JPS6137995A - 連続メツキ装置 - Google Patents
連続メツキ装置Info
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- JPS6137995A JPS6137995A JP15759984A JP15759984A JPS6137995A JP S6137995 A JPS6137995 A JP S6137995A JP 15759984 A JP15759984 A JP 15759984A JP 15759984 A JP15759984 A JP 15759984A JP S6137995 A JPS6137995 A JP S6137995A
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- Japan
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- rolls
- wire
- tank
- plating
- plated
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は連続メッキ装置に関し、特に多層メッキ線材を
能率的に生産することができる優れた連続メッキ装置に
関するものである。
能率的に生産することができる優れた連続メッキ装置に
関するものである。
一般に線材のメッキ、特に多層メッキを連続的に行なう
場合には、複数の前処理槽と、２種以上のメッキ処理槽
と、各メッキ処理糟間に水洗処理槽と、更に後処理槽を
直列に配置し、１本又は２本以上の被メッキ線材を走行
させて、上記各処Ｉ！！槽を連続的に通過させている。
場合には、複数の前処理槽と、２種以上のメッキ処理槽
と、各メッキ処理糟間に水洗処理槽と、更に後処理槽を
直列に配置し、１本又は２本以上の被メッキ線材を走行
させて、上記各処Ｉ！！槽を連続的に通過させている。
これ等の工程において所望厚さのメッキを行なうために
は長尺のメッキ槽を用いるか又は複数個のメッキ槽を直
列に配置するため、製造ラインが長大となる欠点があっ
た。
は長尺のメッキ槽を用いるか又は複数個のメッキ槽を直
列に配置するため、製造ラインが長大となる欠点があっ
た。
これを改善するため種々の方法が提案されている。例え
ば外周面に多数の線材ガイド用凹溝を設けた左右１対の
垂直回転ロール間に処理槽を配置し、被メッキ線材をガ
イド用凹溝により処理槽内を複数回通過さゼ、ロールと
処理槽内に配置した電極間に電圧を印加してメッキする
装置が提案されている。この装置を用いることにより上
記直列メッキラインに比べてメッキラインや設備を短縮
することができるばかりか、経済的で能率的にも優れて
いる。
ば外周面に多数の線材ガイド用凹溝を設けた左右１対の
垂直回転ロール間に処理槽を配置し、被メッキ線材をガ
イド用凹溝により処理槽内を複数回通過さゼ、ロールと
処理槽内に配置した電極間に電圧を印加してメッキする
装置が提案されている。この装置を用いることにより上
記直列メッキラインに比べてメッキラインや設備を短縮
することができるばかりか、経済的で能率的にも優れて
いる。
（発明が解決しようとする問題点）
上記改良装置を用いて多層メッキを行なうためには、異
なる処理液を用いるため、処理液毎に装置が必要となり
、特にメッキ工程の複雑なものでは多くの装置を直列に
配列した長大な設備が必要になる。
なる処理液を用いるため、処理液毎に装置が必要となり
、特にメッキ工程の複雑なものでは多くの装置を直列に
配列した長大な設備が必要になる。
最近メッキ線の品質と経済性を向上するため工程が多数
化する傾向にあり、例えばダイオードなどの半導体のリ
ード線には直径０．６〜０．８ｍｍのＡ（］メッキＣｕ
線が用いられており、通常脱脂、酸洗、ＩＩメツギの工
程で厚さ２〜３μのＡｇメッキを施しているが、へ〇節
約のためＡＱメッキ厚さを０．５〜１μと薄くし、しか
も同じ特性（耐熱性、耐食性、半田付は性等）を得るた
めに、中間層としてＩＮ又は／及びＳＯメッキを施すこ
とが行なわれている。このような多層メッキは線材の特
性を改善するため、種々の分野で要求されているが、こ
のような多層メッキを行なうためには、装置が長大なも
のとなり、コストも高くなる欠点があった。
化する傾向にあり、例えばダイオードなどの半導体のリ
ード線には直径０．６〜０．８ｍｍのＡ（］メッキＣｕ
線が用いられており、通常脱脂、酸洗、ＩＩメツギの工
程で厚さ２〜３μのＡｇメッキを施しているが、へ〇節
約のためＡＱメッキ厚さを０．５〜１μと薄くし、しか
も同じ特性（耐熱性、耐食性、半田付は性等）を得るた
めに、中間層としてＩＮ又は／及びＳＯメッキを施すこ
とが行なわれている。このような多層メッキは線材の特
性を改善するため、種々の分野で要求されているが、こ
のような多層メッキを行なうためには、装置が長大なも
のとなり、コストも高くなる欠点があった。
本発明はこれに鑑み種々検討の結果、連続メッキ、特に
多層メッキ線材を能率的に生産することができる優れた
連続メッキ装置を開発したものである。
多層メッキ線材を能率的に生産することができる優れた
連続メッキ装置を開発したものである。
本発明の一つは外周面に多数の線材ガイド用凹溝を設け
た水平回転ロールを左右に設け、該ロール間の軸方向に
複数個の処理槽を並設し、被メッキ線材を凹溝により処
理槽内を１回以上通過させた後、隣接する処理槽内に移
行せしめ、被メッキ線材の前処理、処理槽内に設けた電
極と回転ロール間に電圧を印加するメッキ処理及び水洗
処理を連続的に行なうことを特徴とするものである。
た水平回転ロールを左右に設け、該ロール間の軸方向に
複数個の処理槽を並設し、被メッキ線材を凹溝により処
理槽内を１回以上通過させた後、隣接する処理槽内に移
行せしめ、被メッキ線材の前処理、処理槽内に設けた電
極と回転ロール間に電圧を印加するメッキ処理及び水洗
処理を連続的に行なうことを特徴とするものである。
また本発明の他の一つは、外周面に多数の線材ガイド用
凹溝を設けた水平回転ロールを左右に設け、該ロール間
の軸方向に複数個の処理槽を並設し、各処理槽群の外方
の左右に線材ガイドロールを設け、該ロール間に水洗処
理槽を配置し、被メッキ線材を凹溝により処理槽内を複
数回通過させた後、ガイドロールにより水洗処理槽を通
過させて隣接する処理槽に移行せしめ、被メッキ線材の
前処理、処理槽内に設けた電極と回転ロール間に電圧を
印加するメッキ処理及び水洗処理を連続的に行なうこと
を特徴とするものである。
凹溝を設けた水平回転ロールを左右に設け、該ロール間
の軸方向に複数個の処理槽を並設し、各処理槽群の外方
の左右に線材ガイドロールを設け、該ロール間に水洗処
理槽を配置し、被メッキ線材を凹溝により処理槽内を複
数回通過させた後、ガイドロールにより水洗処理槽を通
過させて隣接する処理槽に移行せしめ、被メッキ線材の
前処理、処理槽内に設けた電極と回転ロール間に電圧を
印加するメッキ処理及び水洗処理を連続的に行なうこと
を特徴とするものである。
即ち本発明は、第１図及び第２図に示すように、外周面
に多数の線材（ａ ）ガイド用凹溝（２）を設けた左右
１対の回転ロール（１）間の軸方向に複数個の処理槽（
３）を配置〔図は上下２段に処理槽（３ａ）、（３ｂ）
を設けた例を示す。〕し、各処理槽（３）の回転ロール
（１）に相対する側壁（４）には第３図に示すように線
材（ａ ）通過用のスリット又はバッキング（５）を設
（プ、各処理槽（３）毎の回転ロール（１）の周囲に処
理液の受は皿を兼ねた箱状体（６）を設け、それぞれ図
示してないが循環系を保有し、槽端から溢流した処理液
は箱状体（６）外に集められ、上記循環系により処理槽
（３）内に送られる。
に多数の線材（ａ ）ガイド用凹溝（２）を設けた左右
１対の回転ロール（１）間の軸方向に複数個の処理槽（
３）を配置〔図は上下２段に処理槽（３ａ）、（３ｂ）
を設けた例を示す。〕し、各処理槽（３）の回転ロール
（１）に相対する側壁（４）には第３図に示すように線
材（ａ ）通過用のスリット又はバッキング（５）を設
（プ、各処理槽（３）毎の回転ロール（１）の周囲に処
理液の受は皿を兼ねた箱状体（６）を設け、それぞれ図
示してないが循環系を保有し、槽端から溢流した処理液
は箱状体（６）外に集められ、上記循環系により処理槽
（３）内に送られる。
このようにして被メッキ線材（ａ ）を回転ロール（１
〉に多段に巻き付けて第１の処理槽（３）内を通過させ
ながら回転ロール（１）の軸方向に移動させ、次に箱状
体（６）外に設けたガイドロール（７）〔図はガイドロ
ール（７）を箱状体（６）の上方に設けた例を示したが
、箱状体（６）の外側に設参りでもよい。〕により被メ
ッキ線材（ａ）を隣接する処理槽（３）内に導入し、同
様にして回転ロール（１）の軸方向に移動させ、処理槽
（３ａ）、（３ｂ）内に設けた電極（８）と回転ロール
（１）間に電圧を印加してメッキ処理し、必要に応じて
次の処理槽で水洗処理するものである。
〉に多段に巻き付けて第１の処理槽（３）内を通過させ
ながら回転ロール（１）の軸方向に移動させ、次に箱状
体（６）外に設けたガイドロール（７）〔図はガイドロ
ール（７）を箱状体（６）の上方に設けた例を示したが
、箱状体（６）の外側に設参りでもよい。〕により被メ
ッキ線材（ａ）を隣接する処理槽（３）内に導入し、同
様にして回転ロール（１）の軸方向に移動させ、処理槽
（３ａ）、（３ｂ）内に設けた電極（８）と回転ロール
（１）間に電圧を印加してメッキ処理し、必要に応じて
次の処理槽で水洗処理するものである。
回転ロール（１）と箱状体（６）の接合部には、第４図
（イ）、（ロ）、（ハ）に示すように回転ロール（１〉
に凹溝（９ａ〉を形成し、該凹溝（９ａ）内に箱状体（
６）の摺接部を挿入するか、回転ロール（１）に１対の
フランジ（９ｂ）を突設し、該フランジ（９ｂ）間に箱
状体（６）の端部な挿入するか、或いは回転ロール（１
）にＹ字状フランジ（９Ｃ）を突設し、該フランジ（９
Ｃ）のＹ字部に箱状体（６）の端部を挿入し、回転ロー
ル（１）の回転による遠心ノｊにより隣接する処理液の
混入を防止する。また左右１対の回転ロール（１）を用
いた例について説明したが、第５図に示すようにそれぞ
れ上下に小径の回転ロール（Ｉａ） 、（１ｂ）を用い
るか、又はこれ以上の複数個のロールを用いてもよい。
（イ）、（ロ）、（ハ）に示すように回転ロール（１〉
に凹溝（９ａ〉を形成し、該凹溝（９ａ）内に箱状体（
６）の摺接部を挿入するか、回転ロール（１）に１対の
フランジ（９ｂ）を突設し、該フランジ（９ｂ）間に箱
状体（６）の端部な挿入するか、或いは回転ロール（１
）にＹ字状フランジ（９Ｃ）を突設し、該フランジ（９
Ｃ）のＹ字部に箱状体（６）の端部を挿入し、回転ロー
ル（１）の回転による遠心ノｊにより隣接する処理液の
混入を防止する。また左右１対の回転ロール（１）を用
いた例について説明したが、第５図に示すようにそれぞ
れ上下に小径の回転ロール（Ｉａ） 、（１ｂ）を用い
るか、又はこれ以上の複数個のロールを用いてもよい。
また第６図は外周面に多数の線材（ａ ）ガイド用凹溝
を設けた左右１対の回転ロール（１〉間の軸方向に複数
個の処理槽（３ａ）、（３ｂ）をそれぞれ上下２段に配
置し、各処理槽毎の回転ロール（１）の周囲に箱状体を
設【プ被メッキ線材（ａ ）を回転ロール（１）に多段
に巻き付けて第１の処理槽（３ａ）、（３ｂ）内を通過
させながら軸方向に移動させ、次に箱状体外に設けたガ
イドロール（７）により被メッキ線材（ａ ）を隣接す
る処理槽内に移送する際、ガイドロール（７）間に水洗
処理＃（３０）を設けて、メッキ工程における水洗処理
を必要とする線材（ａ）を１個の水洗処理槽（３Ｃ）に
より集中水洗処理できるようにしたものである。
を設けた左右１対の回転ロール（１〉間の軸方向に複数
個の処理槽（３ａ）、（３ｂ）をそれぞれ上下２段に配
置し、各処理槽毎の回転ロール（１）の周囲に箱状体を
設【プ被メッキ線材（ａ ）を回転ロール（１）に多段
に巻き付けて第１の処理槽（３ａ）、（３ｂ）内を通過
させながら軸方向に移動させ、次に箱状体外に設けたガ
イドロール（７）により被メッキ線材（ａ ）を隣接す
る処理槽内に移送する際、ガイドロール（７）間に水洗
処理＃（３０）を設けて、メッキ工程における水洗処理
を必要とする線材（ａ）を１個の水洗処理槽（３Ｃ）に
より集中水洗処理できるようにしたものである。
本発明メッキ装置は以上の構成からなり、異種の処理槽
を並列状にコンパクトに配設するも、被メッキ線材に付
着した処理液は回転ロールに転着し、その遠、心力によ
り飛散して箱状体内に補集される。箱状体は回転ロール
に設けた凹溝やフランジに摺接ザる分割構造をなし、補
集された処理液の混合は完全に防止される。特に凹溝は
深いほど有効であり、少なくとも線材ガイド用凹溝の２
倍以上とすることが望ましい。メッキ工程においては多
くの場合電解処理が行なわれ、被メッキ線材にマイナス
側直流が供電され、槽内の電極にプラス側直流が接続さ
れ、マイナス側供電は回転ロールの少なくとも一方にカ
ーボンブラシュ等を介して行なう。またロールは通常モ
ーターにより駆動し、線材の走行スピードに同調させれ
ばよい。
を並列状にコンパクトに配設するも、被メッキ線材に付
着した処理液は回転ロールに転着し、その遠、心力によ
り飛散して箱状体内に補集される。箱状体は回転ロール
に設けた凹溝やフランジに摺接ザる分割構造をなし、補
集された処理液の混合は完全に防止される。特に凹溝は
深いほど有効であり、少なくとも線材ガイド用凹溝の２
倍以上とすることが望ましい。メッキ工程においては多
くの場合電解処理が行なわれ、被メッキ線材にマイナス
側直流が供電され、槽内の電極にプラス側直流が接続さ
れ、マイナス側供電は回転ロールの少なくとも一方にカ
ーボンブラシュ等を介して行なう。またロールは通常モ
ーターにより駆動し、線材の走行スピードに同調させれ
ばよい。
メッキ工程においては各工程間に水洗工程が行なわれる
ため、槽数が倍増し、本発明装置においても設備が大型
となる場合がある。このような場合には第６図に示づ−
ように線材ガイドロール間に集中水洗処理槽を設けるこ
とにより装置を小型化することができる。尚水洗処理槽
としては、廃水処理等の観点から、酸系、アルカリ系に
集約することが望ましい。
ため、槽数が倍増し、本発明装置においても設備が大型
となる場合がある。このような場合には第６図に示づ−
ように線材ガイドロール間に集中水洗処理槽を設けるこ
とにより装置を小型化することができる。尚水洗処理槽
としては、廃水処理等の観点から、酸系、アルカリ系に
集約することが望ましい。
第６図に示す本発明装置を用いて直径０．７５ｍｍのＣ
ｕ線にＮ１メッキ、３ｎメッキ、Ａｇストライクメッキ
及びへ〇メッキを施してダイオード用リード線を製造し
た。各処理槽の長さを２ｍとし、その両端に直径３５０
ｍｍ、長さ６００ ｍｍの線材ガイド用の回転ロールを
平行に配置し、ロール周面に巾５＃、深さ３ｍｍの半円
状溝を１５ｍｍのピッチで形成し、各処理槽の上方に１
対の線材ガイドロールを設け、該ガイドロール間に長さ
２７ｒＬの水洗処理槽を設りた。回転ロール間には脱脂
槽、酸洗槽、Ｎｉメッキ槽、３ｎメッキ槽、Ａ（＋スト
ライクメッキ槽、へ〇メッキ槽を順次配置し、その前後
にペイオフスタンドとティクアップ巻取リールを設番プ
、前記ＣＬＩ線を２４０７ｒＬ／分のラインスピードで
走行させた。回転ロール間の各処理槽中メッキ槽につい
ては、槽内に設けた電極と回転ロール間に電圧を印加し
、各槽毎の回転ロールには第４図（イ）に示すようなＰ
ＶＣ製箱状箱状体付けた。回転ロールは減速機を介して
モーターにより駆動し、１対のガイドロールは無駆動と
した。
ｕ線にＮ１メッキ、３ｎメッキ、Ａｇストライクメッキ
及びへ〇メッキを施してダイオード用リード線を製造し
た。各処理槽の長さを２ｍとし、その両端に直径３５０
ｍｍ、長さ６００ ｍｍの線材ガイド用の回転ロールを
平行に配置し、ロール周面に巾５＃、深さ３ｍｍの半円
状溝を１５ｍｍのピッチで形成し、各処理槽の上方に１
対の線材ガイドロールを設け、該ガイドロール間に長さ
２７ｒＬの水洗処理槽を設りた。回転ロール間には脱脂
槽、酸洗槽、Ｎｉメッキ槽、３ｎメッキ槽、Ａ（＋スト
ライクメッキ槽、へ〇メッキ槽を順次配置し、その前後
にペイオフスタンドとティクアップ巻取リールを設番プ
、前記ＣＬＩ線を２４０７ｒＬ／分のラインスピードで
走行させた。回転ロール間の各処理槽中メッキ槽につい
ては、槽内に設けた電極と回転ロール間に電圧を印加し
、各槽毎の回転ロールには第４図（イ）に示すようなＰ
ＶＣ製箱状箱状体付けた。回転ロールは減速機を介して
モーターにより駆動し、１対のガイドロールは無駆動と
した。
このようにして脱脂Ｎ （２０ｇ／、ｅ Ｎａ ＯＨ
・６０℃）を４往復（２秒間）、水洗処理槽を１回通過
（０，５秒間）、酸洗槽（２５ｇ／ぶ１−ＩＺｓＯ４・
２０℃）を４往復（２秒間）、水洗処理槽を１回通過（
０，５秒間）、Ｎ１メッキ槽（Ｎｉ ＳＯ４２５０９／
、ｅ、 Ｎｉ Ｃｆ ３０’；ｊ／１゜ｔ−１３ＢＯ
２２０ｇ ／Ａ、 ｌ） Ｈ３，０，５５℃
、電流密度４０Ａ／ｄｍ２ ）を８往復（４秒間）、水
洗ｆｆｉ理槽を１回通過（１秒間）、Ｓｎメッキ槽（Ｓ
ｎ ８０４ ５０ｇ／、ｆ！、 Ｎ２８０４ １００ｇ
／ｆ。
・６０℃）を４往復（２秒間）、水洗処理槽を１回通過
（０，５秒間）、酸洗槽（２５ｇ／ぶ１−ＩＺｓＯ４・
２０℃）を４往復（２秒間）、水洗処理槽を１回通過（
０，５秒間）、Ｎ１メッキ槽（Ｎｉ ＳＯ４２５０９／
、ｅ、 Ｎｉ Ｃｆ ３０’；ｊ／１゜ｔ−１３ＢＯ
２２０ｇ ／Ａ、 ｌ） Ｈ３，０，５５℃
、電流密度４０Ａ／ｄｍ２ ）を８往復（４秒間）、水
洗ｆｆｉ理槽を１回通過（１秒間）、Ｓｎメッキ槽（Ｓ
ｎ ８０４ ５０ｇ／、ｆ！、 Ｎ２８０４ １００ｇ
／ｆ。
ニカワ ２０ｇ／ 、ｅ 、β−ナフトール少量、１５
℃。
℃。
電流密度 ２ＯＡ／ｃ１ｍ２ ）を４往復（２秒間）、
水洗処理槽を１回通過（０，５秒間）、へ〇ストライク
メッキ槽（Ａｑ ＣＮ ５ｇ／ｌ ＫＣＮ５０ｇ／、
Ｒ，２０℃、電流密度 １０Ａ／ｄｍ２ ）を４往復（
２秒間）、Ａ１１ｌメツギ槽（Ａ！ＩＣＮ ３０ｇ／
１２． ＫＣＮ ６０ｇ／Ｊ２．２０℃、電流密度１
２Ａ／ｄｍ２ ）を１２往復（６秒１ｉ！、’り、水洗
処理槽を１回通過（０，５秒間）させた。
水洗処理槽を１回通過（０，５秒間）、へ〇ストライク
メッキ槽（Ａｑ ＣＮ ５ｇ／ｌ ＫＣＮ５０ｇ／、
Ｒ，２０℃、電流密度 １０Ａ／ｄｍ２ ）を４往復（
２秒間）、Ａ１１ｌメツギ槽（Ａ！ＩＣＮ ３０ｇ／
１２． ＫＣＮ ６０ｇ／Ｊ２．２０℃、電流密度１
２Ａ／ｄｍ２ ）を１２往復（６秒１ｉ！、’り、水洗
処理槽を１回通過（０，５秒間）させた。
その結末、Ｃｕ線表面に厚さ０．５μのＮｉメッキ層と
、厚さ０．０５μのＳｎメッキ層を介し、その上に厚さ
０．７μのＡｇメッキ層を有するダイオード用リード線
が得られた。このリード線と従来の直列方式により製造
したダイオード用リード線と比較したが何等差異は認め
られなかった。
、厚さ０．０５μのＳｎメッキ層を介し、その上に厚さ
０．７μのＡｇメッキ層を有するダイオード用リード線
が得られた。このリード線と従来の直列方式により製造
したダイオード用リード線と比較したが何等差異は認め
られなかった。
このように本発明によれば極めてコンパクトな装置によ
り従来と同様のメッキ線材を製造し′ 得るもので、従
来装置と組み合せて使用することも可能であり、かつ多
層メッキ線材を能率よく製造することができる等工業上
顕著な効果を奏するものである。
り従来と同様のメッキ線材を製造し′ 得るもので、従
来装置と組み合せて使用することも可能であり、かつ多
層メッキ線材を能率よく製造することができる等工業上
顕著な効果を奏するものである。
第１図は本発明装置の一例を示す側面図、第２図は第１
図に示す装置の一部平面図、第３図は第１図のＡ−Ａ’
線におりる断面図、第４図（イ）、（ロ）、（ハ）は何
れも回転ロールと箱状体との摺接部の一例を示す説明図
、第５図は本発明装置の他の一例を示す側面図、第６図
は本発明装置の更に他の一例を示す側面図である。 ａ・・・被メッキ線材、１・・・回転用ロール、２・・
・ガイド用凹溝、３．３ａ、 ３ｂ・・・処理槽、３Ｃ
・・・水洗処理槽、４・・・側壁、５・・・スリッ１〜
又はパッキング、６・・・箱状体、７・・・線材用ガイ
ドロール、８・・・電極第４図 （イ） （ロ）第
５図 第６図
図に示す装置の一部平面図、第３図は第１図のＡ−Ａ’
線におりる断面図、第４図（イ）、（ロ）、（ハ）は何
れも回転ロールと箱状体との摺接部の一例を示す説明図
、第５図は本発明装置の他の一例を示す側面図、第６図
は本発明装置の更に他の一例を示す側面図である。 ａ・・・被メッキ線材、１・・・回転用ロール、２・・
・ガイド用凹溝、３．３ａ、 ３ｂ・・・処理槽、３Ｃ
・・・水洗処理槽、４・・・側壁、５・・・スリッ１〜
又はパッキング、６・・・箱状体、７・・・線材用ガイ
ドロール、８・・・電極第４図 （イ） （ロ）第
５図 第６図
Claims (8)
- （１）外周面に多数の線材ガイド用凹溝を設けた水平回
転ロールを左右に設け、該ロール間の軸方向に複数個の
処理槽を並設し、被メッキ線材を凹溝により処理槽内を
１回以上通過させた後、隣接する処理槽内に移行せしめ
て、被メッキ線材の前処理、処理槽内に設けた電極と回
転ロール間に電圧を印加するメッキ処理と水洗処理を連
続的に行なうことを特徴とする連続メッキ装置。 - （２）左右に設けたロール間に処理槽を上下２段に配置
する特許請求の範囲第１項記載の連続メッキ装置。 - （３）左右に設けたロールをそれぞれ上下２段のロール
で形成する特許請求の範囲第１項又は第２項記載の連続
メッキ装置。 - （４）回転ロールの異なる処理槽毎の境界外周面にフラ
ンジ又は凹溝を形成し、各処理槽毎のロールのフランジ
又は凹溝間に、被メッキ線材の出入可能な枠体を形成す
る特許請求の範囲第１項、第２項又は第３項記載の連続
メッキ装置。 - （５）外周面に多数の線材ガイド用凹溝を設けた水平回
転ロールを左右に設け、該ロール間の軸方向に複数個の
処理槽を並設し、各処理槽群の外方に線材ガイドロール
を設け、該ロール間に水洗処理槽を配置し、被メッキ線
材を凹溝により処理槽内を複数回通過させた後、ガイド
ロールにより水洗処理槽を通過させて隣接する処理槽に
移行せしめ、被メッキ線材の前処理、処理槽内に設けた
電極と回転ロール間に電圧を印加するメッキ処理及び水
洗処理を連続的に行なうことを特徴とする連続メッキ装
置。 - （６）左右に設けたロール間に処理槽を上下２段に配置
する特許請求の範囲第５項記載の連続メッキ装置。 - （７）左右に設けたロールをそれぞれ上下２段のロール
で形成する特許請求の範囲第５項又は第６項記載の連続
メッキ装置。 - （８）回転ロールの異なる処理槽毎の境界外周面にフラ
ンジ又は凹溝を形成し、各処理槽毎のロールのフランジ
又は凹溝間に、被メッキ線材の出入可能な枠体を形成す
る特許請求の範囲第５項、第６項又は第７項記載の連続
メッキ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15759984A JPS6137995A (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | 連続メツキ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15759984A JPS6137995A (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | 連続メツキ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6137995A true JPS6137995A (ja) | 1986-02-22 |
Family
ID=15653233
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15759984A Pending JPS6137995A (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | 連続メツキ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6137995A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100332666B1 (ko) * | 1999-06-25 | 2002-04-17 | 홍영철 | 개별 착탈식 와이어 배선대 |
| JP2012241242A (ja) * | 2011-05-20 | 2012-12-10 | Nippon Parkerizing Co Ltd | めっき装置 |
| CN112061861A (zh) * | 2020-08-25 | 2020-12-11 | 南通汇丰电子科技有限公司 | 一种走线机构、线材绕线方法、线材处理装置及方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5466337A (en) * | 1977-11-07 | 1979-05-28 | Showa Electric Wire & Cable Co Ltd | High speed treating method for wire rod |
-
1984
- 1984-07-30 JP JP15759984A patent/JPS6137995A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5466337A (en) * | 1977-11-07 | 1979-05-28 | Showa Electric Wire & Cable Co Ltd | High speed treating method for wire rod |
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|---|---|---|---|---|
| KR100332666B1 (ko) * | 1999-06-25 | 2002-04-17 | 홍영철 | 개별 착탈식 와이어 배선대 |
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| CN112061861A (zh) * | 2020-08-25 | 2020-12-11 | 南通汇丰电子科技有限公司 | 一种走线机构、线材绕线方法、线材处理装置及方法 |
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