JPS6140986B2

JPS6140986B2 -

Info

Publication number: JPS6140986B2
Application number: JP15220078A
Authority: JP
Inventors: Tetsushi Otomura; Hideaki Ema; Masaru Shimada; Hiroshi Tamura
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 1978-12-09
Filing date: 1978-12-09
Publication date: 1986-09-12
Also published as: JPS5579452A

Description

【発明の詳細な説明】本発明は電子写真用感光体に関し、これをさら
に詳しくいえば、本発明は、導電性支持体上に形
成せしめた光導電層の上に、光導電層のための保
護膜として、有機高分子化合物からなる、２つの
絶縁層を形成せしめた電子写真用感光体であつ
て、光導電層の上に塩基性色素を含有する第１絶
縁層を形成せしめ、次いでルイス酸を含有する第
２絶縁層を形成せしめたことを特徴とするもので
ある。

金属板のような導電性支持体上に、例えば無定
形セレンを蒸着して光導電層を形成せしめた電子
写真用感光体において、光導電層の損耗を防止
し、その耐久性を向上せしめるために、有機高分
子化合物例えば芳香族ポリエステル、ポリウレタ
ンエラストマーからなる絶縁性の保護膜を、光導
電層の上に形成せしめることが提案されている
（特開昭52−77728号公報、特開昭52−76927号公
報参照）。しかしながら、十分な耐久性を得るた
めには、保護膜の層を厚くすることが要求され、
保護膜を厚くすると、光導電層の解像力が低下
し、鮮明な画像が得られないという欠陥がある。
すなわち電子写真用感光体としての特性が劣化す
る。従つてこのような欠陥を改善するために、有
機高分子化合物にルイス酸を加えて保護膜を形成
すること、すなわちルイス酸を加えた有機高分子
化合物を用いて保護膜を形成することが提案され
ている（特開昭52−58924号公報）。

本発明者らは、光導電層の上に、塩基性色素を
含有する有機高分子化合物からなる第１絶縁層を
形成せしめ、その上にルイス酸を含有する有機高
分子化合物からなる第２絶縁層を形成せしめるこ
とによつて、光導電層の耐久性を向上せしめると
ともに、さらにすぐれた解像力が得られることを
発見した。本発明はこの発見に基づくものである
が、第１絶縁層を形成せしめるための有機高分子
化合物としては接着性のすぐれた材料を用い、第
２絶縁層を形成するためには、耐摩耗性のすぐれ
た材料を用いることによつて、さらにすぐれた耐
久性と解像力を有する感光体が得られる。

上記において第１絶縁層を形成するための、接
着性にすぐれた有機高分子化合物は、尿素樹脂、
メラミン樹脂、フエノール樹脂、レゾルシノール
樹脂、エポキシ樹脂、ポリイソシアネート、ポリ
酢酸ビニル、アクリル樹脂、アクリル酸エステル
モノマー、シアノアクリレート、ポリビニルアセ
タール、ポリオレフイン、アクリロニトリル−エ
チレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合
体、ポリイミド、ポリベンゾイミダゾール、ポリ
クロロプレン、合成ゴム、多硫化ゴム、セルロー
ス類、ポリアミド類、ポリエステル類などであ
り、また第２絶縁層を形成するための、耐摩耗性
のすぐれた有機高分子化合物は、アクリロニトリ
ル−スチレン−ブタジエン共重合体、アクリロニ
トリル−スチレン共重合体、ポリアセタール、ジ
アリルフタレート樹脂、アミノ樹脂、塩素化ポリ
エーテル、ポリアミドイミド、ポリアリルエーテ
ル、ポリアリルスルホン、ポリアリレート、ポリ
ブテン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホ
ン、ポリフエニレンオキサイド、ポリフエニレン
スルフアイド、ポリビニルブチラールとセルロー
スの誘導体、スチレン−無水マレイン酸共重合
体、エポキシアクリレート、セルロース類、ポリ
アミド類、ポリエステル類、ポリウレタン類など
である。

本発明において用いられる塩基性色素として
は、トリフエニルメタン系ではマラカイトグリー
ン、メチルバイオレツト、クリスタルバイオレツ
ト、マゼンタなど、キサンテン系ではローダミン
Ｂ、ローダミンＧ、エリスロシン、ピロニンＢな
ど、アジン系では、サフラニンＴ、インジユリ
ン、ニグロシンなど、チアジン系ではメチレンブ
ルーなど、アゾ系ではビスマルクブラウン、クリ
ソイジンなどであり、また上記の混合物も用いら
れる。また本発明において用いられるルイス酸と
しては２・４・７−トリニトロ−９−フルオレノ
ン、テトラクロル−ｐ−ベンゾキノン、９−ジシ
アノメチレン、９−ジシアノメチレン−２・４・
７−トリニトロフルオレノン、４・４−ビス（ジ
メチルアミノ）ベンゾフエノン、無水マレイン
酸、フタール酸、無水テトラクロルフタール酸、
ピクリン酸ベンゾアントラセン、２−アセチルナ
フタリン、２・３−ジクロル−５・６−ジシアノ
パラベンゾキノン、２・６−ジニトロパラベンゾ
キノン、７・７・８・８−テトラシアノキノジメ
タン、１・３・５−トリニトロベンゼンなどであ
り、また上記の混合物も用いられる。

上記において塩基性色素は、有機高分子化合物
に対して0.1〜７重量％の量で用いられ、またル
イス酸は、１〜10重量％の量で用いられ、また第
１絶縁層の厚さは0.5〜２μであり、第２絶縁層
の厚さは好しくは、１〜５μである。

本発明の電子写真用感光体を調製するには、従
来の方法によつて導電性支持体の上に、蒸着によ
つて無定形セレンからなる光導電層を形成せしめ
た後、第１絶縁層形成のための有機高分子化合物
と塩基性色素を有機溶剤に溶解して得た第１絶縁
層形成液を塗布し、乾燥し、次いで第２絶縁層形
成のための有機高分子化合物とルイス酸を有機溶
剤に溶解して得た第２絶縁層形成液を塗布し、乾
燥する。

上記のような２つの絶縁層から構成される保護
膜は、無定形セレンからなる光導電層の上に形成
されるのみならず、酸化亜鉛−樹脂からなる光導
電層、あるいはポリビニルカルバゾール、ポリビ
ニルピレンのような有機半導体からなる光導電層
の上にも形成することができ、感光体の解像力を
減殺することなく、光導電層の耐久力を増大する
ことができる。

下記に本発明の実施例を示す。

例１下記成分を用いて第１絶縁層形成液および第２
絶縁層形成液を調製した。

第１絶縁層形成液成分：ニトロセルロース系クリアラツカー（日本ジヤ
ード製、ジヤドラツク） 100 ｇローダミンＢ（ラツカーの固形分に対して２重
量％） 0.2ｇ第２絶縁層形成液成分：ジクロルエタン 100 ｇ芳香族ポリエステル（ユニチカ製Ｕポリマー）
４ｇ７・７・８・８−テトラシアノキノジメタン
（樹脂固形分に対して５重量％） 0.2ｇ直径120cmのアルミニウム製シリンダーの表面
に、無定形セレンを蒸着し、厚さ50μの光導電層
を形成せしめ、その上に上記第１絶縁層形成液を
塗布し、室温で１時間乾燥して、厚さ１μの第１
絶縁層を形成せしめた後、さらに第２絶縁層形成
液を塗布し、50℃で１時間送風乾燥して、厚さ２
μの第２絶縁層を形成せしめて本発明の電子写真
用感光体No.1を得た。

比較のため、上記において、第１および第２絶
縁層形成液の添加成分を逆にして感光体を調製し
た。すなわち、無定形セレン層からなる光導電層
の上に、７・７・８・８−テトラシアノキノジメ
タンを５重量％（対樹脂固形物）添加したジヤド
ラツクを用いて厚さ１μの第１絶縁層を形成し、
次いで、ローダミンＢを２重量％（対樹脂固形
分）添加したＵポリマーの４重量％ジクロルエタ
ン溶液を用いて厚さ２μの第２絶縁層を形成せし
めて比較用の感光体No.1−１を得た。

さらに比較のために、上記第２絶縁層形成液に
ローダミンB0.08ｇを添加して調製した、塩基性
色素とルイス酸を共存して含有する絶縁層形成液
を用い、これを無定形セレン光導電層の上に塗布
し、乾燥して、厚さ３μの絶縁層を形成せしめて
比較用の感光体No.1−２を得た。

上記のようにして調製した、本発明の感光体
No.1ならびに比較用の感光体No.1−１および
No.1−２を、それぞれ、K.K.リコー製湿式電子
写真複写機に装着して、帯電−画像露光−現像−
転写を繰返して50枚のコピーを得たが、感光体
No.1では、保護膜を形成せしめない感光体と同
程度の鮮明な画像を有するコピーを得たが、比較
用の感光体No.1−１およびNo.1−２では、かな
り不鮮明な画像を有するコピーしか得られなかつ
た。なお、上記各感光体の解像力を測定し、かつ
複写を50回繰返した後の、感光体の露光部の残留
電位を測定してそれぞれ下記に示す結果を得た。

感光体解像力露光部の残留電位 No.1 10本／mm 8V No.1−１３〃 350〃 No.1−２８〃 280〃例２下記成分を用いて第１および第２絶縁層形成液
を調製した。

第１絶縁層形成液成分：メチルエチルケトン 100 ｇアクリロニトリル−スチレン共重合体（旭ダウ
製、タイリル767A）５ｇピロニンＢ 0.1ｇ第２絶縁層形成液成分：テトラヒドロフラン 100 ｇポリウレタンエラストマー（日本ポリウレタン
製、パラプレン27SM）５ｇ７・７・８・８−テトラシアノキジメタン
0.25ｇ上記第１および第２絶縁層形成液を用い、例１
において用いた手順によつて、無定形セレンに光
導電層の上に、第１絶縁層および第２絶縁層を形
成せしめて本発明の電子写真用感光体No.2を得
た。

比較のため、上記第１および第２絶縁層形成液
の添加成分を、例１の場合で示したように、添加
率は同じで、逆に添加して、絶縁層形成液を調製
し、同じ膜厚になるように塗布、乾燥して比較用
の感光体No.2−１を得た。

上記本発明の感光体No.2および比較用の感光
体No.2−１を用い、例１の場合と同じように操
作して、帯電−露光−現像−転写を行ない、50枚
のコピーを得たが、感光体No.2を用いた場合に
は、例１の感光体No.1と同じように鮮明な画像
を有するコピーを得、また残留電位および解像力
においても、感光体No.1と同程度であつたのに
反し、比較用の感光体No.2−１では、コピーの
画像はかなり不鮮明であり、地汚れも著しく、残
留電位の高いことを示し、解像力においても劣つ
ていることがわかつた。

なお、上記のような本発明の保護膜を形成せし
めた感光体では、50000枚程度まで鮮明なコピー
が得られることがわかつた。すなわち本発明によ
つてコピーの鮮明性を失うことなく、感光体とし
ての耐久性を著しく改善することができる。

Claims

【特許請求の範囲】

１導電性支持体上に形成せしめた光導電層の上
に、光導電層のための保護膜として、有機高分子
化合物からなる、２つの絶縁層を形成せしめた電
子写真用感光体において、上記光導電層の上に、
塩基性色素を含有する絶縁層を形成せしめ、次い
でルイス酸を含有する絶縁層を形成せしめたこと
を特徴とする電子写真用感光体。