℃。 (10) 2−(p−アニソイルオキシイミノ)−2−フ
エニル酢酸(シン異性体)。mp147℃(分解)。 (11) 2−(4−イソプロピルベンゾイルオキシイ
ミノ)−2−フエニル酢酸(シン異性体)。
mp148℃(分解)。 (12) 2−シクロヘキサンカルボニルオキシイミノ
−2−フエニル酢酸(シン異性体)。mp135℃
(分解)。 (13) 2−(2−イソプロピルチオアセトキシイ
ミノ)−2−フエニル酢酸(シン異性体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 1765、1740cm-1 実施例 1 ジメチルホルムアミド8.1gに冷却下オキシ塩
化りん16.1gを加え40℃で1時間撹拌する。反応
後に乾燥塩化メチレン40mlを加え減圧下に濃縮す
る。残渣に乾燥酢酸エチル40mlを加え、次いで氷
冷撹拌下に2−ジクロロアセトキシイミノ−2−
フエニル酢酸(シン異性体)30.3gを加えたのち
冷却下に30分間撹拌する。一方、7−アミノ−3
−(1−メチル−1H−テトラゾール−5−イル)
チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸32.8
gおよびビス(トリメチルシリル)アセトアミド
50.8gを乾燥酢酸エチル200mlに溶解する。この
溶液に上記で得た溶液を−15℃に冷却したのち−
25〜−10℃で加え、次いで−20〜−5℃で2時間
撹拌する。反応液に−10℃で水250mlを加え、20
分間室温で撹拌する。酢酸エチル層を分取後、水
層を酢酸エチル100mlで2回抽出し先の酢酸エチ
ル層と合わす。7−(2−ジクロロアセトキシイ
ミノ−2−フエニルアセトアミド)−3−(1−メ
チル−1H−テトラゾール−5−イル)チオメチ
ル−3−セフエム−4−カルボン酸(シン異性
体)を含有するこの酢酸エチル溶液を活性炭で処
理したのち、10%塩化ナトリウム水溶液250mlを
加え、次いで炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて
PH6.3〜6.5とし、冷所に一夜放置する。析出物を
取後乾燥すると、7−(2−ヒドロキシイミノ
−2−フエニルアセトアミド)−3−(1−メチル
−1H−テトラゾール−5−イル)チオメチル−
3−セフエム−4−カルボン酸のナトリウム塩
(シン異性体)43.0gを得る。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3200、1760、1660cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(D2O、δ) ppm 7.10〜7.80(5H、m) 5.82(1H、d、J=5Hz) 5.14(1H、d、J=5Hz) 4.12(2H、ABq、J=13Hz) 3.90(3H、s) 3.53(2H、ABq、J=18Hz) 実施例 2 ジメチルホルムアミド1.46gおよびチオニルク
ロライド2.4gを40℃で30分間加温し、減圧下に
濃縮後、残渣に乾燥エーテルを加えて、これを減
圧下に濃縮する。結晶性残渣に塩化メチレン30ml
を加え、次いで2−ヒドロキシイミノ−2−フエ
ニル酢酸(シン異性体)1.65gを加えて、−30℃
で30分間撹拌する。この溶液を−40℃に冷却撹拌
下、この溶液に7−アミノ−3−(1−メチル−
1H−テトラゾール−5−イル)チオメチル−3
−セフエム−4−カルボン酸3g、ビス(トリメ
チルシリル)アセトアミド4.2gおよび塩化メチ
レン30mlの氷冷溶液を一時に加え、同温度で30分
間撹拌、次いで−10℃で1時間撹拌する。反応液
に水10mlを加え、塩化メチレンを減圧下に留去し
たのち水20mlおよび酢酸エチル30mlを加えてよく
振とうする。この混液に氷冷下、飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液を滴下してPH7.5とする。水層を
分取し、希塩酸でPH6としたのちエーテルで洗浄
する。水層をさらに希塩酸でPH2とし、酢酸エチ
ルで抽出し、不溶の7−アミノ−3−(1−メチ
ル−1H−テトラゾール−5−イル)チオメチル
−3−セフエム−4−カルボン酸を去する。抽
出液を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、硫酸
マグネシウムで乾燥する。乾燥後、活性炭で処理
し、溶媒を減圧下に留去したのち残渣をジイソプ
ロピルエーテルで粉末化し、これを取すると7
−(2−ヒドロキシイミノ−2−フエニルアセト
アミド)−3−(1−メチル−1H−テトラゾール
−5−イル)チオメチル−3−セフエム−4−カ
ルボン酸(シン異性体)0.15gを得る。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3200(broad)、1770、1710、1665cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスルホ
キシド、δ) ppm 11.65(1H、s) 9.68(1H、d、J=9Hz) 7.3〜7.8(5H、m) 5.79(1H、dd、J=5、9Hz) 5.2(1H、d、J=5Hz) 4.31(2H、ABq、J=13Hz) 3.9(3H、s) 3.72(2H、ABq、J=18Hz) 実施例 3 2−ジクロロアセトキシイミノ−2−フエニル
酢酸(シン異性体)9.11gを乾燥塩化メチレン
100mlに懸濁し、これに氷冷下5塩化りん7.56g
を加え、30分間同温度で撹拌する。氷冷下、塩化
メチレンを減圧下に留去し、残渣に乾燥ベンゼン
を加えて減圧下に留去する操作を2度繰返す。残
渣を乾燥テトラヒドロフラン60mlに溶解する。一
方、炭酸水素ナトリウム8.32gを水120mlに溶解
し、これに次いで7−アミノ−3−(1・3・4
−チアジアゾール−2−イル)チオメチル−3−
セフエム−4−カルボン酸9.9gを加えて溶解し
たのちこの溶液にアセトン150mlを加える。この
溶液に−5〜2℃で上記で得られた酸クロライド
の溶液を反応液のPHをトリエチルアミンで7以上
に保ちながら滴下し、同温度で30分間撹拌する。
反応後、水200mlを加えて、アセトンを減圧下に
留去したのち氷冷下炭酸水素ナトリウム水溶液で
約PH8とし10分間撹拌する。溶液を酢酸エチルで
洗浄後、水層を氷冷下10%塩酸で約PH55とし酢酸
エチルで洗浄する。次いで約PH2とし、酢酸エチ
ルで3回抽出し、不溶の7−アミノ−3−(1・
3・4−チアジアゾール−2−イル)チオメチル
−3−セフエム−4−カルボン酸2gを取す
る。抽出液を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄
後、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去
し、残渣にエーテルを加えて粉末化し、一夜撹拌
後、取、乾燥すると7−(2−ヒドロキシイミ
ノ−2−フエニルアセトアミド)−3−(1・3・
4−チアジアゾール−2−イル)チオメチル−3
−セフエム−4−カルボン酸(シン異性体)8.25
gを得る。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3200(broad)、1775、1710、1665cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスルホ
キシド、δ) ppm 11.65(1H、s) 9.50(1H、s) 9.67(1H、d、J=9Hz) 7.25〜7.80(5H、m) 5.88(1H、dd、J=5、9Hz) 5.20(1H、d、J=5Hz) 4.46(2H、ABq、J=13Hz) 3.74(2H、ABq、J=18Hz) 実施例 4 (イ) 2−アセトキシイミノ−2−フエニル酢酸
(シン異性体)2.28gを乾燥塩化メチレン30ml
に懸濁し、氷冷撹拌下5塩化りん2.5gを加
え、同温で40分間撹拌する。低温で減圧下に反
応液を濃縮し、残渣に乾燥ベンゼンを加え減圧
下に濃縮する操作を2度繰返す。残渣を乾燥塩
化メチレン20mlに溶解する。一方、7−アミノ
−3−(1−メチル−1H−テトラゾール−5−
イル)チオメチル−3−セフエム−4−カルボ
ン酸3.28gおよびビス(トリメチルシリル)ア
セトアミド4.1gを塩化メチレン50mlに溶解
し、この溶液に−40℃に冷却下、上記で得られ
た酸クロライドの溶液を加え、−40〜−10℃で
1時間撹拌する。−40℃に冷却下、水を加え、
溶媒を留去する。残渣に水および酢酸エチルを
加え、不溶物を去し、酢酸エチル抽出液を飽
和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、硫酸マグネ
シウムで乾燥する。溶媒を留去し、残渣にエー
テルを加え、粉末化し一夜撹拌後、取、乾燥
すると7−(2−アセトキシイミノ−2−フエ
ニルアセトアミド)−3−(1−メチル−1H−
テトラゾール−5−イル)チオメチル−3−セ
フエム−4−カルボン酸(シン異性体)3.95g
を得る。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3250、1780、1710、1670cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド) ppm 10.05(1H、d、J=9Hz) 7.5〜7.85(5H、m) 5.90(1H、dd、J=5、9Hz) 5.20(1H、d、J=5Hz) 4.32(2H、ABq、J=13Hz) 3.92(3H、s) 3.75(2H、ABq、J=18Hz) 2.20(3H、s) (ロ) 2−アセトキシイミノ−2−フエニル酢酸
(シン異性体)2.28gを乾燥塩化メチレン30ml
に懸濁し、氷冷撹拌下にこれに5塩化りん2.5
gを加えて同温度で40分間撹拌する。低温で減
圧下に溶液を濃縮し、残渣に乾燥ベンゼンを加
え、減圧下に濃縮する操作を2度繰返す。次い
で残渣を乾燥テトラヒドロフラン20mlに溶解す
る。一方、7−アミノ−3−(1−メチル−1H
−テトラゾール−5−イル)チオメチル−3−
セフエム−4−カルボン酸3.28gおよび炭酸水
素ナトリウム2.8gをアセトン:水(1:1)
の混液60mlに溶解し、0〜5℃に冷却下、この
溶液に上記で得られた酸クロライドの溶液を反
応液のPHを7以上に保ちながら滴下する。同温
度で30分間撹拌後、減圧下に低温で溶媒を留去
し、残渣に水少量を加える。10%塩酸を加えて
PH5.5としたのち酢酸エチルで洗浄し、水層を
さらに10%塩酸でPH2とし、酢酸エチルで抽出
する。抽出液は、飽和塩化ナトリウム水溶液で
洗浄後、乾燥する。乾燥後、溶媒を留去し、残
渣にエーテルを加え一夜撹拌後、粉末を取、
乾燥すると、7−(2−アセトキシイミノ−2
−フエニルアセトアミド)−3−(1−メチル−
1H−テトラゾール−5−イル)チオメチル−
3−セフエム−4−カルボン酸(シン異性体)
2.9gを得る。このものは、前記実施例4−(イ)
で得た標品と赤外線吸収スペクトルおよび核磁
気共鳴吸収スペクトルにより同定した。 実施例 5 前記の実施例と同様にして次の化合物を得る。 (1) 7−(2−ヒドロキシイミノ−2−フエニル
アセトアミド)−3−(1H−テトラゾール−5
−イル)チオメチル−3−セフエム−4−カル
ボン酸(シン異性体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3200(broad)、1770、1710、1665cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 11.65(1H、s) 9.65(1H、d、J=9Hz) 7.3〜7.8(5H、m) 5.88(1H、dd、J=5、9Hz) 5.20(1H、d、J=5Hz) 4.34(2H、ABq、J=13Hz) 3.74(2H、ABq、J=18Hz) (2) 7−(2−ベンゾイルオキシイミノ−2−フ
エニルアセトアミド)−3−(1−メチル−1H
−テトラゾール−5−イル)チオメチル−3−
セフエム−4−カルボン酸(シン異性体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3225、1780、1738、1710、1660cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.25(1H、d、J=9Hz) 7.95〜8.25(2H、m) 7.95〜7.40(8H、m) 6.08(1H、dd、J=5、9Hz) 5.28(1H、d、J=5Hz) 4.34(2H、ABq、J=13Hz) 3.95(3H、s) (3) 7−(2ベンゾイルオキシイミノ−2−フエ
ニルアセトアミド)−3−(1・3・4−チアジ
アゾール−2−イル)チオメチル−3−セフエ
ム−4−カルボン酸(シン異性体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3250、1780、1735、1710、1670cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.20(1H、d、J=9Hz) 9.50(1H、s) 7.15〜8.15(10H、m) 6.06(1H、dd、J=5、9Hz) 5.28(1H、d、J=5Hz) 4.40(2H、ABq、J=13Hz) 3.73(2H、ABq、J=18Hz) (4) 7−〔2−(2−クロロアセトキシイミノ)−
2−フエニルアセトアミド〕−3−(1−メチル
−1H−テトラゾール−5−イル)チオメチル
−3−セフエム−4−カルボン酸(シン異性
体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3210、1775、1710、1665cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.13(1H、d、J=9Hz) 7.30〜7.87(5H、m) 5.90(1H、dd、J=5、9Hz) 5.20(1H、d、J=5Hz) 4.60(2H、s) 4.25(2H、ABq、J=13Hz) 3.90(3H、s) 3.74(2H、ABq、J=18Hz) (5) 7−〔2−{2−(2−チエニル)アセトキシ
イミノ}−2−フエニルアセトアミド〕−3−
(1−メチル−1H−テトラゾール−5−イル)
チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸
(シン異性体)。淡黄色粉末、mp118℃(分
解)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3280、1785、1735、1680cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 9.98(1H、d、J=8Hz) 7.2〜7.8(6H、m) 6.8〜7.1(2H、m) 5.85(1H、dd、J=5、8Hz) 5.18(1H、d、J=5Hz) 4.28(2H、ABq、J=13Hz) 4.10(2H、s) 3.86(3H、s) 3.73(2H、ABq、J=17Hz) (6) 7−〔2−(2−フエニルアセトキシイミノ)
−2−フエニルアセトアミド〕−3−(1−メチ
ル−1H−テトラゾール−5−イル)チオメチ
ル−3−セフエム−4−カルボン酸(シン異性
体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3300、1790、1770cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.16(1H、d、J=9Hz) 7.2〜7.8(10H、m) 5.95(1H、dd、J=5、9Hz) 5.30(1H、d、J=5Hz) 4.36(2H、ABq、J=14Hz) 3.92(3H、s) 3.91(2H、s) 3.80(2H、ABq、J=18Hz) (7) 7−〔2−{2−(4−クロロフエノキシ)ア
セトキシイミノ}−2−フエニルアセトアミ
ド〕−3−(1−メチル−1H−テトラゾール−
5−イル)チオメチル−3−セフエム−4−カ
ルボン酸(シン異性体)。淡黄色粉末。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 1785、1720、1675cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.4(1H、d、J=9Hz) 7.4〜7.7(5H、m) 7.30(2H、d、J=9Hz) 6.96(2H、d、J=9Hz) 5.88(1H、dd、J=5、9Hz) 5.20(1H、d、J=5Hz) 5.04(2H、s) 4.30(2H、ABq、J=14Hz) 3.90(3H、s) 3.72(2H、ABq、J=18Hz) (8) 7−〔2−(4−クロロベンゾイルオキシイミ
ノ)−2−フエニルアセトアミド〕−3−(1−
メチル−1H−テトラゾール−5−イル)チオ
メチル−3−セフエム−4−カルボン酸(シン
異性体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 1790、1760、1720、1680cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.28(1H、d、J=9Hz) 8.10(2H、d、J=8Hz) 7.5〜7.8(7H、m) 6.08(1H、dd、J=5、9Hz) 5.32(1H、d、J=5Hz) 4.36(2H、ABq、J=14Hz) 3.94(3H、s) 3.76(2H、ABq、J=18Hz) (9) 7−〔2−(3−メトキシカルボニルプロピオ
ニルオキシイミノ)−2−フエニルアセトアミ
ド〕−3−(1−メチル−1H−テトラゾール−
5−イル)チオメチル−3−セフエム−4−カ
ルボン酸(シン異性体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3250、1780、1730、1680cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.05(1H、d、J=9Hz) 7.30〜7.90(5H、m) 5.94(1H、dd、J=5、9Hz) 5.22(1H、d、J=5Hz) 4.34(2H、ABq、J=13Hz) 3.94(3H、s) 3.75(2H、ABq、J=18Hz) 3.62(3H、s) 2.40〜3.0(4H、m) (10) 7−(2−イソブチリルオキシイミノ−2−
フエニルアセトアミド)−3−(1−メチル−
1H−テトラゾール−5−イル)チオメチル−
3−セフエム−4−カルボン酸(シン異性
体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3250、1780、1720、1675cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.10(1H、d、J=9Hz) 7.30〜7.90(5H、m) 5.97(1H、dd、J=5、9Hz) 5.26(1H、d、J=5Hz) 4.36(2H、ABq、J=13Hz) 3.96(3H、s) 3.80(2H、ABq、J=18Hz) 2.79(1H、quintet、J=7Hz) 1.20(6H、d、J=7Hz) (11) 7−(2−サリチロイルオキシイミノ−2−
フエニルアセトアミド)−3−(1−メチル−
1H−テトラゾール−5−イル)チオメチル−
3−セフエム−4−カルボン酸(シン異性
体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3300、1790、1710cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.14(1H、d、J=9Hz) 7.20〜7.90(7H、m) 6.70〜7.10(2H、m) 5.93(1H、dd、J=5、9Hz) 5.17(1H、d、J=5Hz) 4.27(2H、ABq、J=13Hz) 3.88(3H、s) 3.68(2H、ABq、J=18Hz) (12) 7−(2−ニコチノイルオキシイミノ−2−
フエニルアセトアミド)−3−(1−メチル−
1H−テトラゾール−5−イル)チオメチル−
3−セフエム−4−カルボン酸(シン異性
体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3250、1765、1680、1665cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.3(1H、d、J=9Hz) 9.16(1H、broad s) 8.88(1H、m) 8.38(1H、m) 7.25〜8.10(6H、m) 6.04(1H、dd、J=5、9Hz) 5.24(1H、d、J=5Hz) 4.32(2H、ABq、J=13Hz) 3.97(3H、s) 3.72(2H、ABq、J=18Hz) (13) 7−〔2−(4−ニトロベンゾイルオキシイ
ミノ)−2−フエニルアセトアミド〕−3−(1
−メチル−1H−テトラゾール−5−イル)チ
オメチル−3−セフエム−4−カルボン酸(シ
ン異性体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3300、1780、1760、1680cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.31(1H、d、J=9Hz) 8.15〜8.65(4H、m) 7.40〜7.95(5H、m) 6.10(1H、dd、J=5、9Hz) 5.30(1H、d、J=5Hz) 4.35(2H、ABq、J=13Hz) 3.94(3H、s) 3.66(2H、ABq、J=18Hz) (14) 7−〔2−(p−アニソイルオキシイミノ)
−2−フエニルアセトアミド〕−3−(1−メチ
ル−1H−テトラゾール−5−イル)チオメチ
ル−3−セフエム−4−カルボン酸(シン異性
体)。mp104℃(分解)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3280、1786、1745、1676cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.07(1H、d、J=8Hz) 7.91(2H、d、J=9Hz) 7.3〜7.9(5H、m) 7.00(2H、d、J=9Hz) 5.96(1H、dd、J=5、8Hz) 5.20(1H、d、J=5Hz) 4.28(2H、ABq、J=13Hz) 3.88(3H、s) 3.79(3H、s) 3.69(2H、ABq、J=18Hz) (15) 7−〔2−(4−イソプロピルベンゾイルオ
キシイミノ)−2−フエニルアセトアミド〕−3
−(1−メチル−1H−テトラゾール−5−イ
ル)チオメチル−3−セフエム−4−カルボン
酸(シン異性体)。mp129℃(分解)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3270、1789、1747、1683cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.14(1H、d、J=8Hz) 7.93(2H、d、J=8Hz) 7.37(2H、d、J=8Hz) 7.2〜7.9(5H、m) 6.01(1H、dd、J=5、8Hz) 5.25(1H、d、J=Hz) 4.34(2H、ABq、J=13Hz) 3.90(3H、s) 3.74(2H、ABq、J=18Hz) 2.97(1H、quintet、J=6Hz) 1.23(6H、d、J=6Hz) (16) 7−(2−シクロヘキサンカルボニルオキ
シイミノ−2−フエニルアセトアミド)−3−
(1−メチル−1H−テトラゾール−5−イル)
チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸
(シン異性体)。mp125℃(分解)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3280、1790、1735、1670cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 9.93(1H、d、J=8Hz) 7.2〜7.8(5H、m) 5.84(1H、dd、J=5、8Hz) 5.18(1H、d、J=5Hz) 4.29(2H、ABq、J=13Hz) 3.87(3H、s) 3.73(2H、ABq、J=18Hz) 0.9〜2.1(11H、m) (17) 7−(2−フエニルカルバモイルオキシイ
ミノ−2−フエニルアセトアミド)−3−(1−
メチル−1H−テトラゾール−5−イル)チオ
メチル−3−セフエム−4−カルボン酸(シン
異性体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3300、1770、1675cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.12(1H、d、J=8Hz) 9.73(1H、s) 7.0〜8.0(10H、m) 5.96(1H、dd、J=5、8Hz) 5.25(1H、d、J=5Hz) 4.32(2H、ABq、J=13Hz) 3.91(3H、s) 3.76(2H、ABq、J=18Hz) (18) 7−(2−メチルカルバモイルオキシイミ
ノ−2−フエニルアセトアミド)−3−(1−メ
チル−1H−テトラゾール−5−イル)チオメ
チル−3−セフエム−4−カルボン酸(シン異
性体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3200、1780、1722、1675cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 9.93(1H、d、J=8Hz) 7.1〜7.9(5H、m) 5.82(1H、dd、J=5、8Hz) 5.13(1H、d、J=5Hz) 4.25(2H、ABq、J=13Hz) 3.87(3H、s) 3.70(2H、ABq、J=18Hz) 2.67(3H、d、J=5Hz) (19) 7−(2−エトキシカルボニルオキシイミ
ノ−2−フエニルアセトアミド)−3−(1−メ
チル−1H−テトラゾール−5−イル)チオメ
チル−3−セフエム−4−カルボン酸(シン異
性体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3250、1780、1720、1675cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.10(1H、d、J=8Hz) 7.30〜7.90(5H、m) 5.91(1H、dd、J=5、8Hz) 5.21(1H、d、J=5Hz) 4.05〜4.60(4H、m) 3.91(3H、s) 3.75(2H、ABq、J=18Hz) 1.39(3H、t、J=6Hz) (20) 7−〔2−(2−テノイルオキシイミノ)−
2−フエニルアセトアミド〕−3−(1−メチル
−1H−テトラゾール−5−イル)チオメチル
−3−セフエム−4−カルボン酸(シン異性
体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3250、1780、1720、1662cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.25(1H、d、J=8Hz) 7.45〜8.20(7H、m) 7.15〜7.45(1H、m) 6.05(1H、dd、J=5、8Hz) 5.28(1H、d、J=5Hz) 4.35(2H、ABq、J=13Hz) 3.95(3H、s) 3.76(2H、ABq、J=18Hz) (21) 7−〔2−(2−イソプロピルチオアセトキ
シイミノ)−2−フエニルアセトアミド〕−3−
(1−メチル−1H−テトラゾール−5−イル)
チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸
(シン異性体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3250、1770、1715、1670cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 9.75(1H、d、J=8Hz) 7.20〜7.90(5H、m) 5.90(1H、dd、J=5、8Hz) 5.26(1H、d、J=5Hz) 4.38(2H、ABq、J=13Hz) 3.98(3H、s) 3.80(2H、ABq、J=17Hz) 3.28(2H、s) 3.06(1H、m) 1.24(6H、d、J=7Hz) (22) 7−〔2−(4−エトキシカルボニルベンゾ
イルオキシイミノ)−2−フエニルアセトアミ
ド〕−3−(1−メチル−1H−テトラゾール−
5−イル)チオメチル−3−セフエム−4−カ
ルボン酸(シン異性体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3250、1770、1718、1680cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.66(1H、d、J=8Hz) 8.20(4H、s) 7.33〜8.00(5H、m) 6.11(1H、dd、J=5、8Hz) 5.33(1H、d、J=5Hz) 4.06〜4.66(1H、m) 3.98(3H、s) 3.78(2H、broad s) 1.36(3H、t、J=7Hz) (23) 7−(2−イソブトキシカルボニルオキシ
イミノ−2−フエニルアセトアミド)−3−(1
−メチル−1H−テトラゾール−5−イル)チ
オメチル−3−セフエム−4−カルボン酸(シ
ン異性体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3250、1775、1710、1672cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.10(1H、d、J=8Hz) 7.20〜7.90(5H、m) 5.91(1H、dd、J=5、8Hz) 5.21(1H、d、J=5Hz) 4.32(2H、ABq、J=13Hz) 4.06(2H、d、J=7Hz) 3.95(3H、s) 3.74(2H、ABq、J=18Hz) 2.00(1H、m) 1.93(6H、d、J=7Hz) (24) 7−(2−ベンジルオキシカルボニルオキ
シイミノ−2−フエニルアセトアミド)−3−
(1−メチル−1H−テトラゾール−5−イル)
チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸
(シン異性体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3200、1780、1715、1675cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.14(1H、d、J=8Hz) 7.10〜7.90(10H、m) 5.91(1H、dd、J=5、8Hz) 5.29(2H、s) 5.18(1H、d、J=5Hz) 4.30(2H、ABq、J=13Hz) 3.90(3H、s) 3.70(2H、ABq、J=18Hz) (25) 7−(2−ピバロイルオキシイミノ−2−
フエニルアセトアミド)−3−(1−メチル−
1H−テトラゾール−5−イル)チオメチル−
3−セフエム−4−カルボン酸(シン異性
体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3250、1790、1760、1710、1655cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.16(1H、d、J=8Hz) 7.3〜8.0(5H、m) 5.98(1H、dd、J=5、8Hz) 5.22(1H、d、J=5Hz) 4,33(2H、ABq、J=13Hz) 3.95(3H、s) 3.80(2H、ABq、J=17Hz) 1.24(9H、s) (26) 7−(2−ヒドロキシイミノ−2−フエニ
ルアセトアミド)−3−(1−メチル−1H−テ
トラゾール−5−イル)チオメチル−3−セフ
エム−4−カルボン酸のアルギニン塩(シン異
性体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3350、3175、1765、1655、1590〜1640cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(D2O、δ) ppm 7.36〜7.72(5H、m) 5.82(1H、d、J=5Hz) 5.20(1H、d、J=5Hz) 4.48(2H、dd、J=14Hz) 3.98(3H、s) 3.83(1H、m) 3.59(2H、dd、J=18Hz) 3.22(2H、t、J=8Hz) 1.50〜2.12(4H、m)
合は、医薬上許容される塩の形で使用してもよ
い。 この発明の化合物()およびその医薬上許容
される塩は、その有効かつ非毒性量を含有する組
成物の形で投与される。この組成物は医薬の製剤
において慣用されている無機もしくは有機のある
いは固体または液体の製剤用担体とともに、経口
または非経口投与に適した剤形で使用される。こ
の場合の経口剤としては、錠剤、カプセル剤、ト
ローチ剤、散剤等の固体製剤あるいはシロツプ剤
等の液剤が挙げられ、非経口剤としては注射剤、
坐薬等が挙げられる。これら各種の製剤は当業界
周知の方法で製造することができる。 次にこの発明を製造例および実施例により説明
する。 製造例 1 酢酸クロライド15.7gを乾燥塩化メチレン80ml
に溶解し、この溶液に氷冷撹拌下2−ヒドロキシ
イミノ−2−フエニル酢酸(シン異性体)8.25g
を加え、次いで徐々に反応温度を上げ室温で1時
間撹拌し、溶液としたのち氷冷する。析出する結
晶を石油エーテルを加えて取し、石油エーテル
で洗浄後、乾燥すると2−アセトキシイミノ−2
−フエニル酢酸(シン異性体)7.3gを得る。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 1760、1735cm-1 製造例 2 安息香酸クロライド28gを乾燥エーテル50mlに
溶解し、この溶解に2−ヒドロキシイミノ−2−
フエニル酢酸(シン異性体)8.25gを加え室温で
5時間撹拌し、析出する結晶を取後、n−ヘキ
サンで洗浄し乾燥すると2−ベンゾイルオキシイ
ミノ−2−フエニル酢酸(シン異性体)9.8gを
得る。mp145℃(分解)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 1740、1720cm-1 製造例 3 粉末化したニコチン酸クロライドの塩酸塩12.3
gを乾燥塩化メチレン75mlに懸濁し、これに2−
ヒドロキシイミノ−2−フエニル酢酸(シン異性
体)8.25gを加え室温で4.5時間撹拌する。析出
物を取後、乾燥塩化メチレン次いで石油エーテ
ルで洗浄し乾燥する。この粉末を水160mlに懸濁
し、酢酸エチル100mlを加えたのち氷冷撹拌下に
炭酸水素ナトリウム水溶液を加えてPH6として溶
解する。この溶液に次いで10%塩酸を加えてPH2
とし析出する結晶を取後、酢酸エチルで洗浄し
乾燥すると、2−ニコチノイルオキシイミノ−2
−フエニル酢酸(シン異性体)10.0gを得る。
mp233〜235℃(分解)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 1760、1710cm-1 製造例 4 桂皮酸クロライド25gを乾燥塩化メチレン80ml
に溶解し、この溶液に氷冷下2−ヒドロキシイミ
ノ−2−フエニル酢酸(シン異性体)8.25gを加
え、次いでエーテル30mlを加えたのち室温で4時
間撹拌する。析出物を取後、石油エーテルで洗
浄し、乾燥すると2−シンナモイルオキシイミノ
−2−フエニル酢酸(シン異性体とアンチ異性体
の混合物)10.0gを得る。mp138〜139℃(分
解)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 1735、1700cm-1 製造例 5 前記の製造例と同様にして次の化合物を得る。 (1) 2−(2−クロロアセトキシイミノ)−2−フ
エニル酢酸(シン異性体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 1780、1740cm-1 (2) 2−〔2−(2−チエニル)アセトキシイミ
ノ〕−2−フエニル酢酸(シン異性体)。mp112
℃(分解)。 (3) 2−(2−フエニルアセトキシイミノ)−2−
フエニル酢酸(シン異性体)。mp135〜136℃
(分解)。 (4) 2−〔2−(4−クロロフエノキシ)アセトキ
シイミノ〕−2−フエニル酢酸(シン異性体)。
mp132〜133℃。 (5) 2−(4−クロロベンゾイルオキシイミノ)−
2−フエニル酢酸(シン異性体)。mp184〜185
℃(分解)。 (6) 2−(3−メトキシカルボニルプロピオニル
オキシイミノ)−2−フエニル酢酸(シン異性
体)。mp90〜92℃(分解)。 (7) 2−イソブチリルオキシイミノ−2−フエニ
ル酢酸(シン異性体)。mp127〜128℃(分
解)。 (8) 2−サリチロイルオキシイミノ−2−フエニ
ル酢酸(シン異性体)。mp120〜122℃(分
解)。 (9) 2−(4−ニトロベンゾイルオキシイミノ)−
2−フエニル酢酸(シン異性体)。mp238〜239
℃。 (10) 2−(p−アニソイルオキシイミノ)−2−フ
エニル酢酸(シン異性体)。mp147℃(分解)。 (11) 2−(4−イソプロピルベンゾイルオキシイ
ミノ)−2−フエニル酢酸(シン異性体)。
mp148℃(分解)。 (12) 2−シクロヘキサンカルボニルオキシイミノ
−2−フエニル酢酸(シン異性体)。mp135℃
(分解)。 (13) 2−(2−イソプロピルチオアセトキシイ
ミノ)−2−フエニル酢酸(シン異性体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 1765、1740cm-1 実施例 1 ジメチルホルムアミド8.1gに冷却下オキシ塩
化りん16.1gを加え40℃で1時間撹拌する。反応
後に乾燥塩化メチレン40mlを加え減圧下に濃縮す
る。残渣に乾燥酢酸エチル40mlを加え、次いで氷
冷撹拌下に2−ジクロロアセトキシイミノ−2−
フエニル酢酸(シン異性体)30.3gを加えたのち
冷却下に30分間撹拌する。一方、7−アミノ−3
−(1−メチル−1H−テトラゾール−5−イル)
チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸32.8
gおよびビス(トリメチルシリル)アセトアミド
50.8gを乾燥酢酸エチル200mlに溶解する。この
溶液に上記で得た溶液を−15℃に冷却したのち−
25〜−10℃で加え、次いで−20〜−5℃で2時間
撹拌する。反応液に−10℃で水250mlを加え、20
分間室温で撹拌する。酢酸エチル層を分取後、水
層を酢酸エチル100mlで2回抽出し先の酢酸エチ
ル層と合わす。7−(2−ジクロロアセトキシイ
ミノ−2−フエニルアセトアミド)−3−(1−メ
チル−1H−テトラゾール−5−イル)チオメチ
ル−3−セフエム−4−カルボン酸(シン異性
体)を含有するこの酢酸エチル溶液を活性炭で処
理したのち、10%塩化ナトリウム水溶液250mlを
加え、次いで炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて
PH6.3〜6.5とし、冷所に一夜放置する。析出物を
取後乾燥すると、7−(2−ヒドロキシイミノ
−2−フエニルアセトアミド)−3−(1−メチル
−1H−テトラゾール−5−イル)チオメチル−
3−セフエム−4−カルボン酸のナトリウム塩
(シン異性体)43.0gを得る。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3200、1760、1660cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(D2O、δ) ppm 7.10〜7.80(5H、m) 5.82(1H、d、J=5Hz) 5.14(1H、d、J=5Hz) 4.12(2H、ABq、J=13Hz) 3.90(3H、s) 3.53(2H、ABq、J=18Hz) 実施例 2 ジメチルホルムアミド1.46gおよびチオニルク
ロライド2.4gを40℃で30分間加温し、減圧下に
濃縮後、残渣に乾燥エーテルを加えて、これを減
圧下に濃縮する。結晶性残渣に塩化メチレン30ml
を加え、次いで2−ヒドロキシイミノ−2−フエ
ニル酢酸(シン異性体)1.65gを加えて、−30℃
で30分間撹拌する。この溶液を−40℃に冷却撹拌
下、この溶液に7−アミノ−3−(1−メチル−
1H−テトラゾール−5−イル)チオメチル−3
−セフエム−4−カルボン酸3g、ビス(トリメ
チルシリル)アセトアミド4.2gおよび塩化メチ
レン30mlの氷冷溶液を一時に加え、同温度で30分
間撹拌、次いで−10℃で1時間撹拌する。反応液
に水10mlを加え、塩化メチレンを減圧下に留去し
たのち水20mlおよび酢酸エチル30mlを加えてよく
振とうする。この混液に氷冷下、飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液を滴下してPH7.5とする。水層を
分取し、希塩酸でPH6としたのちエーテルで洗浄
する。水層をさらに希塩酸でPH2とし、酢酸エチ
ルで抽出し、不溶の7−アミノ−3−(1−メチ
ル−1H−テトラゾール−5−イル)チオメチル
−3−セフエム−4−カルボン酸を去する。抽
出液を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、硫酸
マグネシウムで乾燥する。乾燥後、活性炭で処理
し、溶媒を減圧下に留去したのち残渣をジイソプ
ロピルエーテルで粉末化し、これを取すると7
−(2−ヒドロキシイミノ−2−フエニルアセト
アミド)−3−(1−メチル−1H−テトラゾール
−5−イル)チオメチル−3−セフエム−4−カ
ルボン酸(シン異性体)0.15gを得る。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3200(broad)、1770、1710、1665cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスルホ
キシド、δ) ppm 11.65(1H、s) 9.68(1H、d、J=9Hz) 7.3〜7.8(5H、m) 5.79(1H、dd、J=5、9Hz) 5.2(1H、d、J=5Hz) 4.31(2H、ABq、J=13Hz) 3.9(3H、s) 3.72(2H、ABq、J=18Hz) 実施例 3 2−ジクロロアセトキシイミノ−2−フエニル
酢酸(シン異性体)9.11gを乾燥塩化メチレン
100mlに懸濁し、これに氷冷下5塩化りん7.56g
を加え、30分間同温度で撹拌する。氷冷下、塩化
メチレンを減圧下に留去し、残渣に乾燥ベンゼン
を加えて減圧下に留去する操作を2度繰返す。残
渣を乾燥テトラヒドロフラン60mlに溶解する。一
方、炭酸水素ナトリウム8.32gを水120mlに溶解
し、これに次いで7−アミノ−3−(1・3・4
−チアジアゾール−2−イル)チオメチル−3−
セフエム−4−カルボン酸9.9gを加えて溶解し
たのちこの溶液にアセトン150mlを加える。この
溶液に−5〜2℃で上記で得られた酸クロライド
の溶液を反応液のPHをトリエチルアミンで7以上
に保ちながら滴下し、同温度で30分間撹拌する。
反応後、水200mlを加えて、アセトンを減圧下に
留去したのち氷冷下炭酸水素ナトリウム水溶液で
約PH8とし10分間撹拌する。溶液を酢酸エチルで
洗浄後、水層を氷冷下10%塩酸で約PH55とし酢酸
エチルで洗浄する。次いで約PH2とし、酢酸エチ
ルで3回抽出し、不溶の7−アミノ−3−(1・
3・4−チアジアゾール−2−イル)チオメチル
−3−セフエム−4−カルボン酸2gを取す
る。抽出液を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄
後、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去
し、残渣にエーテルを加えて粉末化し、一夜撹拌
後、取、乾燥すると7−(2−ヒドロキシイミ
ノ−2−フエニルアセトアミド)−3−(1・3・
4−チアジアゾール−2−イル)チオメチル−3
−セフエム−4−カルボン酸(シン異性体)8.25
gを得る。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3200(broad)、1775、1710、1665cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスルホ
キシド、δ) ppm 11.65(1H、s) 9.50(1H、s) 9.67(1H、d、J=9Hz) 7.25〜7.80(5H、m) 5.88(1H、dd、J=5、9Hz) 5.20(1H、d、J=5Hz) 4.46(2H、ABq、J=13Hz) 3.74(2H、ABq、J=18Hz) 実施例 4 (イ) 2−アセトキシイミノ−2−フエニル酢酸
(シン異性体)2.28gを乾燥塩化メチレン30ml
に懸濁し、氷冷撹拌下5塩化りん2.5gを加
え、同温で40分間撹拌する。低温で減圧下に反
応液を濃縮し、残渣に乾燥ベンゼンを加え減圧
下に濃縮する操作を2度繰返す。残渣を乾燥塩
化メチレン20mlに溶解する。一方、7−アミノ
−3−(1−メチル−1H−テトラゾール−5−
イル)チオメチル−3−セフエム−4−カルボ
ン酸3.28gおよびビス(トリメチルシリル)ア
セトアミド4.1gを塩化メチレン50mlに溶解
し、この溶液に−40℃に冷却下、上記で得られ
た酸クロライドの溶液を加え、−40〜−10℃で
1時間撹拌する。−40℃に冷却下、水を加え、
溶媒を留去する。残渣に水および酢酸エチルを
加え、不溶物を去し、酢酸エチル抽出液を飽
和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、硫酸マグネ
シウムで乾燥する。溶媒を留去し、残渣にエー
テルを加え、粉末化し一夜撹拌後、取、乾燥
すると7−(2−アセトキシイミノ−2−フエ
ニルアセトアミド)−3−(1−メチル−1H−
テトラゾール−5−イル)チオメチル−3−セ
フエム−4−カルボン酸(シン異性体)3.95g
を得る。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3250、1780、1710、1670cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド) ppm 10.05(1H、d、J=9Hz) 7.5〜7.85(5H、m) 5.90(1H、dd、J=5、9Hz) 5.20(1H、d、J=5Hz) 4.32(2H、ABq、J=13Hz) 3.92(3H、s) 3.75(2H、ABq、J=18Hz) 2.20(3H、s) (ロ) 2−アセトキシイミノ−2−フエニル酢酸
(シン異性体)2.28gを乾燥塩化メチレン30ml
に懸濁し、氷冷撹拌下にこれに5塩化りん2.5
gを加えて同温度で40分間撹拌する。低温で減
圧下に溶液を濃縮し、残渣に乾燥ベンゼンを加
え、減圧下に濃縮する操作を2度繰返す。次い
で残渣を乾燥テトラヒドロフラン20mlに溶解す
る。一方、7−アミノ−3−(1−メチル−1H
−テトラゾール−5−イル)チオメチル−3−
セフエム−4−カルボン酸3.28gおよび炭酸水
素ナトリウム2.8gをアセトン:水(1:1)
の混液60mlに溶解し、0〜5℃に冷却下、この
溶液に上記で得られた酸クロライドの溶液を反
応液のPHを7以上に保ちながら滴下する。同温
度で30分間撹拌後、減圧下に低温で溶媒を留去
し、残渣に水少量を加える。10%塩酸を加えて
PH5.5としたのち酢酸エチルで洗浄し、水層を
さらに10%塩酸でPH2とし、酢酸エチルで抽出
する。抽出液は、飽和塩化ナトリウム水溶液で
洗浄後、乾燥する。乾燥後、溶媒を留去し、残
渣にエーテルを加え一夜撹拌後、粉末を取、
乾燥すると、7−(2−アセトキシイミノ−2
−フエニルアセトアミド)−3−(1−メチル−
1H−テトラゾール−5−イル)チオメチル−
3−セフエム−4−カルボン酸(シン異性体)
2.9gを得る。このものは、前記実施例4−(イ)
で得た標品と赤外線吸収スペクトルおよび核磁
気共鳴吸収スペクトルにより同定した。 実施例 5 前記の実施例と同様にして次の化合物を得る。 (1) 7−(2−ヒドロキシイミノ−2−フエニル
アセトアミド)−3−(1H−テトラゾール−5
−イル)チオメチル−3−セフエム−4−カル
ボン酸(シン異性体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3200(broad)、1770、1710、1665cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 11.65(1H、s) 9.65(1H、d、J=9Hz) 7.3〜7.8(5H、m) 5.88(1H、dd、J=5、9Hz) 5.20(1H、d、J=5Hz) 4.34(2H、ABq、J=13Hz) 3.74(2H、ABq、J=18Hz) (2) 7−(2−ベンゾイルオキシイミノ−2−フ
エニルアセトアミド)−3−(1−メチル−1H
−テトラゾール−5−イル)チオメチル−3−
セフエム−4−カルボン酸(シン異性体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3225、1780、1738、1710、1660cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.25(1H、d、J=9Hz) 7.95〜8.25(2H、m) 7.95〜7.40(8H、m) 6.08(1H、dd、J=5、9Hz) 5.28(1H、d、J=5Hz) 4.34(2H、ABq、J=13Hz) 3.95(3H、s) (3) 7−(2ベンゾイルオキシイミノ−2−フエ
ニルアセトアミド)−3−(1・3・4−チアジ
アゾール−2−イル)チオメチル−3−セフエ
ム−4−カルボン酸(シン異性体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3250、1780、1735、1710、1670cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.20(1H、d、J=9Hz) 9.50(1H、s) 7.15〜8.15(10H、m) 6.06(1H、dd、J=5、9Hz) 5.28(1H、d、J=5Hz) 4.40(2H、ABq、J=13Hz) 3.73(2H、ABq、J=18Hz) (4) 7−〔2−(2−クロロアセトキシイミノ)−
2−フエニルアセトアミド〕−3−(1−メチル
−1H−テトラゾール−5−イル)チオメチル
−3−セフエム−4−カルボン酸(シン異性
体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3210、1775、1710、1665cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.13(1H、d、J=9Hz) 7.30〜7.87(5H、m) 5.90(1H、dd、J=5、9Hz) 5.20(1H、d、J=5Hz) 4.60(2H、s) 4.25(2H、ABq、J=13Hz) 3.90(3H、s) 3.74(2H、ABq、J=18Hz) (5) 7−〔2−{2−(2−チエニル)アセトキシ
イミノ}−2−フエニルアセトアミド〕−3−
(1−メチル−1H−テトラゾール−5−イル)
チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸
(シン異性体)。淡黄色粉末、mp118℃(分
解)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3280、1785、1735、1680cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 9.98(1H、d、J=8Hz) 7.2〜7.8(6H、m) 6.8〜7.1(2H、m) 5.85(1H、dd、J=5、8Hz) 5.18(1H、d、J=5Hz) 4.28(2H、ABq、J=13Hz) 4.10(2H、s) 3.86(3H、s) 3.73(2H、ABq、J=17Hz) (6) 7−〔2−(2−フエニルアセトキシイミノ)
−2−フエニルアセトアミド〕−3−(1−メチ
ル−1H−テトラゾール−5−イル)チオメチ
ル−3−セフエム−4−カルボン酸(シン異性
体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3300、1790、1770cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.16(1H、d、J=9Hz) 7.2〜7.8(10H、m) 5.95(1H、dd、J=5、9Hz) 5.30(1H、d、J=5Hz) 4.36(2H、ABq、J=14Hz) 3.92(3H、s) 3.91(2H、s) 3.80(2H、ABq、J=18Hz) (7) 7−〔2−{2−(4−クロロフエノキシ)ア
セトキシイミノ}−2−フエニルアセトアミ
ド〕−3−(1−メチル−1H−テトラゾール−
5−イル)チオメチル−3−セフエム−4−カ
ルボン酸(シン異性体)。淡黄色粉末。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 1785、1720、1675cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.4(1H、d、J=9Hz) 7.4〜7.7(5H、m) 7.30(2H、d、J=9Hz) 6.96(2H、d、J=9Hz) 5.88(1H、dd、J=5、9Hz) 5.20(1H、d、J=5Hz) 5.04(2H、s) 4.30(2H、ABq、J=14Hz) 3.90(3H、s) 3.72(2H、ABq、J=18Hz) (8) 7−〔2−(4−クロロベンゾイルオキシイミ
ノ)−2−フエニルアセトアミド〕−3−(1−
メチル−1H−テトラゾール−5−イル)チオ
メチル−3−セフエム−4−カルボン酸(シン
異性体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 1790、1760、1720、1680cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.28(1H、d、J=9Hz) 8.10(2H、d、J=8Hz) 7.5〜7.8(7H、m) 6.08(1H、dd、J=5、9Hz) 5.32(1H、d、J=5Hz) 4.36(2H、ABq、J=14Hz) 3.94(3H、s) 3.76(2H、ABq、J=18Hz) (9) 7−〔2−(3−メトキシカルボニルプロピオ
ニルオキシイミノ)−2−フエニルアセトアミ
ド〕−3−(1−メチル−1H−テトラゾール−
5−イル)チオメチル−3−セフエム−4−カ
ルボン酸(シン異性体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3250、1780、1730、1680cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.05(1H、d、J=9Hz) 7.30〜7.90(5H、m) 5.94(1H、dd、J=5、9Hz) 5.22(1H、d、J=5Hz) 4.34(2H、ABq、J=13Hz) 3.94(3H、s) 3.75(2H、ABq、J=18Hz) 3.62(3H、s) 2.40〜3.0(4H、m) (10) 7−(2−イソブチリルオキシイミノ−2−
フエニルアセトアミド)−3−(1−メチル−
1H−テトラゾール−5−イル)チオメチル−
3−セフエム−4−カルボン酸(シン異性
体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3250、1780、1720、1675cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.10(1H、d、J=9Hz) 7.30〜7.90(5H、m) 5.97(1H、dd、J=5、9Hz) 5.26(1H、d、J=5Hz) 4.36(2H、ABq、J=13Hz) 3.96(3H、s) 3.80(2H、ABq、J=18Hz) 2.79(1H、quintet、J=7Hz) 1.20(6H、d、J=7Hz) (11) 7−(2−サリチロイルオキシイミノ−2−
フエニルアセトアミド)−3−(1−メチル−
1H−テトラゾール−5−イル)チオメチル−
3−セフエム−4−カルボン酸(シン異性
体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3300、1790、1710cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.14(1H、d、J=9Hz) 7.20〜7.90(7H、m) 6.70〜7.10(2H、m) 5.93(1H、dd、J=5、9Hz) 5.17(1H、d、J=5Hz) 4.27(2H、ABq、J=13Hz) 3.88(3H、s) 3.68(2H、ABq、J=18Hz) (12) 7−(2−ニコチノイルオキシイミノ−2−
フエニルアセトアミド)−3−(1−メチル−
1H−テトラゾール−5−イル)チオメチル−
3−セフエム−4−カルボン酸(シン異性
体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3250、1765、1680、1665cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.3(1H、d、J=9Hz) 9.16(1H、broad s) 8.88(1H、m) 8.38(1H、m) 7.25〜8.10(6H、m) 6.04(1H、dd、J=5、9Hz) 5.24(1H、d、J=5Hz) 4.32(2H、ABq、J=13Hz) 3.97(3H、s) 3.72(2H、ABq、J=18Hz) (13) 7−〔2−(4−ニトロベンゾイルオキシイ
ミノ)−2−フエニルアセトアミド〕−3−(1
−メチル−1H−テトラゾール−5−イル)チ
オメチル−3−セフエム−4−カルボン酸(シ
ン異性体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3300、1780、1760、1680cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.31(1H、d、J=9Hz) 8.15〜8.65(4H、m) 7.40〜7.95(5H、m) 6.10(1H、dd、J=5、9Hz) 5.30(1H、d、J=5Hz) 4.35(2H、ABq、J=13Hz) 3.94(3H、s) 3.66(2H、ABq、J=18Hz) (14) 7−〔2−(p−アニソイルオキシイミノ)
−2−フエニルアセトアミド〕−3−(1−メチ
ル−1H−テトラゾール−5−イル)チオメチ
ル−3−セフエム−4−カルボン酸(シン異性
体)。mp104℃(分解)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3280、1786、1745、1676cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.07(1H、d、J=8Hz) 7.91(2H、d、J=9Hz) 7.3〜7.9(5H、m) 7.00(2H、d、J=9Hz) 5.96(1H、dd、J=5、8Hz) 5.20(1H、d、J=5Hz) 4.28(2H、ABq、J=13Hz) 3.88(3H、s) 3.79(3H、s) 3.69(2H、ABq、J=18Hz) (15) 7−〔2−(4−イソプロピルベンゾイルオ
キシイミノ)−2−フエニルアセトアミド〕−3
−(1−メチル−1H−テトラゾール−5−イ
ル)チオメチル−3−セフエム−4−カルボン
酸(シン異性体)。mp129℃(分解)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3270、1789、1747、1683cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.14(1H、d、J=8Hz) 7.93(2H、d、J=8Hz) 7.37(2H、d、J=8Hz) 7.2〜7.9(5H、m) 6.01(1H、dd、J=5、8Hz) 5.25(1H、d、J=Hz) 4.34(2H、ABq、J=13Hz) 3.90(3H、s) 3.74(2H、ABq、J=18Hz) 2.97(1H、quintet、J=6Hz) 1.23(6H、d、J=6Hz) (16) 7−(2−シクロヘキサンカルボニルオキ
シイミノ−2−フエニルアセトアミド)−3−
(1−メチル−1H−テトラゾール−5−イル)
チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸
(シン異性体)。mp125℃(分解)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3280、1790、1735、1670cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 9.93(1H、d、J=8Hz) 7.2〜7.8(5H、m) 5.84(1H、dd、J=5、8Hz) 5.18(1H、d、J=5Hz) 4.29(2H、ABq、J=13Hz) 3.87(3H、s) 3.73(2H、ABq、J=18Hz) 0.9〜2.1(11H、m) (17) 7−(2−フエニルカルバモイルオキシイ
ミノ−2−フエニルアセトアミド)−3−(1−
メチル−1H−テトラゾール−5−イル)チオ
メチル−3−セフエム−4−カルボン酸(シン
異性体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3300、1770、1675cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.12(1H、d、J=8Hz) 9.73(1H、s) 7.0〜8.0(10H、m) 5.96(1H、dd、J=5、8Hz) 5.25(1H、d、J=5Hz) 4.32(2H、ABq、J=13Hz) 3.91(3H、s) 3.76(2H、ABq、J=18Hz) (18) 7−(2−メチルカルバモイルオキシイミ
ノ−2−フエニルアセトアミド)−3−(1−メ
チル−1H−テトラゾール−5−イル)チオメ
チル−3−セフエム−4−カルボン酸(シン異
性体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3200、1780、1722、1675cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 9.93(1H、d、J=8Hz) 7.1〜7.9(5H、m) 5.82(1H、dd、J=5、8Hz) 5.13(1H、d、J=5Hz) 4.25(2H、ABq、J=13Hz) 3.87(3H、s) 3.70(2H、ABq、J=18Hz) 2.67(3H、d、J=5Hz) (19) 7−(2−エトキシカルボニルオキシイミ
ノ−2−フエニルアセトアミド)−3−(1−メ
チル−1H−テトラゾール−5−イル)チオメ
チル−3−セフエム−4−カルボン酸(シン異
性体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3250、1780、1720、1675cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.10(1H、d、J=8Hz) 7.30〜7.90(5H、m) 5.91(1H、dd、J=5、8Hz) 5.21(1H、d、J=5Hz) 4.05〜4.60(4H、m) 3.91(3H、s) 3.75(2H、ABq、J=18Hz) 1.39(3H、t、J=6Hz) (20) 7−〔2−(2−テノイルオキシイミノ)−
2−フエニルアセトアミド〕−3−(1−メチル
−1H−テトラゾール−5−イル)チオメチル
−3−セフエム−4−カルボン酸(シン異性
体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3250、1780、1720、1662cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.25(1H、d、J=8Hz) 7.45〜8.20(7H、m) 7.15〜7.45(1H、m) 6.05(1H、dd、J=5、8Hz) 5.28(1H、d、J=5Hz) 4.35(2H、ABq、J=13Hz) 3.95(3H、s) 3.76(2H、ABq、J=18Hz) (21) 7−〔2−(2−イソプロピルチオアセトキ
シイミノ)−2−フエニルアセトアミド〕−3−
(1−メチル−1H−テトラゾール−5−イル)
チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸
(シン異性体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3250、1770、1715、1670cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 9.75(1H、d、J=8Hz) 7.20〜7.90(5H、m) 5.90(1H、dd、J=5、8Hz) 5.26(1H、d、J=5Hz) 4.38(2H、ABq、J=13Hz) 3.98(3H、s) 3.80(2H、ABq、J=17Hz) 3.28(2H、s) 3.06(1H、m) 1.24(6H、d、J=7Hz) (22) 7−〔2−(4−エトキシカルボニルベンゾ
イルオキシイミノ)−2−フエニルアセトアミ
ド〕−3−(1−メチル−1H−テトラゾール−
5−イル)チオメチル−3−セフエム−4−カ
ルボン酸(シン異性体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3250、1770、1718、1680cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.66(1H、d、J=8Hz) 8.20(4H、s) 7.33〜8.00(5H、m) 6.11(1H、dd、J=5、8Hz) 5.33(1H、d、J=5Hz) 4.06〜4.66(1H、m) 3.98(3H、s) 3.78(2H、broad s) 1.36(3H、t、J=7Hz) (23) 7−(2−イソブトキシカルボニルオキシ
イミノ−2−フエニルアセトアミド)−3−(1
−メチル−1H−テトラゾール−5−イル)チ
オメチル−3−セフエム−4−カルボン酸(シ
ン異性体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3250、1775、1710、1672cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.10(1H、d、J=8Hz) 7.20〜7.90(5H、m) 5.91(1H、dd、J=5、8Hz) 5.21(1H、d、J=5Hz) 4.32(2H、ABq、J=13Hz) 4.06(2H、d、J=7Hz) 3.95(3H、s) 3.74(2H、ABq、J=18Hz) 2.00(1H、m) 1.93(6H、d、J=7Hz) (24) 7−(2−ベンジルオキシカルボニルオキ
シイミノ−2−フエニルアセトアミド)−3−
(1−メチル−1H−テトラゾール−5−イル)
チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸
(シン異性体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3200、1780、1715、1675cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.14(1H、d、J=8Hz) 7.10〜7.90(10H、m) 5.91(1H、dd、J=5、8Hz) 5.29(2H、s) 5.18(1H、d、J=5Hz) 4.30(2H、ABq、J=13Hz) 3.90(3H、s) 3.70(2H、ABq、J=18Hz) (25) 7−(2−ピバロイルオキシイミノ−2−
フエニルアセトアミド)−3−(1−メチル−
1H−テトラゾール−5−イル)チオメチル−
3−セフエム−4−カルボン酸(シン異性
体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3250、1790、1760、1710、1655cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(d6−ジメチルスル
ホキシド、δ) ppm 10.16(1H、d、J=8Hz) 7.3〜8.0(5H、m) 5.98(1H、dd、J=5、8Hz) 5.22(1H、d、J=5Hz) 4,33(2H、ABq、J=13Hz) 3.95(3H、s) 3.80(2H、ABq、J=17Hz) 1.24(9H、s) (26) 7−(2−ヒドロキシイミノ−2−フエニ
ルアセトアミド)−3−(1−メチル−1H−テ
トラゾール−5−イル)チオメチル−3−セフ
エム−4−カルボン酸のアルギニン塩(シン異
性体)。 赤外線吸収スペクトル(ヌジヨール) 3350、3175、1765、1655、1590〜1640cm-1 核磁気共鳴吸収スペクトル(D2O、δ) ppm 7.36〜7.72(5H、m) 5.82(1H、d、J=5Hz) 5.20(1H、d、J=5Hz) 4.48(2H、dd、J=14Hz) 3.98(3H、s) 3.83(1H、m) 3.59(2H、dd、J=18Hz) 3.22(2H、t、J=8Hz) 1.50〜2.12(4H、m)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 (式中、R1は水素原子またはアシル基を、R2はチ
アジアゾリル基、アルキル基で置換されたまたは
置換されないテトラゾリル基をそれぞれ意味す
る) で示される7−置換アセトアミド−3−置換チオ
メチル−3−セフエム−4−カルボン酸およびそ
の塩類。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP36476A JPS5283785A (en) | 1976-01-01 | 1976-01-01 | 7-substituted acetamide-3-substituted thiomethyl-3-cephem-4-carboxyric acid, its derivative and salt |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP36476A JPS5283785A (en) | 1976-01-01 | 1976-01-01 | 7-substituted acetamide-3-substituted thiomethyl-3-cephem-4-carboxyric acid, its derivative and salt |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5283785A JPS5283785A (en) | 1977-07-12 |
JPS6145630B2 true JPS6145630B2 (ja) | 1986-10-08 |
Family
ID=11471730
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP36476A Granted JPS5283785A (en) | 1976-01-01 | 1976-01-01 | 7-substituted acetamide-3-substituted thiomethyl-3-cephem-4-carboxyric acid, its derivative and salt |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5283785A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0222801U (ja) * | 1988-07-30 | 1990-02-15 |
-
1976
- 1976-01-01 JP JP36476A patent/JPS5283785A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0222801U (ja) * | 1988-07-30 | 1990-02-15 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5283785A (en) | 1977-07-12 |
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