JPS614140A - 電子光学鏡筒 - Google Patents
電子光学鏡筒Info
- Publication number
- JPS614140A JPS614140A JP12336284A JP12336284A JPS614140A JP S614140 A JPS614140 A JP S614140A JP 12336284 A JP12336284 A JP 12336284A JP 12336284 A JP12336284 A JP 12336284A JP S614140 A JPS614140 A JP S614140A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alignment
- coil
- electron
- alignment coil
- centering
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、電子ビーム露光装置等に用いられる電子光学
鏡筒に係わり、特にビーム経路の途中の部分的な軸合わ
せを容易とした電子光学鏡筒に関する。
鏡筒に係わり、特にビーム経路の途中の部分的な軸合わ
せを容易とした電子光学鏡筒に関する。
従来、半導体ウェハやマスク等の試料に微細パターンを
形成するものとして、各種の電子ビーム露光装置が開発
されているが、この装置では電子光学鏡筒が必須の構成
要素となっている。電子光学鏡筒は、電子銃から放射さ
れた電子ビームを集束加速してターゲット上に照射する
もので、一般に電子銃、レンズ、ビーム成形用アパーチ
ャマスク及び偏向器等から構成されている。
形成するものとして、各種の電子ビーム露光装置が開発
されているが、この装置では電子光学鏡筒が必須の構成
要素となっている。電子光学鏡筒は、電子銃から放射さ
れた電子ビームを集束加速してターゲット上に照射する
もので、一般に電子銃、レンズ、ビーム成形用アパーチ
ャマスク及び偏向器等から構成されている。
ところで、電子光学鏡筒で電子ビームの経路の途中の一
部分の軸合わせを行うには、従来１個若しくは２個の軸
合わせ用コイルが用いられている。
部分の軸合わせを行うには、従来１個若しくは２個の軸
合わせ用コイルが用いられている。
しかし、ある部品、例えば電子光学鏡筒中のビーム成形
アパーチャマスク等のような部品への軸あわせを１個の
軸合わせ用コイルで行った場合、その部品を出たビーム
の方向が軸合わせ前後で全く異なるため、その部品より
もターゲット側の部品では全て軸合わせをやり直す必要
がある。このため、軸合わせが非常に面倒となり、さら
に軸合わせに多大な時間を要する。また、軸合わせが完
全でないと、電子ビーム露光装置に適用した場合露光精
度の低下等を招く。
アパーチャマスク等のような部品への軸あわせを１個の
軸合わせ用コイルで行った場合、その部品を出たビーム
の方向が軸合わせ前後で全く異なるため、その部品より
もターゲット側の部品では全て軸合わせをやり直す必要
がある。このため、軸合わせが非常に面倒となり、さら
に軸合わせに多大な時間を要する。また、軸合わせが完
全でないと、電子ビーム露光装置に適用した場合露光精
度の低下等を招く。
また、ある部品の軸合わせを２個の軸合わせ用コイルで
行った場合、２個の軸合わせ用コイルによる偏向中心を
任意の場所に設定可能となるため、１段の軸合わせ用コ
イルで行う場合に比べて軸合わせの煩雑さがかなり改善
される。しかし、この場合ビームを大きく振り戻す必要
があるため、軸合わせ用コイルの容量で軸合わせ可能な
範囲が狭く制限される。ざらに、１段のコイルを用いる
場合程ではないが、やはりその部品よりもターゲット側
の部品で軸合わせをヤリ直す必要があった。
行った場合、２個の軸合わせ用コイルによる偏向中心を
任意の場所に設定可能となるため、１段の軸合わせ用コ
イルで行う場合に比べて軸合わせの煩雑さがかなり改善
される。しかし、この場合ビームを大きく振り戻す必要
があるため、軸合わせ用コイルの容量で軸合わせ可能な
範囲が狭く制限される。ざらに、１段のコイルを用いる
場合程ではないが、やはりその部品よりもターゲット側
の部品で軸合わせをヤリ直す必要があった。
本発明の目的は、電子ビームの部分的な軸合ゎせを容易
に行うことができ、電子ビーム露光装置における露光精
度の向上及びスルーブツトの向上等に寄与し得る電子光
学鏡筒を提供することにある。
に行うことができ、電子ビーム露光装置における露光精
度の向上及びスルーブツトの向上等に寄与し得る電子光
学鏡筒を提供することにある。
本発明の骨子は、部分的な軸合わせのために３個の軸合
わせ用コイルを用いることにある。
わせ用コイルを用いることにある。
即ち本発明は、電子銃から放射された電子ビームを集束
加速してターゲット上に照射する電子光学鏡筒において
、前記電子ビームの所定位置における軸合わせのために
少なくとも８個の軸合わせ用コイルを設け、電子銃側の
第１の軸合わせ用コイルで偏向した量を中間の第２の軸
合わせ用コイル及びターゲット側の第３の軸合わせ用コ
イルで振り戻し、第３の軸合わせ用コイルを通過したビ
ームの軌道を軸合わせを行う前の軌道と同様の軌道に修
正するようにしたものである。
加速してターゲット上に照射する電子光学鏡筒において
、前記電子ビームの所定位置における軸合わせのために
少なくとも８個の軸合わせ用コイルを設け、電子銃側の
第１の軸合わせ用コイルで偏向した量を中間の第２の軸
合わせ用コイル及びターゲット側の第３の軸合わせ用コ
イルで振り戻し、第３の軸合わせ用コイルを通過したビ
ームの軌道を軸合わせを行う前の軌道と同様の軌道に修
正するようにしたものである。
（発明の効果）
本発明によれば、所定部品でのビーム軸合わせを行って
も該部品を通過したビームの軌道が軸合わせを行う前と
同様であるので、その部品よりもターゲット側の部品で
新たに軸合わせをやり直す必要はない。つまり、下方に
おけるビームの軸に影響を与えることなく、上方のビニ
ムの軸合わせを行うことができる。このため、軸合わせ
を容易、且つ短時間で行うことができる。従って、電子
ビーム露光装置に適用した場合、露光精度の向上及び露
光スルーブツトの向上等に極めて有効である。
も該部品を通過したビームの軌道が軸合わせを行う前と
同様であるので、その部品よりもターゲット側の部品で
新たに軸合わせをやり直す必要はない。つまり、下方に
おけるビームの軸に影響を与えることなく、上方のビニ
ムの軸合わせを行うことができる。このため、軸合わせ
を容易、且つ短時間で行うことができる。従って、電子
ビーム露光装置に適用した場合、露光精度の向上及び露
光スルーブツトの向上等に極めて有効である。
また、２個の軸合わせ用コイルを用いた場合に比較して
、軸合わせコイルの偏向量を小さくできるので、軸合わ
せ可能な範囲を広げることができる。
、軸合わせコイルの偏向量を小さくできるので、軸合わ
せ可能な範囲を広げることができる。
さらに、下方のビームの軸に影響を与えないことから、
ビームΦ軸合わせが正しい方向か否かを容易に判定でき
る等の利点もある。
ビームΦ軸合わせが正しい方向か否かを容易に判定でき
る等の利点もある。
第１図は本発明の一実施例に係わる電子光学鏡筒を示す
概略構成図である。図中１は電子銃で、この電子銃７の
作るクロスオーバＰｉは第１のコンデンサレンズ２によ
りクロスオーバ像Ｐ２の位置に結像され、さらに第２の
コンデンサレンズ３によりクロスオーバ像Ｐ３の位置に
結像される。
概略構成図である。図中１は電子銃で、この電子銃７の
作るクロスオーバＰｉは第１のコンデンサレンズ２によ
りクロスオーバ像Ｐ２の位置に結像され、さらに第２の
コンデンサレンズ３によりクロスオーバ像Ｐ３の位置に
結像される。
これと同時に、ビームの開き角とご一ム成形用アパーチ
ャマスク４を照明する電流密度との関係が最適化された
状態で、第１のビーム成形用アパーチャマスク４が照明
される。クロスオーバ像Ｐ３は第３及び第４のコンデン
サレンズ５．６により拡大され、対物レンズ７のアパー
チャ上に結像される。ビーム成形用アパーチャマスク４
のアパーチャ像はレンズ５により第２のビーム成形用ア
パーチャマスク８上に結像され、コンデンサレンズ６及
び対物レンズ７により縮小されてターゲット９上に結像
される。
ャマスク４を照明する電流密度との関係が最適化された
状態で、第１のビーム成形用アパーチャマスク４が照明
される。クロスオーバ像Ｐ３は第３及び第４のコンデン
サレンズ５．６により拡大され、対物レンズ７のアパー
チャ上に結像される。ビーム成形用アパーチャマスク４
のアパーチャ像はレンズ５により第２のビーム成形用ア
パーチャマスク８上に結像され、コンデンサレンズ６及
び対物レンズ７により縮小されてターゲット９上に結像
される。
一方、前記レンズ３とビーム成形用アパーチャマスク４
との間には第１の軸合わせ用コイル１１が配置され、ア
パーチャマスク４とレンズ５との間には第２及び第３の
軸合わせ用コイル１２，１３がそれぞれ配置されている
。ここで、コイル１１．１３の偏向方向は同方向であり
、これに対しコイル１２の偏向方向は逆方向となってい
る。また、コ、イル１２による偏向量（偏向角度）は、
コイル１．１．１’３による各偏向量（偏向角度）の和
となっている。なおミコイル１１．〜，１３の詳−５パ
励磁条イ牛″″） （＋Ｍ Ｔ ′を後〕ホ１６・この
ような構成においては、ビーム成形用アパーチャマスク
４を照明するのにできるだけ大きい電流密度で照明した
いため、レンズ２でクロスオーバＩＪＩＰ２をターゲッ
ト側に近ずける必要がある。
との間には第１の軸合わせ用コイル１１が配置され、ア
パーチャマスク４とレンズ５との間には第２及び第３の
軸合わせ用コイル１２，１３がそれぞれ配置されている
。ここで、コイル１１．１３の偏向方向は同方向であり
、これに対しコイル１２の偏向方向は逆方向となってい
る。また、コ、イル１２による偏向量（偏向角度）は、
コイル１．１．１’３による各偏向量（偏向角度）の和
となっている。なおミコイル１１．〜，１３の詳−５パ
励磁条イ牛″″） （＋Ｍ Ｔ ′を後〕ホ１６・この
ような構成においては、ビーム成形用アパーチャマスク
４を照明するのにできるだけ大きい電流密度で照明した
いため、レンズ２でクロスオーバＩＪＩＰ２をターゲッ
ト側に近ずける必要がある。
その結果、アパーチャマスク４を照明するビームの開き
角は余裕がなくなり、アパーチャマスク４に対する軸合
わせ条件は厳しくなる。
角は余裕がなくなり、アパーチャマスク４に対する軸合
わせ条件は厳しくなる。
ここで、ビーム成形用アパーチャマスク４に対する軸合
わせとしては、従来軸合わせ用コイル１１の単独、軸合
わせ用コイル１１．１２或いは軸合わせ用コイル１１．
１３が用いられていた。軸合わせ用コイル１１のみでは
、軸合わせを行った後のクロスオーバ像Ｐ３が大きく振
られるので、対物レンズアリアパーチャ上でビームが大
きく振られる。従って、ターゲット９側からビームを見
ている場合、アパーチャマスク４上での照明条件を良く
しても、対物レンズアパーチャ上でビームが遮られるた
め、見掛は上前明条件が悪くなった如く見え、正常な軸
合わせはできない。
わせとしては、従来軸合わせ用コイル１１の単独、軸合
わせ用コイル１１．１２或いは軸合わせ用コイル１１．
１３が用いられていた。軸合わせ用コイル１１のみでは
、軸合わせを行った後のクロスオーバ像Ｐ３が大きく振
られるので、対物レンズアリアパーチャ上でビームが大
きく振られる。従って、ターゲット９側からビームを見
ている場合、アパーチャマスク４上での照明条件を良く
しても、対物レンズアパーチャ上でビームが遮られるた
め、見掛は上前明条件が悪くなった如く見え、正常な軸
合わせはできない。
軸合わせ用コイル１１．１３の２個を用いた場合、ビー
ムの振り増しになるが、第２図に破線Ｑ１で示す軌道で
軸合わせが行われ、クロスオーバ像Ｐ３を支点として偏
向されるため、上記した欠点はない。しかし、アパーチ
ャマスク４上でビームを僅かに調整するのみで、レンズ
５上でビームが大きく軸から外れる。従って、他の光学
部品でビームが遮られないようにするには、極狭い範囲
のみしか軸合わせができない。
ムの振り増しになるが、第２図に破線Ｑ１で示す軌道で
軸合わせが行われ、クロスオーバ像Ｐ３を支点として偏
向されるため、上記した欠点はない。しかし、アパーチ
ャマスク４上でビームを僅かに調整するのみで、レンズ
５上でビームが大きく軸から外れる。従って、他の光学
部品でビームが遮られないようにするには、極狭い範囲
のみしか軸合わせができない。
軸合わせ用コイル１１．１２の２個を用いた場合、ビー
ムの振り戻しになるが、第２図に破線Ｑ２に示す軌道で
軸合わせが行われ、上と同様な欠点がある。さらに、軸
合わせ用コイル１２でビームを大きく振り戻す必要があ
り、このため軸合わせ用コイル１２の容量で軸合わせ可
能な範囲は狭く制限されると云う欠点もある。
ムの振り戻しになるが、第２図に破線Ｑ２に示す軌道で
軸合わせが行われ、上と同様な欠点がある。さらに、軸
合わせ用コイル１２でビームを大きく振り戻す必要があ
り、このため軸合わせ用コイル１２の容量で軸合わせ可
能な範囲は狭く制限されると云う欠点もある。
これに対し本実施例では、軸合わせ用コイル１１．１２
．１３を３つ連動させることにより、上記欠点を全て取
除いている。即ち、本実施例では第２図に実線Ｑ３で示
す軌道で第１の軸合わせ用コイル１１でビームを偏向し
、第２の軸合わせ用コイル１２で上記と逆方向にビーム
を偏向し、第３の軸合わせ用コイル１３で第１の軸合わ
せ用コイル１１と同方向にビームを偏向し、これにより
第３の軸合わせ用コイル１３を通過したビームの軌道が
軸合わせを行う前と同様となるようにしている。このた
め、ビーム成形用アパーチャマスク４上で大きく軸合わ
せを行っても、第３の軸？わせ用コイル１３より下方の
部品上でシームの軸がずれる等の不都合はない。従って
、アパーチャマスク４の照明条件を容易に最適条件に設
定することができる。
．１３を３つ連動させることにより、上記欠点を全て取
除いている。即ち、本実施例では第２図に実線Ｑ３で示
す軌道で第１の軸合わせ用コイル１１でビームを偏向し
、第２の軸合わせ用コイル１２で上記と逆方向にビーム
を偏向し、第３の軸合わせ用コイル１３で第１の軸合わ
せ用コイル１１と同方向にビームを偏向し、これにより
第３の軸合わせ用コイル１３を通過したビームの軌道が
軸合わせを行う前と同様となるようにしている。このた
め、ビーム成形用アパーチャマスク４上で大きく軸合わ
せを行っても、第３の軸？わせ用コイル１３より下方の
部品上でシームの軸がずれる等の不都合はない。従って
、アパーチャマスク４の照明条件を容易に最適条件に設
定することができる。
ここで、軸合わせ用コイル１１．〜，１３の具体的な各
偏向量（偏向角度）は次のように定めればよい。まず、
Ｍｌの軸合わせ用コイル１１による偏向角度をα、第２
の軸合わせ用コイル１２による偏向角度をγ、第３の軸
合わせ用コイル１３による偏向角度をβ１、第１及び第
２の軸合わせ用コイル１１．１２間の距離をａ１第２及
び第３の軸合わせ用コイル１２．１３間の距離をｂとす
る。
偏向量（偏向角度）は次のように定めればよい。まず、
Ｍｌの軸合わせ用コイル１１による偏向角度をα、第２
の軸合わせ用コイル１２による偏向角度をγ、第３の軸
合わせ用コイル１３による偏向角度をβ１、第１及び第
２の軸合わせ用コイル１１．１２間の距離をａ１第２及
び第３の軸合わせ用コイル１２．１３間の距離をｂとす
る。
軸合わせ用コイル１３を通過したビームの軌道方向が軸
合わせ前と変わらないためには、軸合わせ用コイル１２
による偏向角度γが軸合わせ用コイル１１．１３による
各偏向角度α、βの和と等しいこ・とが必要であるから γ＝α十β ・・・・■軸合わせ用コイ
ル１２による偏向により、ビームが軸合わせ用コイル１
３の中心にくる必要があるから ａ−ｔａｎ α＝ｂ−ｔａｎ ＜ｒ−ａ＞、’、ａ−
ｔａｎ ａ＝ｂ−ｔａｎ β ・・・・■ここで、
ｄ及びβは十分に小さいから β−α（ａ／ｂ） ・・・・■また、上記０
０式から γ＝α（１＋ａ／ｂ） ・・・・■従って、第１
の軸合わせ用コイル１１の偏向角度をαとするとき、第
２及び第３の軸合わせ用コイル１２．１３の各偏向角度
γ、βが上記００式で定義される値となるよう各コイル
１１．〜，１３の励磁電流を制御すればよい。なお、上
記励磁電流の設定はＸ方向（紙面左右方向）及びＹ方向
く紙面表裏方向）の両方に適用されるものである。
合わせ前と変わらないためには、軸合わせ用コイル１２
による偏向角度γが軸合わせ用コイル１１．１３による
各偏向角度α、βの和と等しいこ・とが必要であるから γ＝α十β ・・・・■軸合わせ用コイ
ル１２による偏向により、ビームが軸合わせ用コイル１
３の中心にくる必要があるから ａ−ｔａｎ α＝ｂ−ｔａｎ ＜ｒ−ａ＞、’、ａ−
ｔａｎ ａ＝ｂ−ｔａｎ β ・・・・■ここで、
ｄ及びβは十分に小さいから β−α（ａ／ｂ） ・・・・■また、上記０
０式から γ＝α（１＋ａ／ｂ） ・・・・■従って、第１
の軸合わせ用コイル１１の偏向角度をαとするとき、第
２及び第３の軸合わせ用コイル１２．１３の各偏向角度
γ、βが上記００式で定義される値となるよう各コイル
１１．〜，１３の励磁電流を制御すればよい。なお、上
記励磁電流の設定はＸ方向（紙面左右方向）及びＹ方向
く紙面表裏方向）の両方に適用されるものである。
かくして本実施例によれば、３個の軸合わせ用コイル１
１．〜，１３を用いることにより、ビーム成形用アパー
チャマスク４上でのビーム軸合わせを容易に行うことが
でき、アパーチャマスク４の照明条件を最適条件に設定
することができる。
１．〜，１３を用いることにより、ビーム成形用アパー
チャマスク４上でのビーム軸合わせを容易に行うことが
でき、アパーチャマスク４の照明条件を最適条件に設定
することができる。
そしてこの場合、第３の軸合わせ用コイル１３を通過し
たビームの軌道は軸合わせを行わないときと同様である
ので、これよりターゲット７側でのビーム軸合わせが新
たに必要となる等の不都合はない。このため、軸合わせ
に要する時間を極めて少なくすることができる。また、
第２図を見ても明らかなように、軸合わせ用コイル１１
．１２を用いた場合に比較して、第２の軸合わせ用コイ
ル１２の偏向量を少なくできるので、軸合わせ可能な範
囲が広がる等の利点もある。従って、電子ビーム露光装
置等に用いて絶大なる効果を発揮する。
たビームの軌道は軸合わせを行わないときと同様である
ので、これよりターゲット７側でのビーム軸合わせが新
たに必要となる等の不都合はない。このため、軸合わせ
に要する時間を極めて少なくすることができる。また、
第２図を見ても明らかなように、軸合わせ用コイル１１
．１２を用いた場合に比較して、第２の軸合わせ用コイ
ル１２の偏向量を少なくできるので、軸合わせ可能な範
囲が広がる等の利点もある。従って、電子ビーム露光装
置等に用いて絶大なる効果を発揮する。
なお、本発明は上述した実施例に限定されるものではな
い。例えば、前記軸合わせ用コイルの配置位置はビーム
成形用アパーチャマスクの位置に限るものではなく、軸
合わせが必要となる各種の部品の位置に配置することが
可能である。さらに、軸合わせ用コイルの数は３個あれ
ば十分であるが、それ以上用いても何等差支えない。ま
た、軸合わせ用コイル以外の構成は、仕様に応じて適宜
変更可能である。例えば、電子ビーム露光装置に適用す
る場合、前記構成に加えブランキング板やビーム走査用
偏向器等を適宜付加すればよい。その他、本発明の要旨
を逸脱しない範囲で、種々変形して実施することができ
る。
い。例えば、前記軸合わせ用コイルの配置位置はビーム
成形用アパーチャマスクの位置に限るものではなく、軸
合わせが必要となる各種の部品の位置に配置することが
可能である。さらに、軸合わせ用コイルの数は３個あれ
ば十分であるが、それ以上用いても何等差支えない。ま
た、軸合わせ用コイル以外の構成は、仕様に応じて適宜
変更可能である。例えば、電子ビーム露光装置に適用す
る場合、前記構成に加えブランキング板やビーム走査用
偏向器等を適宜付加すればよい。その他、本発明の要旨
を逸脱しない範囲で、種々変形して実施することができ
る。
第１図は本発明の一実施例に係わる電子光学鏡筒を示す
概略構成図、第２図は上記実施例の作用を説明するため
の模式図である。 １・・・電子銃、２，３．５．６．７・・・レンズ、４
゜８・・・ビーム成形用アパーチャマスク、９・・・タ
ーゲット、１１．１２．１Ａ・・・軸合わせ用コイル。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第１図 第２図
概略構成図、第２図は上記実施例の作用を説明するため
の模式図である。 １・・・電子銃、２，３．５．６．７・・・レンズ、４
゜８・・・ビーム成形用アパーチャマスク、９・・・タ
ーゲット、１１．１２．１Ａ・・・軸合わせ用コイル。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第１図 第２図
Claims (4)
- （１）電子銃から放射された電子ビームを集束加速して
ターゲット上に照射する電子光学鏡筒において、前記電
子ビームの所定位置における軸合わせのために少なくと
も３個の軸合わせ用コイルを設け、電子銃側の第１の軸
合わせ用コイルで偏向した量を中間の第２の軸合わせ用
コイル及びターゲット側の第３の軸合わせ用コイルで振
り戻し、第３の軸合わせ用コイルを通過したビームの軌
道を軸合わせを行う前の軌道と同様の軌道に修正してな
ることを特徴とする電子光学鏡筒。 - （２）前記第１の軸合わせ用コイルに対し、前記第２の
軸合わせ用コイルはその偏向方向が逆で前記第３の軸合
わせ用コイルはその偏向方向が同一で、且つ第２の軸合
わせ用コイルの偏向量は第１及び第３の軸合わせ用コイ
ルの各偏向量の和に等しいものであることを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載の電子光学鏡筒。 - （３）前記第１の軸合わせ用コイルによるビームの偏向
角度をα、前記第２の軸合わせ用コイルによる偏向角度
をγ、前記第３の軸合わせ用コイルによる偏向角度をβ
とするとき、 γ＝α（１＋ａ／ｂ） β＝α（ａ／ｂ） が成立するよう前記各コイルの励磁電流を制御すること
を特徴とする特許請求の範囲第２項記載の電子光学鏡筒
。 - （４）前記第１及び第３の軸合わせ用コイル間には、ビ
ーム成形用アパーチャマスクが配置されることを特徴と
する特許請求の範囲第１項記載の電子光学鏡筒。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12336284A JPS614140A (ja) | 1984-06-15 | 1984-06-15 | 電子光学鏡筒 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12336284A JPS614140A (ja) | 1984-06-15 | 1984-06-15 | 電子光学鏡筒 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS614140A true JPS614140A (ja) | 1986-01-10 |
Family
ID=14858706
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12336284A Pending JPS614140A (ja) | 1984-06-15 | 1984-06-15 | 電子光学鏡筒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS614140A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7271396B2 (en) | 2001-10-10 | 2007-09-18 | Applied Materials, Israel Limited | Method and device for aligning a charged particle beam column |
-
1984
- 1984-06-15 JP JP12336284A patent/JPS614140A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7271396B2 (en) | 2001-10-10 | 2007-09-18 | Applied Materials, Israel Limited | Method and device for aligning a charged particle beam column |
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