JPS6140385Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】

本考案は改良されたグラビヤ塗布装置に関する
ものであり、とくに高粘度液の高速薄層塗布に適
したグラビヤ塗布装置に関するものである。 グラビヤ塗布方法は、いわゆるグラビヤパター
ンをその表面に施されたグラビヤロールにより塗
布液をピツクアツプし、ドクターブレードにより
過剰の塗布液を掻き落してグラビヤパターンの凹
部セル内にのみ塗布液を保持せしめた後、ニツプ
ロールによりグラビヤロールに押しつけられてい
る帯状支持体（以下、ウエブという。）に転写、
塗布せしめるものであり、高速薄層塗布に適した
ものとして広く用いられている。 ここにグラビヤパターンとしては、網目状のも
のが一般的であるが、高粘度液、とくに磁気記録
材料用塗布液の塗布の場合には、塗布量を増大さ
せやすいこと、或いは塗布後の塗膜表面の平滑化
が容易であること等の理由から、第１図に示され
るようにグラビヤロール１の表面に複数本のヘリ
カル溝２をほぼ45゜の角度で設けたものが専ら用
いられて来た。 しかしながら、かようなグラビヤロール１にあ
つては、ヘリカル状溝２がグラビヤロール１の両
端３ａ，３ｂから一定の距離をおいた部分より設
けられているが、そのヘリカル状溝２の彫刻開始
部分４ａ，４ｂはマザーミルなどの彫刻機により
彫刻されるために必然的に他の部分に比し、溝が
浅くなつてしまうと共にその断面形状も不均一と
なつてしまうので、ヘリカル状溝２中の塗布液を
ウエブに転写する際にトラブルが生じていた。す
なわち、通常はヘリカル状溝２内の塗布液がニツ
プロール８とグラビヤロール１との圧力によりウ
エブに付着し、これがきつかけとなつて、ヘリカ
ル状溝２に沿つて塗布液が引き出されて転写がお
こなわれるが、ニツプロール８との押圧部の内側
に両端の彫刻開始部分が存するため、ヘリカル状
溝２の部分に浅いところや断面不均一なところが
あると、細い糸状の塗布液は切断されやすくな
り、塗布液の転写が不均一となりやすく、更に、
従来のグラビヤロール１は回転方向前方側端部
（グラビヤロール１の回転に伴ない、ヘリカル状
溝２がウエブに接する際、より早くウエブと接す
るヘリカル状溝２の端部により近いグラビヤロー
ル１の端部を指す。以下同じ。）３ａに近い彫刻
開始部分４ａ近傍に、このような浅溝部、断面不
均一部が存在するために、塗布液の引き出しが全
くおこなわれないという、いわゆる目飛び故障の
おこることがあつた。このような目飛び故障は、
磁気記録材料用塗布液の如く非ニユートン液の場
合に、とくに顕著であつた。 かような目飛び故障を減少させるため、実開昭
52−84560号に開示される如きヘリカル溝のグラ
ビヤロール回転方向側端部に彫刻開始による浅溝
が生じ得ないような環状溝を設けたものが提案さ
れたが、かかる装置においてもなお次の如き欠点
があつた。 即ち、単に環状溝をヘリカル溝と同一深さにし
ただけでは、環状溝とヘリカル溝に溜る塗布液量
が異なり、ウエブへの転写量も一般には環状溝の
方が多くなり、厚塗りとなつてしまうため、転写
される液膜の厚さを所望の厚さに保つためには、
環状溝の深さ、及び形状をヘリカル溝の深さに応
じて精度よく、調整する必要があるが、そのため
の彫刻機又はそれ相当の加工機による加工に非常
な困難を伴つていた。 本考案の目的は、改良されたグラビヤ塗布装置
を提供することにある。 本考案の別の目的は、高粘度液を高速薄層で塗
布するのに適したグラビヤ塗布装置を提供するこ
とにある。 本考案の他の目的は、高粘度非ニユートン性液
を高速薄層で塗布するのに適したグラビヤ塗布装
置を提供することにある。 また本考案の他の目的は、磁気記録材料用塗布
液を高速薄層で塗布するのに適したグラビヤ塗布
装置を提供することにある。 本考案のかかる目的は、複数本のヘリカル状溝
をグラビヤロールの回転方向前方側端部まで延長
し、開放端とすることにより達成される。 以下、添付図面に基き、本考案の実施態様につ
いて詳細に説明する。 第２図は本考案に係るグラビヤ塗布装置の実施
態様を示す略側面図であり、第３図はそれに用い
るグラビヤロールの略正面図である。 第２図及び第３図において、塗布液槽５中の塗
布液６はグラビヤロール１によりピツクアツプさ
れた後、グラビヤロール１より長いドクターブレ
ード７により過剰の塗布液６が掻き落され、塗布
液６はヘリカル状溝２内にのみ規制され計量がな
され、更にニツプロール８によりグラビヤロール
１に押しつけられている連続走行しているウエブ
９に転写、塗布せしめられる。ところで、グラビ
ヤロール１に設けられている複数本のヘリカル状
溝２は回転方向前方側端部まで延長せしめられ開
放端となつているため、溝の浅い部分や断面の不
均一な部分もなく、ウエブ９への転写に際して塗
布液は回転方向前方側からヘリカル状溝２に沿つ
て連続的に引き出されることになるから、目飛び
故障のない均一な厚みの塗膜を得ることができ
る。 またかようにグラビヤロール１の回転方向前方
側端部までヘリカル状溝２を延長することは、工
作上きわめて容易であり、従来要求されていた工
作精度以上のものを要求するものではない。 なお、ウエブ９への塗布液の均一な転写のみを
考慮するときは、グラビヤロール１の回転方向前
方側端部３ａに近い彫刻開始部分４ａがニツプロ
ール８との押圧部分の外側に位置するようにすれ
ばよく、回転方向前方側端部３ａまでヘリカル状
溝２を延長することを要しないとも考えられる
が、かような構成にとどまるときは、ドクターブ
レード７による過剰塗布液の掻き落としの際に均
一な掻き落としが出来ず、結局塗布液を均一に転
写しえないことが認められている。一方、その後
方側端部については、彫刻開始位置４ｂを後方側
端部３ｂ迄延長するを要せず、第３図に示す如
く、従来通り未彫刻部分を残す。 本考案は、粘度１〜100ポイズの高粘度液を湿
潤厚み15μ以下の塗膜厚で塗布する場合に好まし
く適用され、必ずしもニユートン液、非ニユート
ン液を問うものではないが、とくに非ニユートン
液、とりわけ磁気記録材料用塗布液を乾燥厚み３
μ以下の塗膜厚で塗布する場合に顕著な効果を奏
することが認められている。 本考案に用いられるグラビヤロールの材質は、
耐摩耗性があり、かつ塗布に際して用いられる薬
品に対して耐薬品性のある金属であれば格別制限
されるものではないが、通常は鋳鉄にハードクロ
ムメツキを設したもの又はステンレス鋼が用いら
れる。 またグラビヤロールの径は100〜300mm、好まし
くは150〜220mmが適当である。 本考案において用いられるグラビヤロールのヘ
リカル状溝の深さ及び幅は、所望の塗膜厚に従つ
て定められるが、通常、深さは20〜300μ、好ま
しくは25〜40μが適当であり、幅はメツシユ数に
換算して20〜120メツシユ、とくに40〜80メツシ
ユが適当である。 またヘリカル状溝の断面形状は逆台形形状が好
ましい。 以下、本考案の効果をより一層明瞭ならしめる
ため実施例をあげる。 実施例 １ ステンレスロールの外表面に80メツシユ、溝深
さ40μのヘリカル溝を彫刻したグラビヤロールと
硬度80゜のニツプロールとから成るグラビヤ塗布
装置を用いて連続走行している厚さ12μ、幅50mm
のポリエチレンテレフタレートフイルム上に第１
表に示す組成の磁性塗布液を第２表に示す如く粘
度、塗布速度及び塗膜厚を変えて塗布した。 ここに、ステンレス製グラビヤロールの長さは
720mmであり、ヘリカル状溝は回転方向前方側端
部から軸方向に650mmのところまで彫刻した。 他方、同じ磁気記録材料用塗布液を従来のグラ
ビヤロールを用いて同様に塗布した。 塗布後、乾燥して得られたサンプルを目視によ
り目飛び故障の有無を観察した結果を第２表に示
す。

【表】

【表】

【表】 第２表より明らかな如く、比較サンプルでは塗
布速度が大きい場合、或いは塗膜厚が小さい場合
に目飛び故障の発生が認められ、本考案はとくに
高速薄層塗布において効果的なことが判明した。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来のグラビヤロールを示す略正面図
であり、第２図は本考案の一実施態様を示すグラ
ビヤ塗布装置の略側面図であり、第３図はそれに
用いられるグラビヤロールの略正面図である。 １……グラビヤロール、２……ヘリカル状溝、
３ａ……回転方向前方側端部、４ａ，４ｂ……彫
刻開始部分、７……ドクターブレード、８……ニ
ツプロール、９……ウエブ。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 表面に複数本のヘリカル状溝を有するグラビア
   ロールと該グラビアロールに塗布すべきウエブを
   押しつけるニツプロールとを備えたグラビア塗布
   装置において、前記ヘリカル状溝を前記グラビア
   ロールの回転方向前方側端部より設け、かつその
   一方の側である後方側端部は未彫刻部分を残した
   ことを特徴とするグラビア塗布装置。