JPS6136719A - 同期式光路開閉装置及びその操作法 - Google Patents
同期式光路開閉装置及びその操作法Info
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- JPS6136719A JPS6136719A JP15981984A JP15981984A JPS6136719A JP S6136719 A JPS6136719 A JP S6136719A JP 15981984 A JP15981984 A JP 15981984A JP 15981984 A JP15981984 A JP 15981984A JP S6136719 A JPS6136719 A JP S6136719A
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- Japan
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- opening
- optical path
- closing
- closing mechanism
- aperture
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、半導体デバイス等の製造で使用される露光装
置等における光照射制御機構及びその他一般光学機器に
用いる同期式光路開閉装置及びその操作法に関する。
置等における光照射制御機構及びその他一般光学機器に
用いる同期式光路開閉装置及びその操作法に関する。
（従来の技術）
半導体デバイス等の製造においては、ホトレジストの露
光によるパターン加工技術が用いられている。生産力の
向上のためには、工程管理能力が要求され、ホトレジス
ト露光においては、露光照射量の制御が重要である。例
えば、ステ、バー露光装置では露光対象物と露光マスク
（レチクル）との高精度の目合せ操作と、ホトレジスト
への投形無光動作が、露光対象物を配置したステージの
順次移動を行ないつつ、繰シ返される。従って、光照射
制御機構としては、特に再現性が要求される。
光によるパターン加工技術が用いられている。生産力の
向上のためには、工程管理能力が要求され、ホトレジス
ト露光においては、露光照射量の制御が重要である。例
えば、ステ、バー露光装置では露光対象物と露光マスク
（レチクル）との高精度の目合せ操作と、ホトレジスト
への投形無光動作が、露光対象物を配置したステージの
順次移動を行ないつつ、繰シ返される。従って、光照射
制御機構としては、特に再現性が要求される。
また縮小投影露光方式では、露光マスク上よシも小さな
面積領域に集光照射されるため、設定照射量に対する光
路開閉時間の制御は、他の一括露光方弐に対して一般に
厳しく、特に再現性が良く、かつ高精度の光路開閉装置
が求められている。しかも、所要露光時間を短縮するた
めに１光源ランプの高輝度化及びホトレジストの高感度
化等信の技術改良も進んでｓ’ ｂ ｓ従来にも増して
短時間領域での高精度な光路開閉制御技術が望まれてい
る。
面積領域に集光照射されるため、設定照射量に対する光
路開閉時間の制御は、他の一括露光方弐に対して一般に
厳しく、特に再現性が良く、かつ高精度の光路開閉装置
が求められている。しかも、所要露光時間を短縮するた
めに１光源ランプの高輝度化及びホトレジストの高感度
化等信の技術改良も進んでｓ’ ｂ ｓ従来にも増して
短時間領域での高精度な光路開閉制御技術が望まれてい
る。
従来の光路開閉装置において＃′ｉ、外部から電気的ま
たは機械的、作動指令を受けてから単一の開閉機構によ
シ、開閉状態の反転を行な−、連続的に保持した後、元
の状態に復帰するものが一般に広く用いられていた。
たは機械的、作動指令を受けてから単一の開閉機構によ
シ、開閉状態の反転を行な−、連続的に保持した後、元
の状態に復帰するものが一般に広く用いられていた。
第９図は、電磁コイル駆動による従来の光路開閉装置の
一例の要部を示す斜視図である。作動の指令は、電磁コ
イルｌ及びＩＪＩの駆動電流である。
一例の要部を示す斜視図である。作動の指令は、電磁コ
イルｌ及びＩＪＩの駆動電流である。
電磁コイルｒａＫ対する電流印加圧よ）発生した磁場に
よって、鉄製の移動開孔２が、鉄製の（支）定開孔３及
び３１に対して整列するべく移動する。
よって、鉄製の移動開孔２が、鉄製の（支）定開孔３及
び３１に対して整列するべく移動する。
この結果、光路の開放状態となる。また、電磁コイルＨ
ｍの駆動電流ｔ−開放し、電磁コイル１に駆動電流を印
加すると、移動開孔２が移動し、固定開孔３及び３１１
に対して遮光位置となる。
ｍの駆動電流ｔ−開放し、電磁コイル１に駆動電流を印
加すると、移動開孔２が移動し、固定開孔３及び３１１
に対して遮光位置となる。
本従来例で、駆動電流印加から移動開孔の整列までの経
過時間を支配する要因としては、駆動コイルの磁場の立
上シ特性、磁力を受けて移動する移動開孔の慣性、移動
開孔による磁場の乱れ等がある。
過時間を支配する要因としては、駆動コイルの磁場の立
上シ特性、磁力を受けて移動する移動開孔の慣性、移動
開孔による磁場の乱れ等がある。
従来の技術においては１以上の諸要因を、再現良く制御
することは、設計上困難であるという問題点があった。
することは、設計上困難であるという問題点があった。
（発明の目的）
本発明の目的は、上記の問題点を解消することＫよシ、
開閉動作の安定性を向上させ、開閉時間を高糖ｆＫ制御
する同期式光路開閉装置及びその繰作法を提供すること
Ｋある。
開閉動作の安定性を向上させ、開閉時間を高糖ｆＫ制御
する同期式光路開閉装置及びその繰作法を提供すること
Ｋある。
（発明の構成）
本発明の同期式光路開閉装置は、少くとも一つの開孔、
光フィルター部材又は遮光部材を配置した第１の断続開
閉機構と、少くとも一つの開孔。
光フィルター部材又は遮光部材を配置した第１の断続開
閉機構と、少くとも一つの開孔。
光フィルター部材又は遮光部材を配置し前記第１の断続
開閉機構の断続周期に同期して光路を開閉する第２の断
続開閉機構を備えることから構成される。
開閉機構の断続周期に同期して光路を開閉する第２の断
続開閉機構を備えることから構成される。
又、本発明の同期式光路開閉装置の操作法は骸同期式光
路開閉装置において、前記第１および第２の断続開閉機
構を駆動するための一つの同期信号から分局された複数
の分局信号を有し、該複数の分局信号の組み合せ駆動に
より前記光路の開閉を行うことから構成される。
路開閉装置において、前記第１および第２の断続開閉機
構を駆動するための一つの同期信号から分局された複数
の分局信号を有し、該複数の分局信号の組み合せ駆動に
より前記光路の開閉を行うことから構成される。
（作用）
本発明の同期式光路開閉装置は、例えば金属円板からな
る回転板上に一つの開孔を配置した第１の断続開閉機構
に重ねて、回転板上に一つの開孔を有する館２の継続開
閉機構を配置し、両回転板の回転によシそれら２つの開
孔が重なって光路を形成するのを、一つの同期信号から
分周された２つの分周信号の組み合せによる駆動を用い
て行うことに特徴がある。
る回転板上に一つの開孔を配置した第１の断続開閉機構
に重ねて、回転板上に一つの開孔を有する館２の継続開
閉機構を配置し、両回転板の回転によシそれら２つの開
孔が重なって光路を形成するのを、一つの同期信号から
分周された２つの分周信号の組み合せによる駆動を用い
て行うことに特徴がある。
かくして、問題となる光路開閉時間は分局信号によるデ
ィジタル処理が可能とな夛、再現性良く高精度制御が可
能となる。
ィジタル処理が可能とな夛、再現性良く高精度制御が可
能となる。
（実施例）
以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第１図は本発明の第１の実施例の要部を示す斜視図であ
る。
る。
第１図において、開孔５を持つ金属等遮光性の回転板４
は、回転軸６とパルスモータ−７によ多回転駆動され、
第１の光路開閉機構を構成する。
は、回転軸６とパルスモータ−７によ多回転駆動され、
第１の光路開閉機構を構成する。
一方、回転板４ａ、開孔５ａ、パルスモータ−７ａから
なる、同一の構成を持つ第２の開閉機構が、開孔５及び
５ａが光路に対して整列する如く配置されている。
なる、同一の構成を持つ第２の開閉機構が、開孔５及び
５ａが光路に対して整列する如く配置されている。
第２図は回転板４の平面図で、開孔５の形状例を示す。
第１図に示される２つの回転板４及び４ａは、相互に同
期して回転駆動される。
期して回転駆動される。
第３図は本実施例の操作法を説明するためのタイムチャ
ートで、パルスモータ−駆動に用いられる同期信号２分
局信号及び出力される光パルスを示す。
ートで、パルスモータ−駆動に用いられる同期信号２分
局信号及び出力される光パルスを示す。
同期信号８に対し、位相の異なる分周信号９及び分周信
号１０が用意される。開孔５及び５ａが光路に対して整
列した状態を初期状態として、共に分周信号１０で回転
駆動すると、光路上では、光パルス１１が観察される。
号１０が用意される。開孔５及び５ａが光路に対して整
列した状態を初期状態として、共に分周信号１０で回転
駆動すると、光路上では、光パルス１１が観察される。
一方、先の初期状態から、回転板４を分局信号９で、回
転板４ａを分周信号ｌＯで駆動すると、光路上で開孔５
、及び５ａは整列せず、閉状態となる。従って、この２
つの駆動方法を用いることによル、光路の開閉動作を行
なうことができる。
転板４ａを分周信号ｌＯで駆動すると、光路上で開孔５
、及び５ａは整列せず、閉状態となる。従って、この２
つの駆動方法を用いることによル、光路の開閉動作を行
なうことができる。
本実施例によれば、開状態時間は、光パルスｔｉの積算
として、簡便にデジタル処理可能である。
として、簡便にデジタル処理可能である。
このことは、制御コンビ、−夕との接続における実用的
利点をもたらし、高精度制御を行なうに十分である。又
、開閉動作の設計においても、例えば開孔５の面積、開
孔５の複数配置、同期信号８０周波数等の設定要素を変
化されることによシ、床机な設計上の自由度を提供する
ことが可能である０ 第４図は本発明の第２の実施例の要部を示す斜視図であ
る。本実施例は、複数の開孔を備えたものである。
利点をもたらし、高精度制御を行なうに十分である。又
、開閉動作の設計においても、例えば開孔５の面積、開
孔５の複数配置、同期信号８０周波数等の設定要素を変
化されることによシ、床机な設計上の自由度を提供する
ことが可能である０ 第４図は本発明の第２の実施例の要部を示す斜視図であ
る。本実施例は、複数の開孔を備えたものである。
本実施例は、第４図に示されるように１回転板４ｂ上に
開孔５ｂ及び光フィルター開孔１２が設けられている。
開孔５ｂ及び光フィルター開孔１２が設けられている。
例えば、ステ、パー露光装置等においては、このｙｔＪ
フィルター開孔１２には、ホトレジストを感光する短波
長光を遮断し、長波長光のみを透過させる性能を有する
フィルターを用いる。こうしたフィルター材質は、半導
体デバイス製造等圧おいて広く利用されておシ、例えば
ホトレジスト処理室の光源改質材がある。
フィルター開孔１２には、ホトレジストを感光する短波
長光を遮断し、長波長光のみを透過させる性能を有する
フィルターを用いる。こうしたフィルター材質は、半導
体デバイス製造等圧おいて広く利用されておシ、例えば
ホトレジスト処理室の光源改質材がある。
第５図は回転板４ａ、４ｂの平面図で、開孔５ａ。
ｑし
５ｂ及び光フイルタ開孔１２の形状例を示す。
第６図は本実施例の操作法を説明するためのタイムチャ
ートである。分周信号９．ｔＯ，１ｏａｔ１３のなかか
ら選択組み合せてパルスモータ−７゜７３を駆動するこ
とにより開孔５ｂ、光フィルター開孔１２を選択できる
。分局信号９において開孔５ｂ及び開孔５ａｔ光路上で
整列した状態を初期状態とすると、光源の全波長領域の
光パルス１１が得られ５分周信号ｌＯ及びｔＯａでは遮
光状態となる。また、分局信号１３を選ぶと、光フィル
ター開孔１２を透過した特定の波長領域から構成される
光パルス１４が得られる。
ートである。分周信号９．ｔＯ，１ｏａｔ１３のなかか
ら選択組み合せてパルスモータ−７゜７３を駆動するこ
とにより開孔５ｂ、光フィルター開孔１２を選択できる
。分局信号９において開孔５ｂ及び開孔５ａｔ光路上で
整列した状態を初期状態とすると、光源の全波長領域の
光パルス１１が得られ５分周信号ｌＯ及びｔＯａでは遮
光状態となる。また、分局信号１３を選ぶと、光フィル
ター開孔１２を透過した特定の波長領域から構成される
光パルス１４が得られる。
このように１同一光路上で波長領域を選択できることは
、ステ、パー露光装置における目合せ機構に対し、多く
の利点を与える。
、ステ、パー露光装置における目合せ機構に対し、多く
の利点を与える。
第７図は縮小投影露光装置の一例を示す構成図である。
レチクル」７は、光源２ング１５及びしる。この露光光
学系の一部にハーフミラ−１８が設置されし／ズ１６ｃ
Ｋよ）％ビデオカメラ１９にウェハー２０及び、レチク
ル１７の儂が導かれ目合せ操作に供される。
学系の一部にハーフミラ−１８が設置されし／ズ１６ｃ
Ｋよ）％ビデオカメラ１９にウェハー２０及び、レチク
ル１７の儂が導かれ目合せ操作に供される。
従来このような、露光光学系と共通した光学系による目
合せ操作では、目合せマークの照明光に露光と同じ波長
の光を用いて、マーク領域に結果としての付加的露光痕
跡残すか、付加機構として光フィルターを装備し、目合
せ操作と露光で切シ換える等の操作が必要であった。
合せ操作では、目合せマークの照明光に露光と同じ波長
の光を用いて、マーク領域に結果としての付加的露光痕
跡残すか、付加機構として光フィルターを装備し、目合
せ操作と露光で切シ換える等の操作が必要であった。
この光学系に第４図に示すような光フィルター開孔を持
つ光路開閉装置を用いれば、簡便に波長成分の選択が可
能である。
つ光路開閉装置を用いれば、簡便に波長成分の選択が可
能である。
また、第２の断続開閉機構として、第８図に示す回転板
４Ｃを用いれば、断続する光パルスによる露光中におい
ても時分割で非感光波長光で照射することができる。
４Ｃを用いれば、断続する光パルスによる露光中におい
ても時分割で非感光波長光で照射することができる。
それには第８図に示す開孔５ｃｔ−第５図の回転板４ｂ
の光フィルター開孔１２と整列された状態を初期設定と
して、第６図の分局信号１３で同期する。光路上には、
非感光波長の光パルス１４が観察される。
の光フィルター開孔１２と整列された状態を初期設定と
して、第６図の分局信号１３で同期する。光路上には、
非感光波長の光パルス１４が観察される。
よって、この光により目合せ操作時の照射光とすること
ができる。さて次に、同図の分周信号９に同期されると
、開孔５Ｃ及び光フィルター開孔１２は、第８図におけ
る対向配置された２ケ所の開孔２３と各々整列する。
ができる。さて次に、同図の分周信号９に同期されると
、開孔５Ｃ及び光フィルター開孔１２は、第８図におけ
る対向配置された２ケ所の開孔２３と各々整列する。
そのため、光路上では、露光波長領域の光パルス１１と
非感光波長の光パルス１４が交互に観察される。
非感光波長の光パルス１４が交互に観察される。
従って光パルス１４に対してのみ同期検出操作を行なえ
ば、露光前と全く同じ目合せ操作に供することができる
。このことは、第７図に示す露光装置において、目合せ
精度を、ビデオカメラ１９によシ得られた電気信号ｔ１
制御コンピュータ２Ｌが、露光中においても時分割で確
認できるため、例えば、外部よシの振動に対しても移動
ステージ２２に対するフィードパ、り制御法により、補
正が可能なと、本発明が露光装置にもたらす効果に大き
い。
ば、露光前と全く同じ目合せ操作に供することができる
。このことは、第７図に示す露光装置において、目合せ
精度を、ビデオカメラ１９によシ得られた電気信号ｔ１
制御コンピュータ２Ｌが、露光中においても時分割で確
認できるため、例えば、外部よシの振動に対しても移動
ステージ２２に対するフィードパ、り制御法により、補
正が可能なと、本発明が露光装置にもたらす効果に大き
い。
（発明の効果）
以上、詳細説明したとおシ、本発明によれば上記の構成
によ）、光路の開閉動作の安定性を向上させ、開閉時間
を高精度に制御する同期式光路開閉装置とその操作法が
得られる。
によ）、光路の開閉動作の安定性を向上させ、開閉時間
を高精度に制御する同期式光路開閉装置とその操作法が
得られる。
第１図は本発明の第１の実施例の要部を示す斜視図、第
２図はその回転板の一例を示す平面図、第３図はその操
作法を説明するためのタイムチャート、第４図は本発明
の第２の実施例の要部を示す斜視図、第５図はその回転
板の一例を示す平面図、第６図はその操作法を説明する
ためのタイムチャート、第７図は縮小投影露光装置の一
例を示す構成図、第８図は本発明の同期式光路開閉装置
に用いられる回転板の他の例を示す平面図、第９図は従
来の光路開閉装置の一例の要部を示す斜視図である。 ４ ｔ ４ ａ ｔ ４ ｂｇ ４ ’ ”””回転板
＆ ５ｔ５”ｔ５ｂ１５Ｃ・・・・・・開孔、６，６
ａ・・・・・・回転軸Ｉ Ｌ７ａ・・・・・・パルスモ
ータ、８・・・・・・同期信号％ ９．ＩＯ，１０！
１・・・・・・分周信号、１１・・・・・・光パルス、
１２・・・内光フィル＆孔、１３・・・・・・分局信号
、１４・・・・・・光パルス、２３・・・・・・開孔。 兜 硝ト ≦、６久：百転釉 ７．７ＯＮ：ｉぐルズｔ−９− 条 １ 図 第２図 半３回 ６．６久：８転軸 ７．７Ｑ： ）’ルＸ（−クー １２ ：走７勺ル燗否ム 早４ 面 巣Ｓ 図 碕暫 革６ ＠ 第７図 第８ 図
２図はその回転板の一例を示す平面図、第３図はその操
作法を説明するためのタイムチャート、第４図は本発明
の第２の実施例の要部を示す斜視図、第５図はその回転
板の一例を示す平面図、第６図はその操作法を説明する
ためのタイムチャート、第７図は縮小投影露光装置の一
例を示す構成図、第８図は本発明の同期式光路開閉装置
に用いられる回転板の他の例を示す平面図、第９図は従
来の光路開閉装置の一例の要部を示す斜視図である。 ４ ｔ ４ ａ ｔ ４ ｂｇ ４ ’ ”””回転板
＆ ５ｔ５”ｔ５ｂ１５Ｃ・・・・・・開孔、６，６
ａ・・・・・・回転軸Ｉ Ｌ７ａ・・・・・・パルスモ
ータ、８・・・・・・同期信号％ ９．ＩＯ，１０！
１・・・・・・分周信号、１１・・・・・・光パルス、
１２・・・内光フィル＆孔、１３・・・・・・分局信号
、１４・・・・・・光パルス、２３・・・・・・開孔。 兜 硝ト ≦、６久：百転釉 ７．７ＯＮ：ｉぐルズｔ−９− 条 １ 図 第２図 半３回 ６．６久：８転軸 ７．７Ｑ： ）’ルＸ（−クー １２ ：走７勺ル燗否ム 早４ 面 巣Ｓ 図 碕暫 革６ ＠ 第７図 第８ 図
Claims (3)
- （１）少くとも一つの開孔、光フィルター部材又は遮光
部材を配置した第１の断続開閉機構と、少くとも一つの
開孔、光フィルター部材又は遮光部材を配置し前記第１
の断続開閉機構の断続周期に同期して光路を開閉する第
２の断続開閉機構を備えることを特徴とする同期式光路
開閉装置。 - （２）光フィルタ部材がホトレジストの非感光波成分を
選択透過又は選択吸収する部材からなる特許請求の範囲
第（１）項記載の同期式光路開閉装置。 - （３）少くとも一つの開孔、光フィルター部材又は遮光
部材を配置した第１の断続開閉機構と、少くとも一つの
開孔、光フイルター部材又は遮光部材を配置し前記第１
の断続開閉機構の断続周期に同期して光路を開閉する第
２の断続開閉機構を備える同期式光路開閉装置において
、前記第１および第２の断続開閉機構を駆動するための
一つの同期信号から分周された複数の分周信号を有し、
該複数の分周信号の組み合せ駆動により前記光路の開閉
を行うことを特徴とする同期式光路用開閉装置の操作法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15981984A JPS6136719A (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | 同期式光路開閉装置及びその操作法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15981984A JPS6136719A (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | 同期式光路開閉装置及びその操作法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6136719A true JPS6136719A (ja) | 1986-02-21 |
Family
ID=15701939
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15981984A Pending JPS6136719A (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | 同期式光路開閉装置及びその操作法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6136719A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4332748A1 (de) * | 1993-09-25 | 1995-03-30 | Marquardt Gmbh | Schalter, vorzugsweise für Kraftfahrzeug |
| SG120919A1 (en) * | 2002-03-28 | 2006-04-26 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| JP2008076924A (ja) * | 2006-09-25 | 2008-04-03 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
| NL2015018A (en) * | 2014-07-07 | 2016-04-04 | Media Lario Srl | Systems and methods for synchronous operation of debris-mitigation devices. |
| CN107290938A (zh) * | 2016-03-31 | 2017-10-24 | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 | 一种用于光刻机曝光的快门装置及其使用方法 |
-
1984
- 1984-07-30 JP JP15981984A patent/JPS6136719A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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