JPS6144427Y2 - - Google Patents

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JPS6144427Y2
JPS6144427Y2 JP1980062941U JP6294180U JPS6144427Y2 JP S6144427 Y2 JPS6144427 Y2 JP S6144427Y2 JP 1980062941 U JP1980062941 U JP 1980062941U JP 6294180 U JP6294180 U JP 6294180U JP S6144427 Y2 JPS6144427 Y2 JP S6144427Y2
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JP
Japan
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air
air pressure
column
inclination angle
varies
Prior art date
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JP1980062941U
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Description

【考案の詳細な説明】 この考案はエヤー圧によつてテーブルの傾斜を
任意の方向へ調整できる傾斜角調整装置に関す
る。
[Detailed Description of the Invention] This invention relates to an inclination angle adjusting device that can adjust the inclination of a table in any direction using air pressure.

テーブルの傾斜角を任意の方向へ高精度に調整
する傾斜角調整装置は、たとえばX線転写装置等
に適用される。このX線転写装置は第1図で示す
ように、マスクaとウエハbとのギヤツプgは10
μm±1μmに保たれるが、このギヤツプgはで
きるだけ狭い方が良いが、ウエハbの厚さのバラ
ツキおよびウエハbの場所による厚さのバラツキ
のためマスクaとの接触防止上、現在10μm±1
μmと定めてある。
A tilt angle adjustment device that adjusts the tilt angle of a table in any direction with high precision is applied to, for example, an X-ray transfer device. As shown in Fig. 1, this X-ray transfer device has a gap g of 10 between mask a and wafer b.
It is better to keep the gap g as narrow as possible, but due to variations in the thickness of wafer b and variations in thickness depending on the location of wafer b, it is currently 10 μm ± 1 μm to prevent contact with mask a. 1
It is defined as μm.

また、多重露光の場合はウエハbは同一である
が、マスクaはその都度交換するためマスクaと
ウエハbの場所によるギヤツプの差が発生すると
考えられ、これが原因でパターンがぼけ、微細パ
ターンの転写が困難になると考えられる。したが
つて、上記ウエハbのチヤツクcの傾斜角を任意
に変え得る傾斜角調整装置が必要となつている。
In addition, in the case of multiple exposure, wafer b is the same, but mask a is replaced each time, so it is thought that a difference in gap occurs depending on the location of mask a and wafer b, which causes the pattern to blur and the fine pattern to be It is thought that transcription becomes difficult. Therefore, there is a need for an inclination angle adjusting device that can arbitrarily change the inclination angle of the chuck c of the wafer b.

この考案は上記事情に着目してなされたもの
で、その目的とするところは、テーブルの傾斜角
をエヤー圧の制御によつて任意に微調整できる傾
斜角調整装置を提供しようとするものである。
This invention was made in view of the above circumstances, and its purpose is to provide an inclination angle adjustment device that can finely adjust the inclination angle of the table as desired by controlling air pressure. .

以下、この考案を図面に示す一実施例にもとず
いて説明する。第2図および第3図中1は支柱
で、これは垂直に保持されているとともに上端部
には鍔状の支承部2が一体に設けられている。こ
の支承部2にはこの上面、側面および下面を覆う
円盤上のテーブル3が被嵌されている。そして、
上記支柱1の軸線4上に位置する上記支承部2の
上面とテーブル3の下面には互いに対向する切欠
部2a,3aが設けられていて、これら切欠部2
a,3a間には鋼球からなるボール5が収納され
ている。したがつて、テーブル3はボール5によ
つて支承部2に対して任意の方向へ傾斜するよう
に揺動自在に支持されている。さらに、テーブル
3の下部には支承部2の下面に対してエヤーを供
給するためのエヤー供給機構6が設けられてい
る。
This invention will be explained below based on an embodiment shown in the drawings. Reference numeral 1 in FIGS. 2 and 3 indicates a support column, which is held vertically and has a collar-shaped support portion 2 integrally provided at its upper end. A disc-shaped table 3 is fitted into the support portion 2 to cover the upper, side and lower surfaces thereof. and,
Notches 2a and 3a facing each other are provided on the upper surface of the support section 2 and the lower surface of the table 3, which are located on the axis 4 of the support column 1.
A ball 5 made of a steel ball is housed between a and 3a. Therefore, the table 3 is supported by the balls 5 so as to be swingable relative to the support portion 2 so as to be tilted in any direction. Furthermore, an air supply mechanism 6 for supplying air to the lower surface of the support portion 2 is provided at the bottom of the table 3.

このエヤー供給機構6について詳述すると、7
a,7b,7cはテーブル3を120゜間隔に3等
分したエヤー噴出ノズル群である。これらエヤー
噴出ノズル群7a,7b,7cは上記支承部2の
下面に対向する6個のノズル8…からなり、これ
らノズル8…はチユーブ9a,9b,9cによつ
て第1,第2,第3のエヤー圧可変機構10a,
10b,10cに接続されている。そして、上記
エヤー噴出ノズル群7a,7b,7cは第1,第
2,第3のエヤー圧可変機構10a,10b,1
0cによつて独立してエヤー圧を制御できるよう
になつている。これら第1,第2,第3のエヤー
圧可変機構10a,10b,10cはレギユレー
タによつて構成され、共通のエヤー供給源(図示
しない。)に接続されている。
This air supply mechanism 6 will be described in detail as follows.
A, 7b, and 7c are air jet nozzle groups that divide the table 3 into three equal parts at 120° intervals. These air jet nozzle groups 7a, 7b, 7c consist of six nozzles 8 facing the lower surface of the support portion 2, and these nozzles 8 are connected to the first, second, and third nozzles by tubes 9a, 9b, 9c. No. 3 air pressure variable mechanism 10a,
10b and 10c. The air jet nozzle groups 7a, 7b, 7c are connected to the first, second, third air pressure variable mechanisms 10a, 10b, 1
The air pressure can be controlled independently by 0c. These first, second, and third air pressure variable mechanisms 10a, 10b, and 10c are constituted by regulators and are connected to a common air supply source (not shown).

しかして、テーブル3の傾斜角を調整する場合
には、たとえば、第1のエヤー圧可変機構10a
を一定に保持し、第2,第3のエヤー圧可変機構
10b,10cをそれぞれ等しい量だけ上下させ
ると、第3図で示すx1に対してx2部分のテーブル
3がボール5を支点として上下方向に傾斜する。
したがつて、第1,第2,第3のエヤー圧可変機
構10a,10b,10cによつて一定エヤー圧
に保つことによりテーブル3は水平に保つことが
でき、第1,第2,第3のエヤー圧可変機構10
a,10b,10cを任意に可変することにより
テーブル3の傾斜角を任意の方向へ調整すること
ができる。
Therefore, when adjusting the inclination angle of the table 3, for example, the first air pressure variable mechanism 10a
is held constant and the second and third variable air pressure mechanisms 10b and 10c are moved up and down by the same amount, respectively, and the table 3 at the x 2 portion relative to x 1 shown in FIG. Tilt in the vertical direction.
Therefore, the table 3 can be kept horizontal by keeping the air pressure constant by the first, second, and third variable air pressure mechanisms 10a, 10b, and 10c, and the first, second, and third variable air pressure mechanisms Air pressure variable mechanism 10
By arbitrarily varying a, 10b, and 10c, the inclination angle of the table 3 can be adjusted in any direction.

なお、上記一実施例においては、テーブル3を
120゜づつ3等分して3組のエヤー噴出ノズル7
a,7b,7cを設けたが、3組以上であれば何
組でもよく、また、エヤー噴出ノズルを支承部2
の下面に設け、テーブル3の内面に向つて噴出す
るようにしてもよい。さらに、テーブル3の支点
はボール5に限らず、三角すいでもよい。
Note that in the above embodiment, table 3 is
Three sets of air jet nozzles 7 divided into three equal parts of 120° each
a, 7b, and 7c are provided, but any number of sets may be used as long as there are three or more sets.
It may be provided on the lower surface of the table 3 so as to eject toward the inner surface of the table 3. Furthermore, the fulcrum of the table 3 is not limited to the ball 5, but may be a triangular pyramid.

この考案は以上説明したように、支柱と、この
軸線上を支点として傾斜角が変化するテーブルと
の間のいずれか一方に、上記軸線を中心として周
縁に少なくとも3分割したエヤー噴出ノズル群を
配置し、これらノズル群に供給するエヤー圧を独
立して可変できるようにしたから、上記エヤー噴
出ノズル群に供給するエヤー圧を選択的に制御す
ることによつてテーブルを任意の方向へ傾斜でき
るとともにその傾斜角を高精度に調整できる。し
かも、エヤー圧を制御するだけで傾斜角を設定で
き、その操作が容易に行なえるという効果も奏す
る。
As explained above, in this invention, a group of air jet nozzles divided into at least three parts on the periphery around the axis is arranged on either side between the support and the table whose inclination angle changes with the axis as the fulcrum. Since the air pressure supplied to these nozzle groups can be independently varied, the table can be tilted in any direction by selectively controlling the air pressure supplied to the air jetting nozzle groups. The tilt angle can be adjusted with high precision. Moreover, the tilt angle can be set simply by controlling the air pressure, and the operation can be easily performed.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は傾斜角調整装置の使用例を示す断面
図、第2図はこの考案の一実施例を示す縦断正面
図、第3図は第2図−線に沿う断面図であ
る。 1……支柱、3……テーブル、6……エヤー供
給機構、7a〜7c……エヤー噴出ノズル群、1
0a〜10c……エヤー圧可変機構。
FIG. 1 is a sectional view showing an example of the use of the inclination angle adjustment device, FIG. 2 is a longitudinal sectional front view showing an embodiment of this invention, and FIG. 3 is a sectional view taken along the line shown in FIG. 2. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Strut, 3... Table, 6... Air supply mechanism, 7a-7c... Air jet nozzle group, 1
0a to 10c...Air pressure variable mechanism.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 支柱と、この支柱上に揺動自在に載置され支柱
の軸線上を支点として任意な方向に傾斜角が変化
するテーブルと、上記支柱とテーブルとの対面す
る部分に設けられ、エヤーを噴出しそのエヤー圧
力によつてテーブルの傾斜角を可変するエヤー供
給機構とからなり、このエヤー供給機構は、上記
支柱とテーブルとの少なくとも一方に支柱の軸線
を中心とする円周上に少なくとも3分割して設け
たエヤー噴出ノズル群と、これらエヤー噴出ノズ
ル群に供給するエヤー圧を独立して可変するエヤ
ー圧可変機構とから構成したことを特徴とする傾
斜角調整装置。
A column, a table that is swingably mounted on the column and whose inclination angle changes in any direction with the axis of the column as a fulcrum, and a table that is installed at the part where the column and table face each other and blows out air. an air supply mechanism that varies the inclination angle of the table by the air pressure; What is claimed is: 1. A tilt angle adjustment device comprising: a group of air jetting nozzles provided in the air; and an air pressure variable mechanism that independently varies the air pressure supplied to the air jetting nozzle group.
JP1980062941U 1980-05-08 1980-05-08 Expired JPS6144427Y2 (en)

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JP1980062941U JPS6144427Y2 (en) 1980-05-08 1980-05-08

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JPS56164549U JPS56164549U (en) 1981-12-07
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5237966U (en) * 1975-09-10 1977-03-17
JPS5252579A (en) * 1975-10-27 1977-04-27 Canon Inc Clearance adjusng method
JPS5443480A (en) * 1977-09-12 1979-04-06 Hitachi Ltd Mask aligner
JPS5530823A (en) * 1978-08-25 1980-03-04 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Mask-wafer gap setting device

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5237966U (en) * 1975-09-10 1977-03-17
JPS5252579A (en) * 1975-10-27 1977-04-27 Canon Inc Clearance adjusng method
JPS5443480A (en) * 1977-09-12 1979-04-06 Hitachi Ltd Mask aligner
JPS5530823A (en) * 1978-08-25 1980-03-04 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Mask-wafer gap setting device

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JPS56164549U (en) 1981-12-07

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