JPS6136267A - 置換された５‐アミノ‐１‐フエニルピラゾール - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規な置換された５−アミノ−１−フェニルピ
ラゾール、その数種の製造方法及び除草剤としてのその
使用に関するものである。

ある種の置換された５−アミノ−１−フェニルピラゾー
ル、例工ば４−シアノ−５−プロピオンアミド−１−（
２，４，６−トリクロロフエニル）−または対応する−
１−（２，３，４−）リクロロフェニル）−ピラゾール
が除草剤特性を有することは既に公知である〔例えばド
イツ国特許出願公開（ＤＥ−Ｏ８）第３，２２６，５１
３号参照〕。

しかしながら、これら公知の化合物の雑草に対する除草
作用及びその重要な作物に対する許容性はすべての使用
分暗において常に完全に満足できるものとは限らない。

式中、Ｒはシアン、アルコキシカルボニル、アルケニル
オキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アミ
ノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アルケニル
アミノカルボニル、アルキニルアミノカルボニル、ジア
ルキルアミノカルボニル、ジアルケニルアミノカルボニ
ルまたはジアルキルアミノカルボニルを表わし、 Ｒ＋１ハアルキル、アルケニル、アルキニルまたはシク
ロアルキルを表わし、但しその各々は随時置換されてい
てもよく、 Ｒ１はＲ１とは独立にＲ１と同様の基を表わし、そして
加えて水素または基−Ｃ−Ｒ８を表わし、ここに Ｘは酸素または硫黄を表わし、且つ Ｒ８は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロ
ゲノアルキル、プルコキシアルキル、アルキルチオアル
キル、随時置換されていてもよいシクロアルキルもしく
は随時置換されていてもよいアリールを表わすか、アル
コキシ、アルキルチオ、随時置換されていてもよいアリ
ールオキシもしくは随時置換されていてもよいアリール
チオを表わすか、またはアルキルアミノ、ジアルキルア
ミノもしくは随時置換されていてもよいアリールアミノ
を表わし、そして同一もしくは相異なるものである几８
、ＦＬ４、Ｒ，Ｂ　、　Ｂａ及びＲ４は水素、ハロゲン
、シアノ、ニトロ、アルキル、アルコキシ、アルキルス
ルホニル、アルコキシカルボニルまたは基−（Ｘ′）ｎ
−Ｒ９を表わし、ここにＸ′は酸素、硫黄、スルフィニ
ルまたはスルホニルを表わし、 ｎは０才たは１を表わし、そして Ｂｅはハロゲノアルキルを表わし、但しＲ３、Ｒ’　、
Ｒ＋’　、Ｒ＋’及びＲ７は基−（Ｘ’）ｎ−Ｒ，９を
表わすが、Ｒ３がトリフルオロメチルを表わすと同時に
Ｒはシアノを表わさない、の新規な置換された５−アミ
ノ−１−フェニルピｌ　８− ラゾールが見い出された。

ｌ（＋＋ 式中、Ｒ，、Ｒ，３、Ｒ４、Ｒ”　ＳＲ６及び几）は上
記の意味を有し、そして Ｒ１１０は水素または基−Ｃ−Ｒ，８を表わし、ここに
Ｘ及びＲ８は上記の意味を有する、の５−アミノ−ピラ
ゾールを適当ならば希釈剤の存在下、及び適当ならば酸
結合剤の存在下、並びに適当ならば触媒の存在下で式（
７） ％式％） 式中、Ｒ１は上記の意味を有し、そして人は電子吸引性
脱離基を表わす、 のアルキル化剤と反応させるか、２ （ｂ）式（Ｔａ） 式中、Ｒ，Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ１１、Ｒ，６、Ｒ？及
びＲ８は上記の意味を有する、 の５−アシルアミノピラゾールを適当ならば希釈剤の存
在下で常法により酸及び塩基で脱アシル化するか、また
は （Ｃ）式（ＩＶ’） Ｒ＋１ 式中、Ｒ，、Ｒ’　、Ｒ，４、Ｒ，”　、　Ｒ’及びＲ
７は上記の意味を有し、 １（，１ｌｉｉアルキル、アルケニルまたはアルキニル
を表わし、その各々は随時置換されていてもよく、そし
て Ｒ１！はＲ１１１とは独立にＲ’ｌと同様の基を表わし
、且つまた水素も表わす、 のアゾメチンを適当ならば希釈剤の存在下で錯体水素化
物で還元する方法により一般式（Ｉ）の新規な置換され
た５−アミノ−１−フェニルピラゾールが得られること
が更に見い出された。

最後に、式（Ｔ）の新規な置換された５−アミノ−１−
フェニルピラゾールは除草特性、及び殊にまた選択的除
草特性を有していることが見い出された。

驚くべきことに、式（Ｉ）の新規な置換された５−アミ
ノ−１−フェニルピラゾールは例えば本分野から公知で
あシ、且つ化学的に、及びその作用の観点から近い関係
にある化合物である化合物４−シアノ−５−プロピオン
アミド−１−（２，４゜６−トリクロロフェニル）−及
び−（２，３，４−トリクロロフェニル）−ピラゾール
よシ良好な有害植物に対する除草活性と共に、良好な重
要な作物に対する許容性を有している。

式（Ｉ）は新規な置換された５−アミノ−１−フェニル
ピラゾールの一般的定義を与える。好適な式（Ｉ）の化
合物はＲがシアノもしくはアミノカルボニルを表わすか
、またはアルコキシカルボニル、アルケニルオキシカル
ボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルアミノ
カルボニル、アルケニルアミノカルボニル、アルキニル
アミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、ジア
ルケニルアミノカルボニルもしくはジアルキルアミノカ
ルボニルを表わし、その各々が個々の脂肪族基中に炭素
原子５個までを有し、且つその各々が直鎖状もしくは分
枝鎖状であ’ｔ、Ｒ”がアルキル、アルケニルまたはア
ルキニルを表わし、その各々が炭素原子８個までを有し
、且つその各々が随時同一もしくは相異なる置換基によ
シー置換または多置換されていてもよく、その際に可能
な置換基にはハロゲン、シアノ、ニトロ、ヒドロキシル
及びカルボキシル、アルコキシ並びにアルコキシカルボ
ニルがあり、その各々は直鎖状または分枝鎖状であり、
並びに随時アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコ
キシもしくはアルキルスルホニルで置換されていてもよ
いアミノカルボニルを表わし、その際にアミノカルボニ
ル基の窒素原子は更にヘテロ原子、殊に窒素、酸素もし
くは硫黄２個までを有する飽和の３眞〜７員の複素環式
基の一部であることもできるか；或いは炭素、味子３〜
７個を有し、且つ随時ハロゲン及び炭素原子１〜４個を
有する直鎖状または分枝鎖状アルキルよりなる群からの
同一もしくは相異なる基で一置換または多置換さね、て
いてもよいシクロアルキルを表わ１２、ＢｙがＲ１とは
独立にＲ＋　’と同様の基を表わし７、そしてまた水素
または基−Ｃ−Ｔｔ、８を表わ１７、ここＩ にＸが酸素または硫黄を表わ１−７、Ｒ４が水素を表、
わずか、その各々が個々のアルキル部分に炭素原子４個
までを有し、目、つその各々が直鎖状もしくは分枝鎖状
であるアルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ
アルキル、アルキルチオアルキル、アルコキシ、アルキ
ルチオ、アルキルアミノ・ジアルキルアミノまたは同一
もしくは相異なるハロゲン原子９個までも有するハロゲ
ノアルキルを表わすか、炭素原子３〜７個を有し、且つ
随時ハロゲン、低級アルキル及び低級ハロゲノアルキル
よりなる群からの同一もしくは相異なる置換基で一置換
または多置換されていてもよいシクロアルキルを表わす
か、或いはその各々が随時同一もしくは相異なる置換基
で一置換才たけ多置換されていてもよいフェニル、フェ
ノキシ、フェニルチオまたはフェニルアミノを表わし７
、ここにフェニルの可能な置換基１ではハロゲン並びに
その各々が炭素原子４個までを有１７、且つその各々が
直鎖状も１、＜は分枝鎖状であるアルキル、アルコキシ
及び同一もしくは相異なるハロゲン原子９個までも有す
るハロゲノアルキルがあり、そしてＲ３、Ｊ（，４、Ｒ
Ｉｌ、ｌ（，６及びＴ（，７が相互に独立して水素、フ
ッ素、塩素、臭素、ヨウ素またはニトロ、或いはその各
々が特定のアルキル部分に炭素原子４個までを有し、且
つ直鎖状もしくは分枝鎖状であるアルキル、アルコキシ
、アルキルスルホニルまたはアルコキシカルボニルを表
わすか、或いは基−（Ｘ′）ｎ−Ｒ９を表わし、ここに
Ｘ′は酸素、硫黄、スルフィニルまたはスルボニルを表
わし、ｎはＯまたは１を表わし、そしてＲＩｌは炭素原
子４個まで及び同一もしくは相異なるハロゲン原子９個
までを有する直鎖状もしくは分枝鎖状のハロゲノアルキ
ルを表わし、但し基ｐ、Ａ　、ｌｌ、４　、ＲＩｌ　、
　Ｒ１１またはＲＩｌの少なくとも１つが基−（ＸＩ’
）ｎ−Ｒ，９を表わすが、ＲＩ＋カドリフルオロメチル
を表わすと同時にＲはシアノを表わさないものである。

殊に好適な式（Ｔ）の化合物はＲがシアン、メトキシカ
ルボニル、エトキシカルボニル、アリルオキシカルボニ
ル、フロパルギルオキシカルボニル、アミノカルボニル
、メチルアミノカルボニル、ジメチルアミノカルボニル
、エチルアミノカルボニル、ジエチルアミノカルボニル
、ジアリルアミノカルボニルまたはジプロバルギルアミ
ノカルボニルを表わし７、Ｒ１がメチル、エチル、ｎ−
もしくはｉ−プロピル、ｎ−１ｉ−１Ｓ−もしくはｔ−
ブチル、アリル、ブテニル、プロパルギルまたはブテニ
ルを表わし、ここにその各々は随時同一もしくは相異な
る置換基で−、二または三置換されていてもよく、可能
な置換基にはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素、シアノ、ニ
トロ、ヒドロキシル、カルボキシル、メトキシ、エトキ
シ、ｎ−もＬ＜はｉ−プロポキシ、メトキシカルボニル
、エトキシカルボニル、ｎ−もしくはｉ−プロポキシカ
ルボニル、ｎ−１ｉ−１Ｓ−もしくはｔ−ブトキシカル
ボニル、アミノカルボニル、Ｎ−メチルアミノカルボニ
ル、Ｎ−エチルアミノカルボニル、Ｎ、Ｎ−ジメチルア
ミノカルボニル、Ｎ、’Ｎ−ジエチルアミノカルボニル
、Ｎ、Ｎ−ジアリルアミノカルボニル、Ｎ−メチル−Ｎ
−エチルアミノカルボニル、Ｎ−メチル−Ｎ−−ｊ’ロ
ピルアミノカルボニル、Ｎ−メチル−Ｎ−アリルアミノ
カルボニル、Ｎ−メチル−Ｎ−プロパルギルアミノカル
ボニル、Ｎ−メチル−Ｎ−メトキシアミノカルボニル、
Ｎ−メチルスルホニルアミノカルボニル、Ｎ−エチルス
ルホニルアミノカルボニル、ピロリジン−１−イルカル
ボニル、ピペリジン−１−イルカルボニル、モルホリン
−４−イルカルボニル及２６一 びパーヒドロアゼピン−１−イルカルボニルがあるか；
或いはシクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ルまたはシクロヘプチルを表わし、ここ゛にその各々は
随時塩素、メチル及びエチルよりなる群からの同一もし
くは相異なる置換基で−、二、三、四または三置換され
ていてもよく、Ｒ２はＲ１とは独立にＢｔ　と同様の基
を表わし、追加として水素または基−Ｃ−Ｒ８を表わし
、ここにＸは酸素または硫黄を表わし、そしてＲ８は水
素、メチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、アリ
ル、プロパルギル、ブテニル、メトキシメチル、エトキ
シメチル、メトキシエチル、エトキシエチル、メチルチ
オメチル、メトキシ、エトキシ、メチルチオ、エチルチ
オ、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ト
リフルオロメチル、トリクロロエチル、ジクロロフルオ
ロエチル、ジフルオロクロロエチル、クロロメチル、ヨ
ードメチル、ブロモメチル、ジクロロメチル、１−クロ
ロエチル、２−クロロエテル、２−ブロモエテルまたは
ヘプタフルオロ−ｎ−プロピルを表わすか、その各々が
随時フッ素、塩素、臭素、メチル及びトリフルオロメチ
ルよシなる群からの同一もしくは相異なる置換基で−、
二、三または四置換されていてもよいシクロプロピル、
シクロペンチルまたはシクロヘキシルを表わすか、或い
はその各々が随時メチル、メトキシ、塩素及びトリフル
オロメチルからなる群に対する同一もしくは相異なる置
換基で−、二または三置換されていてもよいフェニル、
フェノキシ、フェニルチオマタハフェニルアミノを表わ
し、そしてＲ・３　、Ｒ’　、ＲＩＩｌ、　Ｒ’及びＲ
７が相互に独立して水素、フッ素、塩素、臭素、シア八
ニトロ、メチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、
メトキシ、エトキシ、メチルスルホニル、メトキシカル
ボニルまたはエトキシカルボニルを表わすか、或いは基
−（Ｘ　／　）ｎｌ（、Ｑを表わし、ここにＸ′は酸素
、硫黄、スルフィニルまたはスルホニルを表わし、ｎは
０才たは１を表わし、そしてＲ９はトリフルオロメチル
、トリクロロメチル、ジクロロフルオロメチル、ジフル
オロクロロメチル、ジクロロメチル、り四ロメチル、ジ
フルオロメチル、ペンタフルオロエチル、テトラフルオ
ロエチル、トリフルオロクロロエチル、トリフルオロエ
チル、ジフルオロジクロロエチル、トリフルオロジクロ
ロエチルまたはペンタクロロエチルを表わし、但１．Ｒ
・３、Ｒ’、Ｒ’、Ｒ’またはＲ７の少なくとも１つが
基−（Ｘ／）ｎ−Ｒ，９を表わすが、Ｒ５がトリフルオ
ロメチルを表わすと同時にＲはシアノを表わさないもの
である。

製造実施例に挙げられる化合物に加えて、次の、一般式
（Ｔ）の化合物を特に挙げ得る：国　工　国　匡　工　
工　匡　工　〒　ヱ　　〒　ヱ　工　工　工匡　工　国
　１）Ｏ工　１）匡　工　Ｏ匡　工　国　工　０国　匡
　工　匡　工　国　〒　匡　１）〒　　閃　国　国　＝
　国四 国 国 国　峙　〒　四　タ　丑　国　−国　（Ｉ）　Ｑ　工　
剛　四国　工　工　匡　四　匡　工　工　頴　国　国　
ヱ　１）四国　１）国　１）四　国　Ｑ　工　匡　匡　
国　工　国　四ｚＺｚ２Ｚ２Ｚ２．ＺＺＺ２ＺＺ ｇ　　ＩＪ　　Ｑ　　［Ｊ　　０　Ｑ　ＩＪ　　ＯＯＣ
Ｊ　　（Ｊ　　（Ｊ　　ＩＪ　○Ｑ　丑　ｌ：Ｑ　　国
　０　工　ｍ　国　Ｑ　工　■　国　○　工　＝国　′
：ｒ５；　　国　１）＝　１）国　工　工　工　国　工
　工　〒１）国　国　匡　１）工　工　工　１）国　国
　１）国　国　工ｚｚＺ２；Ｚｚ；ＺｚＺ２；　　ｚ　
２２２２；ＵＱＯＩＪＵＱ（Ｊ　　　ＣＪ　　　（、Ｉ
Ｑ　　　Ｑ　　　Ｕ　　　（、Ｉ　　　Ｑ　　　ＣＪ１
）〇　四　国　　国　四　−工　Ｑ　工　四　工　国　
　閃　開国　エ　エ　匡　　工　エ　−　１）工　工　
工　丑　国　　工　工匡　１）国　＝　　＝　匡　−工
　＝　■　１）国　国　　国　開国　１）国　工　　＝
　工　匡　１）国　国　工　１）工　　工　エリ　（Ｊ
　　ｕ　　ＬＪ　　　リ　　リ　リ　　リ　　リ　　リ
　　口　　リ　　し　　リ　　Ｑ＝　＝　匡　国　工　
工　エ　１）；　工　工　エ　エ　エ工　匡　国　１）
匡　国　匡　工　工　工　１）国　閃　閃工　ヱ　０　
工　薗　匡　０　工　中　工　Ｏ工　■　ヱ国　国　国
　国　国　国　工　工　工　ヱ　エ　国　国　℃匡　工
　０：ｉ　　１）国　工　匡　１）国　工　１）閃　国
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　国　四　四国　工　国　１）１）−国　工　匡　国　
冒　国　工　四１）工　１）国　国　−丑　匡　国　１
）国　国　工　田＝　工　に　工　１）１）工　国　国
　工　工　丑　工　工工　１）工　工　工　国　国　国
　国　国　国　国　国　国Ｏ１）　　　Ｑ　　　　工　
　　　０１：Ｉ：１国　　　　国　　　　国　　　　１
）　　　国　　　開国　　　　国　　　　国　　　　１
）　　　丑　　　国ＩＪ　　　　　　ｏ　　　　　　０
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　〇　四　１）口　１）−−工　０１）四　丑　１）１
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工　国　１）四　１）開国　閃　国　国　工　国　国　
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１）国　国　丑　匡　国　匡　工　　工　　　国　　　
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Ｏ丑　国　１）国　〒　１）国　１）１）１）国　開国
　１）１）国　１）国　１）工　工　ヱ　国　工　〒　
１）国　ＯＱｚｚｚｚｚｚｚｚｚｚｚｚｚｚｚｚｚ Ｑ　Ｑ　ｐ　　Ｑ　○　ＩＪＱ（ＪＱ　　Ｏ（ＪＱＱ　
　○　Ｃ）ＣＪ　　○例えば出発物質として４−シアノ
−５−プロピオニルアミノ−１−（２，６−ジクロロ−
４−トリフルオロメチルチオフェニル）−ピラゾール及
びヨウ化メチルを用いる場合、本発明による工程（ａ）
における反応の過程は次式にょシ表わすことができる： ＳＣＦ。

例えば出発物質として４−シアノ−５−（Ｎ−ｎ−プロ
ピル−Ｎ−プロピオニルアミノ）−１−（２−り四ロー
４−トリフルオロメトキシフェニル）−ピラゾール及び
水酸化ナトリウム溶液を用いる場合、本発明による工程
（ｂ）における反応の過程は次式により表わすことがで
きる： 例えば出発物質として４−シアノ−５−イソプロピリデ
ンイミノ−１−（２−クロロ−４−トリフルオロメチル
チオフェニル）−ピラゾールを用い、そして還元剤とし
て水素化ホウ素ナトリウムを用いる場合、本発明による
工程（Ｃ）における反応の過程は次式により表わすこと
ができる：式（ＩＴ）は本発明による工程（ａ）を行う
際の出発物質として必要とされる５−アミノ−ピラゾー
ルの一般的定義を与える。この弐Ｑｌ）において、ａ、
ａｍ、Ｒ４、Ｒ，５、Ｒｅ及びＲ７は好ましくは本発明
による式Ｑ）の物質の記載に関連してこれら置換基に対
して好適なものとして既に挙げられた基を表わす。

Ｒ２は好ましくは水素または基−Ｃ−Ｒ”を表わし、・
　　　　　　　　　　　Ｘ ここにＸ及びＲ８は本発明による式（■）の物質を記載
する際にこれらの基に対して既に挙げられた同　４４一 様に好適な意味を有する。

式（ＴＩ）の５−アミノピラゾールはある場合には公知
である〔例えばドイツ国特許出順公開ＣＤＥ−Ｏ８）第
３．２２６．４９６号、　同第３，１２９，４２９号及
びヨーロッパ特許出願第３４，９４５号参照〕。

これらのものは原理的に公知である方法により、例えば
弐Ｍ 式中、Ｒは上記の意味を有する、 のアクリロニトリル誘導体及び式（ＶＩ）式中、Ｒ３、
Ｒ’、Ｒ１１，Ｒ６及びＲ７は上記の意味を有する、 のフェニルヒドラジンを第一の段階で適当ならば希釈剤
（例えば氷酢酸またはエタノール）の存在下、及び適当
ならば反応補助剤（例えば酢酸ナトリウム）の存在下に
て−２０乃至＋２０℃間の温度で反応させて式（■） 式中、Ｒ，、Ｒ３、Ｒ，４、Ｒ”　、Ｒ’及びＲγは上
記の意味を有する、 のフェニルヒドラジン誘導体を生成させ、そしてこれら
のものを第二の段階で適当ならば希釈剤（例えばエチレ
ングリコールモノエチルエーテル）の存在下にて＋５０
乃至＋１５０℃間の温度で環化するか、または適当なら
ば希釈剤（例えばエチレングリコールモノエチルエーテ
ルまたはエタノール）の存在下？ごて＋５０乃至＋１５
０℃間の温度で式（■）の中間体を単離せずに直接一段
の反応工程で環化させ、そしてかくて得られる式（Ｔｌ
ａ）Ｄ 式中、Ｒ，Ｒ３、Ｒ，４、Ｒ１、Ｒ，ｌｌ及びＦＬ”は
上記の意味を有する、 の５−アミノピラゾールを適当ならば希釈剤（例えば塩
化メチレンまたはアセトニトリル）の存在下、及び適当
ならば酸結合剤（例えば炭酸カリウムまたはトリエチル
アミン）の存在下によシー２’０乃至＋１２０℃間の温
度で適当ならば式（■）Ｒ”−Ｃ−Ａ’（■） 式中、Ｒｓ及びＸは上記の意味を有し、そして Ａ′は電子吸引性脱離基、例えばハロゲンまたは基Ｒ８
−Ｃ−０−を表わす、 のアシル化剤、または式（ｆｆ） Ｒ”−Ｎ＝Ｃ＝Ｘ　　　　　　（ｙ） 式中、Ｘは上記の意味を有し、そして Ｒ”はアルキルまたは随時置換されていてもよいアリー
ルを表わす、 のイソ（チオ）シアネートでアシル化することによシ得
られる（Ｉ９８３年１０月１５日付はドイツ国特許第３
．３３７．５４３．７号：１９８４年６月６日付は同第
３，４２０，９８５．９号及び１９８４年６月２７日付
は同第３．４２３．５８２．５号も参照）。

弐Ｍのアクリロニトリル誘導体は公知である（例えばヨ
ーロッパ特許出願筒３４，９４５号またはドイツ国特許
出願公開第３．１２９．４２９号参照）。

式（Ｖｌ）のフェニルヒドラジンは殆んどの場合に公知
であるか、またはこれらのものは簡単な類似の方法にお
ける公知の方法によシ〔例えばホウベン−バイエル（Ｈ
ｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ　）、「有機化学の方法ｊ　（（
Ｍｅｔｈｏｄｅｎ　ｄｅｒ　ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎＣ
ｈｅｍｉｅＪ）、第Ｘ／２巻、２０３頁、シータ・ベル
ラグ・ストウツツガルト（Ｔｈｉｅｍｅ　Ｖｅｒｌａｇ
８ｔｕ８−８ｔｕｔｔ、１９６７：］、例えば式（−Ｘ
）式中、Ｒ”　、Ｒ’、Ｒ１１，Ｂ、ａ及びＲ″′は上
記の意味を有する、 の公知のアニリンを酸（例えば硫酸）の存在下にて−２
０乃至＋８０℃間の温度で亜硝酸ナトリウム及び次にま
た酸（例えば塩酸）の存在下にて塩化スズ（「）と反応
させることにより調製することができる。

式（■）のアシル化剤、式（■）のイソ（チオ）シアネ
ート及び式（Ｘ）のアニリレは一般的に公知の有機化学
の化合物である。

式（Ｉ）は本発明による工程（ａ）を行う際の出発物質
として更に必要とされるアルキル化剤の一般的定義を与
える。この式（Ｉ）において、Ｒ′は好ましくは本発明
による式（Ｄの物質を記載する際にこれらの置換基に対
して好適なものとして既に挙げられた基を表わす。人は
好ましくはハロゲン殊に塩素、臭素もしくはヨウ素を表
わすか、またはアルキルスルホニルオキシ、アルコキシ
スルホニルオキシまたはアリールスルホニルオキシを表
わし、ここにその各々は随時例えばメタンスルホニルオ
キシ、メトキシスルホニルオキシまたｉｌ：ｐ−）ルエ
ンスルホニルオキシで置換されていてもよい。式（Ｉ）
のアルキル化剤は一般的に公知の有機化学の化合物であ
る。

式（Ｉａ）は本発明による工程の）を行う際の出発物質
として必要とされる５−アシルアミノ−ピラゾールの一
般的定義を与える。この式（ｌａ）において、Ｒ，Ｒ１
、Ｒ”　、Ｒ４、Ｒ’　、Ｒ６、Ｒ”　　及びＲ８は好
ましくは本発明による式（Ｉ）の物質を記載する際にこ
れらの置換基に対して好適なものとして既に挙げられた
基を表わす。

式（Ｉａ）の５−アシルアミノ−ピラゾールは本発明に
よる化合物であシ、そして本発明による工程（ａ）を用
いて得られる。

式（ＩＶ）は本発明による工程（Ｃ）を行う際の出発物
質として必要とされるアゾメチンの一般的定義を与える
。この式（ＩＶ）において、Ｒ１、Ｒ１、Ｒ，４、Ｒ５
、Ｒ，＋１及びＲ７は好ましくは本発明による式（Ｉ）
の物質を記載する際にこれらの置換基に好適なものとし
て暁に挙げられた基を表わす。Ｒ目は好ましくはその各
々が炭素原子７個までを有し、その各々が直鎖状または
分枝鎖状であり、且つ随時同一もしくは相異なる置換基
で一置換または多置換されていてもよいアルキル、アル
ケニルまたはアルキニルを表わし、そして殊にメチル、
エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、ｎ−１ｉ−１Ｓ−
もり、＜Ｕｔ−メチル、アリル、ブテニル、プロパルギ
ルまたはブチニルを表わり、、ここに可能な置換基には
ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、カルボキシル並びｔ
どその各々が炭素原子６個までを有し、且つその各々が
直鎖状または分枝鎖状であるアルコキシ及びアルコキシ
カルボニルがある。Ｒ＋”はＲ１とは独立に好ま１−７
＜はＲ＋ｌｌと同様の基を表わし、そしてまた水素も表
わす。

式（ＩＶ）のアゾメチンはまだ公知のものではない。

このものは式（ｌｌａ） 式中、Ｒ，、Ｒ８、Ｒ４、Ｒ”　、　Ｒ’及びＲ？ハ上
記の意味を有する、 の５−アミノピラゾールを適当ならば希釈剤（例えばメ
タノールまたはエタノール）の存在下、及び適当ならば
触媒（例えば塩酸または硫酸）の存在下にて＋２０乃至
＋１２０℃間の温度で式（ＸＩ）式中、Ｒ１１及びＲ”
は上記の意味を有する、のアルデヒドまたはケトンと反
応させる方法によυ得られる。

５２一 式（Ｘｉ）のアルデヒドまたはケトンは同様に一般に公
知の有機化学の化合物である。

本発明による工程（ａ）を行う際に可能な希釈剤は不活
性有機溶媒である。これらのものには殊に脂肪族または
芳香族、ハロゲン化された炭化水素、例エバベンジン、
ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、石油
エーテル、ヘキサン、シクロヘキサン、塩化メチレン、
クロロホルムマタハ四塩化炭素、エーテル例えばジエチ
ルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランまたはエ
チレングリコールジメチルもしくはジエチルエーテル、
ケトン例えばアセトンまたはブタノン、ニトリル例えば
アセトニトリルまたはプロピオニトリル、アミド例えば
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メ
チルホルムアニリド、Ｎ−メチルピロリドンまたはへキ
サメチルリン酸トリアミド、エステル例えば酢酸エチル
、或いはスルホキシド例えばジメチルスルホキシドが含
まれる。

適当ならば、本発明による工程（ａ）は適当ならば相間
移動触媒の存在下にて二相系、例えば水／トルエンまた
は水／塩化メチレン中で行うこともできる。かかる触媒
の挙げ得る例には次のものがある：ヨウ化テトラブチル
アンモニウム、臭化テトラブチルアンモニウム、臭化ト
リブチル−メチルホスホニウム、塩化トリメチル−ＣＩ
３／ＣＩ！＋−アルキルアンモニウム、メチル硫酸ジベ
ンジルアンモニウム、塩化ジメチル−ＣＩ　２　／　Ｃ
１４−アルキル−ベンジルアンモニウム、水酸化テトラ
ブチルアンモニウム、１５−クラウン−５，１８−クラ
ウン−６、塩化トリエチルベンジルアンモニウム及び塩
化トリメチルベンジルアンモニウム。

製造工程（ａ）を行う際に可能な酸結合剤には通常使用
し得るすべての無機及び有機塩基がある。好適に使用さ
れる塩基にはアルカリ金属水素化物、水酸化物、アミド
、炭酸塩または重炭酸塩例えば水素化ナトリウム、ナト
リウムアミド、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウムもし
７くは重炭酸ナトリウム、或いは第三級アミン例えばト
リエチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジン
、４−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）−ピリジン、ジアザ
ビシクロオクタン（ＤＡＢＣＯ）　、ジアザビシクロノ
ネン（ＤＢＮ）もしくはジアザビシクロウンデセン（Ｄ
ＢＵ”）がある。

製造工程（ａ）を行う際に反応温度は実質的な範囲内で
変えることができる。一般に、反応は−２０乃至＋１５
０℃間、好ましくは０乃至＋１００℃間で行う。

製造工程（ａ）を行う際に、弐■）の５−アミノピラゾ
ール１モル当り一般に１．０〜２０．０モル、好まＬ　
＜　ｌｄ　１．、０〜１５．０モルの式（Ｉ）のアルキ
ル化剤及び適当ならば１．０〜３．０モル、好ましくは
１．０〜２．０モルの酸結合剤、並びに０．０１〜１．
０モルの相間移動触媒を用いる。一般的に普通の方法で
反応を行い、式（Ｔ）の反応生成物を処理し、そして単
離する。

本発明による工程（ｂ）を行う際に可能な希釈剤は同様
に不活性の有機または無機溶媒である。工程（ａ）に示
された有機溶媒を殊に挙げ得る。アルコール例えばメタ
ノールもしくはエタノール、またはその水との混合物が
殊に好ましい。

工程（ｂ）は強酸例えば塩酸、トリフルオロ酢酸もしく
は氷酢酸中の臭化水素酸の存在下か、または塩基の存在
下のいずれかで行う。好適な塩基には水酸化ナトリウム
または水酸化カリウムの水溶液がある。

本発明による工程（Ｉ））を行う際の反応温度は実質的
な範囲内で変えることができる。一般に反応は一２０乃
−至＋１５０℃間の温度、好ましくはＯ乃至＋１２０℃
間の温度で行う。

本発明による工程（ｂ）を行う際に式（Ｉａ）の５−ア
シルアミノピラゾール１モル当）一般に１〜３０モル、
好ましくは１〜１５モルの酸または塩基を用いる。一般
的に普通の方法により反応を行い、式（Ｉ）の反応生成
物を処理し、そして単離する。

本発明による工程（Ｃ）を行う際に可能な希釈剤は同様
に不活性な有機溶媒である。エーテル例えばテトラヒド
ロフランまたはアルコール例えばメタノールもしくはエ
タノールを用いることが好ましい。

本発明による工程（Ｃ）を行う際に可能な還元剤は錯体
水素化物である。水素化ホウ素アルカリ金属例えば水素
化ホウ素リチウム、水素化ホウ素ナトリウムまたは水素
化ホウ素シアノナトリウムを殊に用いる。

本発明による工程（Ｃ）を行う際の反応温度は実質的な
範囲内で変えることができる。一般に反応は−２０乃至
１５０℃間の温度、好ましくは０乃至＋１２０℃間の温
度で行う。

木発明による工程（Ｃ）を行う際ｌこ式（ＩＶ）のアゾ
メチン１モル当り一般的に１〜５モル、好ましくは１〜
２モルの錯体水素化物を用いる。一般的に普通の方法に
より反応を行い、式（Ｔ）の反応生成物を処理し、そし
て単離する。

木発明による活性化合物は、落葉剤、乾燥剤、広葉樹の
破壊剤及び、ことに殺雑草剤として使用することができ
る。雑草とは、最も広い意味において、雑物を望まない
場所に生長するすべての植物を意味する。本発明による
物質は、本質的に使用量に依存して完全除草剤または選
択的除草剤として作用する。

本発明による化合物は、例えば、次の植物に関連して使
用することができる： 次の属の双子葉雑草二カラン属（８ｉｎａｐｉｓ）、マ
メグンパイナズナ属（’ｌ、ｅｉｐｉｄｉｕｍ）、ヤエ
ムグラ属（Ｇａ　１　ｌ　ｕｍ　）、ハコへ属（ｓｔｅ
ｌｌａｒｉａ）、シカギク属（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａ）
、カミツレモドキ属（Ａｎｔｈｅｍｉｓ）、ガリンソガ
属（Ｇａ　１　ｉｎｓｏｇａ　）、アカザ属（Ｃｈｅｎ
ｏｐｏｄ　ｉｕｍ）、イラクサ属（Ｕｒ−ｔｉｃａ）、
キオン属（Ｓｅｎｅｃｉｏ）、ヒエ属（Ａｍａ−ｒａｎ
ｔｈｕｓ）、スベリヒエ属（Ｐｏｒｔｕｌａｃａ）、オ
ナモミ属（Ｘａｎｔｈｉｕｍ）、ヒルガオ属（Ｃｏｎｖ
ｏ−１ｖｕｌｕｓ）、サツマイモ属ＣＩｐｏｍｏｅａ）
、タデ属（ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ）、セスバニア属（８ｅ
ｓｂａｎｉａ）　　、オナモミ属（Ａｍｂｒｏｓｉａ）
、アザミ属（Ｃｉｒｓｉ　−ｕｍ）、ヒレアザミ属Ｃ（
”：ａｒｄｕｕｓ　）、ノゲシ属（”５ｏｎｃｈｕｓ　
）、ナス属（Ｓｏｌａｎｕｍ）、イヌガラシ属（Ｒｏｒ
ｉｐｐａ）、キカシグサ属（Ｒ，ｏｔａｉａ）、アゼナ
属（Ｌｉｎｄｅｒｎ　ｉａ　）、ラミラム属（Ｌａｍｉ
ｕｍ）、クワガタンウ属（Ｖｅｒｏｎｉｃａ）、イチビ
属（ｋｂｕ−ｔｉｌｏｎ）、エメクス属（ＥｍｅＸ）、
チョウセンアサガオ属（Ｄａｔｕｒａ’）、スミレ属（
ＶｉＯｌａ）、ナシマオドリコ属（Ｇａ　１ｅｏｐｓ　
ｉｓ　）、ケシ属（Ｐａｐａｖｅｒ）及びセンタウレア
属（ｃｅｎｔａｕｒｅａ）。

次の属の双子葉栽培植物：ワタ属（Ｇｏｓｓｙｐｉｕｍ
）、ダイズ属（Ｇｌｙｃｉｎｅ）、フグンソウ属（Ｂｅ
　ｔ　ａ　）、ニンジン属（Ｄａｕｃｕｓ）、インゲン
マメ属（Ｐｈａ−ｓｅｏｌｕｓ）、エントウ属（Ｐｉｓ
ｕｍ）、ナス属（Ｓｏｌａｎｕｍ）、アマ属（Ｌｉｎｕ
ｍ）、サツマイモ属（工ｐＯｍＯｅａ）、ソラマメ属（
Ｖｉｃｉａ）、タバコ属ＣＮ１ｃｏｔｉａｎａ）、トマ
トｊｉ（Ｌｙｃｏｐｅｒｓｉｃｏｎ）、ラッカセイ属（
人ｒａｃｈｉｓ）、アブラナ属（Ｂｒａ　−５ｓｉｃａ
）、アキノノゲシ属（ＬａＣ１ｕＣａ）、キュウリ属（
Ｃｕｃｕｍｉｓ）及びウリ属（Ｃｕｃｕｒｂ　ｉ　ｔ　
ａ　）。

エノコログサ属（ｓｅｔａｒｉａ’）、キビ属（ｐａｎ
ｉ−Ｃｕｍ）、メヒシバ属ＣＤ１ｇ１ｔａｒｉａ）、７
ｒ７ガＩＪ　−１−属（Ｐｈｌｅｕｍ）、スズメノカタ
ヒラ属（Ｐｏａ）、ウシノケグサ属ＣＦｅ５ｔｕｃａ）
、オヒシバ属（Ｅｌｅ−ｕｓｉｎｅ）、ブラキアリア属
（Ｂｒａｃｈｉａｒｉａ）、ドグムギ属（Ｌｏｌｉｕｍ
）、スズメノチャヒキ属（Ｂｒｏ−ｍｕｓ）、カラスム
ギ属（Ａｖｅｎａ）、カヤツリグサ属（Ｃｙｐｅｒｕｓ
　）、モロコシ属（Ｓｏｒｇｈｕｍ）、カモジグサ属（
Ａｇｒｏｐｙｒｏｎ）、ジノトン属（Ｃｙｎｏ−ｄｏｎ
）、ミズアオイ属（Ｍｏｎｏｃｈｏｒ　ｉ　ａ　）、テ
ンツキ属（Ｆｉｍｂｒｉｓｔｙｌｉｓ　）、オモダカ属
（Ｓａｇｉｔｔａ−ｒｉａ）、ハリイ属（ＥｌｅＯＣｈ
ａｒｉＳ）、ホタルイ属（Ｓｃｉｒｐｕｓ）、パスパル
ム属（Ｐａｓｐａｌｕｍ）、カモノハシｆ４　（Ｉｓｃ
ｈａｅｍｕｍ）、スフニックレア属（８ｐｈｅｎｏｃｌ
ｅａ）、ダクチロクテニウム属（Ｄａ−ｃｔｙｌｏｃｔ
ｅｎｉｕｍ）、ヌカボ属（Ａｇｒｏｓ　ｔ　ｉ　ｓ　）
、スズメノテツポウ属（Ａｌ　ｏｐｅｃｕｒｕｓ　）及
びアペラ属（Ａｐｅｒａ）。

ウモロコシ属（Ｚｅａ）、コムギ属（’Ｔｒ　ｉ　ｔ　
ｉ　ｃｕｍ）、オオムギ属（Ｈｏｒｄｅｕｍ）、カラス
ムギ属（Ａｖｅｎａ）、ライムギ属（ＳｅＣａｌｅ）、
モロコシ属（Ｓｏｒｇｈｕｍ）、キビ属（ＰａｎｉＣｕ
ｍ）、サトウキビ属（Ｓａｃｃｈａ−ｒｕｍ）、アナナ
ス属（Ａｎａｎａｓ）、クサスギカズラ属（Ａｓｐａｒ
ａｇｕｓ　）およびネギ属（Ａｌｌｉｕｍ）。

しかしながら、本発明による活性化合物の使用はこれら
の属にまったく限定されず、同じ方法で他の植物に及ぶ
。

化合物は、濃度に依存して、例えば工業地域及び鉄道線
路上、樹木が存在するか或いは存在しない道路及び広嚇
−ヒの雑草の完全防除に適する。同等に、化合物は多年
生栽培植物、例えば造林、装飾樹木、果樹園、ブドウ園
、かんきつ類の木立、クルミの果樹園、バナナの植林、
コーヒーの植林、茶の植林、ゴムの木の植林、油ヤシの
植林、カカオの植林、小果樹の植え付は及びホップの栽
培植物の中の雑草の防除に、そして１年中栽培植物中の
雑草の選択的防除に使用することができる。

本発明により使用し得る弐〇）の活性化合物は殊に良好
な一般的除草活性以外にも重要な作物において明らかに
改善された作物植物選択性を示し、そして双子葉作物例
えばワタ植物、及び単子葉作物、殊に穀物例えばコムギ
またはカラスムギの両方における雑草に対する選択的防
除剤として使用することができる。また中間体として用
いる式（ＩＶ）のアゾメチンは除草活性、及び殊にまた
選択的除草活性を示す。

本活性化合物は普通の組成物例えば、溶液、乳液、水和
剤、懸濁剤、粉末、粉剤、塗布剤、可溶性粉剤、顆粒、
懸濁−乳液濃厚剤、活性化合物を含浸させた天然及び合
成物質、並びに重合物質中の極く細かいカプセルに変え
ることができる。

これらの組成物は公知の方法において、例えば活性化合
物を伸展剤、即ち液体溶媒及び／または固体の担体と随
時表面活性剤、即ち乳化剤及び／または分散剤及び／ま
たは発泡剤と混合して製造される。

また伸展剤として水を甲いる場合、例えば補助溶媒とし
て有機溶媒を用いることもできる。液体溶媒として、主
に、芳香族炭化水素例えばキシレン、トルエンもしくは
アルキルナフタレン、塩素化された芳香族もしくは塩素
化された脂肪族炭化水素例工ば〃ロロベンゼン、クロロ
エチレンモジくは塩化メチレン、脂肪族炭化水素例えば
シクロヘキサン、またはパラフィン例えば鉱油留分、鉱
油及び植物油、アルコール例えばブタノールもしくはグ
リコール並びにそのエーテル及びエステノペケトン例え
ばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トンもしくはシクロヘキサノン、強い有極性溶媒例えば
ジメチルホルムアミド及びジメチルスルホキシド並びに
水が適している。

固体の担体として例えばアンモニウム塩及び粉砕した天
然鉱物、例えばカオリン、クレイ、タルク、チョーク、
石英、アタパルジャイト、モントモリロナイト、または
ケイソウ士並びに粉砕した合成鉱物例えば高度に分散性
ケイ酸、アルミナ及びシリケートが適している；粒剤に
対する固体の担体として、粉砕し且つ分別した天然岩、
例えば方解石、大理石、軽石、海泡石及び白雲石並びに
無機及び有機のひきわシ合成顆粒及び有機物質の顆粒例
えばおがくず、やしから、トウモロ−コシ穂軸及びタバ
コ茎が適している；乳化剤及び／または発泡剤として非
イオン性及び陰イオン性乳化剤例えばポリオキシエチレ
ン−脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンｈｂ防族アル
コールエーテル例工ばアルキルアリールポリグリコール
エーテル、アルキルスルホネート、アルキルスルフェー
ト、アリースルルホネート並びにアルブミン加水分解生
成物が適している；分散剤として、例えばリグニンスル
ファイト廃液及びメチルセルロースが適している。

接着剤例えばカルボキシメチルセルロース並ヒに粉状、
粒状またはラテックス状の天然及び合成重合体例えばア
ラビアゴム、ポリビニルアルコール及びポリビニルアセ
テート並びに天然リン脂質例えばセファリン及びレシチ
ン、及び合成リン脂質を組成物に用いることができる。

更に添加物は鉱油及び植物油であることができる。

着色剤例えば無機顔料、例えば酸化鉄、酸化チタン及び
プルシアンブルー並びに有機染料例えばアリザリン染料
及び金属フタロシアニン染料、及び微量の栄養剤例えば
鉄、マンガン、ホウ素、銅、コバルト、モリブテン及び
亜鉛の塩を用いることができる。

調製物は一般に活性化合物０．１乃至９５重量％間、好
ましくは０．５乃至９０重量％間を含有する。

また本発明による活性化合物は、そのまま或いはその調
製物の形態において、公知の除草剤との混合物として雑
草を防除するために用いることもでき、仕上げた配合物
または種混合が可能である。

公知の除草剤、例えば穀物中の雑草を防除するための１
−アミノ−６−ニチルテオー３−（２゜２−ジメチルプ
ロピル）−１，３，５−）リアジン−２，４−（ＩＨ，
３Ｈ）−ジオンまたはＮ−（２−ベンゾチアゾリル）−
Ｎ、Ｎ／−ジメチルウレア；テンサイ中の雑草を防除す
るための４＝アミノ−３−メチル−６−フェニル−１，
２，４−トリアジン−５（４Ｈ）−オン及び大豆中の雑
草を防除するための４−アミノ−６−（’１．１−ジメ
チルエチル）−３−メチルチオ−１，２，４−トリアジ
ン−５（４Ｈ）−オンを混合物として用いることができ
る。またＮ、Ｎ−ジメチル−Ｎ′”−（３−）リフルオ
ロメチルフェニル）−ウレア、Ｎ、Ｎ−ジメチル−Ｎ’
　−（３−クロロ−４−メチルフェニル）−ウレア、Ｎ
、Ｎ−ジメチル−Ｎ／−（４−イ”／’ｊ”ロピルフェ
ニル）−ウレア、４−アミノ−６−ｔ−ブチル−３−エ
チルチオ−１゜２．４−トリアジン−５（４Ｈ）−オン
、２，４−ジクロロフェノキシ酢酸、２，４−ジクロロ
フェノキシプロピオン酸、（２−メチル−４−クロロフ
ェノキシ）−酢酸、（４−クロロ−２−メチル−フェノ
キシ）−プロピオン酸、クロロ酢ｅＮ−（メトキシメチ
ル）−２，６−ジニチルアニリド、２−エチル−６−メ
チル−Ｎ−（Ｉ−メチル−２−メトキシエチル）−クロ
ロアセトアニリド、２．６−シニトロー４−トリフルオ
ロメチル−Ｎ。

Ｎ−ジプロピルアニリン及び５−（２，４−ジクロロフ
ェノキシ）−２−ニトロ安息香酸メチル；３．５−ショ
ート−４−ヒドロキシ−ベンゾニトリル；３−イソプロ
ピル−２，１，３−ベンゾチアジアジン−４−オン２，
２−ジオキシド；２−クロローＮ−（〔（４−メトキシ
−６−メチル−１，３，５−）リアジン−２−イル）−
アミノコ−カルボニル）−ベンゼンスルホンアミ）’；
４−エチルアミノー２−ｔ−ブチルアミノ−６−メテル
テオーｇ−１リアジンまたはＮ−（Ｉ−エチルプロピル
）−３，４−ジメチル−２，６−シニトロアニリンとの
混合物も可能である。驚くべきことに、またある化合物
は相乗作用を示す。

また他の公知の活性化合物、例えば殺菌・殺カビ剤（ｆ
ｕｎｇｉｃｉｄｅｓ）、殺虫剤（Ｉｎｓｅｃｔ　ｉｃ　
１ｄｅｓ　）、殺ダニ剤（ａｃａｒｉｃｉｄｅｓ）、殺
線虫剤（ｎｅｍａｔｉ−ｃｉｄｅｓ）、小鳥忌避剤、植
物栄養剤及び土壌改良剤との混合物が可能である。

除草剤として使用する場合、本活性化合物はそのままで
、或いはその配合物の形能またはその配合物から更に希
釈して調製した使用形態、例えば調製済（ｒｅａｄｙ−
ｔｏ−ｕｓｅ　）液剤、懸濁剤、乳剤、粉剤、塗布剤及
び粒剤の形態で使用することができる。これらのものは
普通の方法で、例えば液剤散布（ｗａｔｅｒｉｎｇ）、
スプレー、アトマイジング（ａｔｏｍｉｓｉｎｇ）　　
または粒剤散布（ｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ）によって施用
される。

本発明による活性化合物は植物の発芽の前または後に施
用することができる。また本化合物は種子をまく前に土
壌中に混入することができる。

本活性化合物の使用量は実質的な範囲内で変えることが
できる。この量は本質的に所望の効果の特質に依存する
。一般に、施用量は土壌表面１ヘクタール当り活性化合
物０．０１乃至１０−間、好ましくは０．０５乃至５ｋ
ｇ／ｈａ間である。

本発明による活性化合物の製造及び使用は次の実施例か
ら知ることができる。

製造実施例 実施例１ （工程ａ） 水素化ナトリウム０．８４１ｉ！（０，０３３モル）を
テトラヒドロフラン１０ｏＩＩｊ中の４−シアノ−５−
プロピオニルアミノ−１−（２−クロロ−４−トリフル
オロメトキシフェニル）−ピラゾール１０．８ｇ（０，
０３モル）に加え、そしてガスの発生が終了した際にヨ
ウ化ｎ−プロピル１０．２ｇ（０，０６モル）を加え、
そしてこの混合物を還流温度で４８時間攪拌した。処理
するために、この混合物を真空中で濃縮し、残渣を塩化
メチレン２００ｄ中に取り出し、この混合物を各々１０
０　ｍｌの水で２回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し
、そして真空中で濃縮した。残留した油をカラムクロマ
トグラフィー（溶離液：クロロホルム／アセトン９：１
）で精製し、そして石油エーテルから結晶化させた。融
点８３℃の４−シアノ−１−（２−クロ０−４−）！Ｊ
フルオロメトキシフェニル）−５−（Ｎ−ｎ−プロピル
−Ｎ−プロピオニルアミノ）−ピラゾール８．０ｆｊ（
理論値の６６．６係）が得られた。

エトキシメチレンマロン酸ジニトリル３．０ＦＬ；’（
０，２５モル）及びエチレングリコールモノエチルエー
テル５Ｑｍ／中の２−クロロ−４−トＩＪフルオロメト
キシ−フェニルヒドラジン５．７ｇ（０，Ｑ　２５モル
）を還流下で３時間加熱した。冷却後、反応混合物を水
上に注ぎ、次に結晶性沈殿を吸引でろ別し、石油エーテ
ルと共に攪拌し、冷却し、そして吸引で再びろ別した。

融点１１５℃の５−アミノ−４−シアノ−１−（２−ク
ロロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）−ピラゾー
ル５゜３ＥＣ理論値の７３，６係）が得られた。

水素化ナトリウム１．４ｇ（０，０６２モル）をテトラ
ヒドロフラン１５０ｄ中の４−シアノ−５−アミノ−１
−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルチオフ
ェニル）−ピラゾール７．０ｇ（０，０２モル）に加え
、そしてガスの発生が終了した際にヨウ化量−プロピル
１７ｇ（０，１モル）を加え、そしてこの混合物を室温
で攪拌した。処理するために、この混合物を真空中で濃
縮し、残渣を塩化メチレン２００ｄ中に取シ出し、混合
物を各々１００ｄの水で２回洗浄し、硫酸ナトリウウ上
で乾燥１，７、そして真空中で濃縮した。残留した残渣
をカラムクロマトグラフィー（溶離液：クロロホルム／
アセトン＝９　：　１　）で精製シタ。

融点１３０℃の４−シアノ−１−（２，６−ジクロロ−
４−トリフルオロメチルチオ−フェニル）−５−イソプ
ロピルアミノ−ピラゾール５．２ｇ（理論値の６６係）
が得られた。

ＣＦ３ （工程ｂ） メタノール２００ａｊ中の１−（２−クロロ−４−トリ
フルオロメトキシフェニル）−４−シアノ−５−（Ｎ−
プロピオニル−Ｎ　−ｎ−プロピルアミノ）−ピラゾー
ル５．０　ｇ（０，０１２モル）を１規定水酸化ナトリ
ウム溶液１１．６Ｍ（０，０１２モル）と共に室温で４
８時間攪拌した。処理するために、この混合物を真空中
で濃縮し、残渣を塩化メチレン中に取シ出し、この混合
物を各々１．００１の水で２回洗浄し、硫酸ナトリウム
上で乾燥し、濃縮し、そして残渣を石油エーテルから結
晶化させた。融点６３℃の１−（２−クロロ−４−トリ
フルオロメトキシフェニル’）−４−シアノ−５−ｎ−
プロピルアミノ−ピラゾール３．８ｇ（理論値の９２９
ｇ）が得られた。

対応する方法及び一般的な製造実施例に従って次の一般
式（Ｉ）の化合物を得たニ ア２− 特開昭Ｇ１−３Ｇ：’６７（２３） Ｏコ Ｕ〕 工　国　工　１）工　工　工　工　丑　１）国　工　国
国　工　国　工　エ　国　１）工　丑　１）国　〒　国
−−Ｈｖｓ　　　＋＋Ｒｐｍ　　　＋＋　　　−−Ｃ’
３　　　ＣＱ　　　公使用実施例 下記の化合物を次の使用実施例における比較物質として
用いた： Ｉ ４−シアノ−５−プロピオニルアミノ−１−（２，４，
６−）リクロロフェニル）−ピラゾール（ドイツ国特許
出願公開第３．２２６．５１３号かしＩ ４−シアノ−５−プロピオニルアミノ−１＝（２，３，
４−）リクロロフェニル）−ピラシール（ドイツ国特許
出願公開第３．２２６．５１３号から公知）。

実施例 発芽前試験 溶　媒：アセトン５重量部 乳化剤：アルキルアリールポリグリコールエーテル１重
量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物１重量部を上記量の溶媒と混合し、上記量の乳化剤を
加え、この濃厚物を水で希釈して所望の濃度にした。

試験植物の種子を通常の土壌中にまき、２４時間後、活
性化合物の調製物を液剤散布した。単位面積当シの水の
量を一定に保持することが適当である。調製物中の活性
化合物の濃度は重要ではなく、単位面積当シ施用した活
性化合物の量のみが決めてきなる。３週間後、植物に対
する損傷の程度を、未処理対照植物の発育と比較して、
チ損傷として評価した。数字は次を意味する：０係＝作
用なしく未処理対照と同様） １００係＝全破壊 この実施例において、当該分野において公知の化合物と
比較して、例えば製造実施例３による化合物は明らかに
優れた除草作用、並びに有用な植物に対する選択性を示
した。このものは殊にカラスムギに施用された。その結
果を第Ａ表に示す。

実施例 発芽後試験 溶　媒：アセトン５重量部 乳化剤：アルキルアリールポリグリコールエーテル１重
量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物１重帯部を上記量の溶媒と混合し、上記量の乳化剤を
加え、この濃厚物を水で希釈して所望の濃度にした。

高さ５〜１５αの試験植物に、単位面積当如所望の活性
化合物の特定の量が施用されるように、活性化合物の調
製物を噴霧した。噴霧液の濃度を所望の活性化合物の特
定の量が１ヘクタール当シ水２０００ｔとして施用され
るように選定した。

３週間後、植物に対する損傷の程度を未処理対照の発育
と比較してチ損傷として評価した。数字は次の意味を表
わす： ０チ＝作用なしく未処理対照と同様） １００チ＝全て撲滅 この実施例において、当該分野において公知の化合物と
比較して、例えば製造実施例５による化合物は殊にコム
ギ及びワタに施用した際に有用な植物に関して明らかに
すぐれた選択性を示した。

その結果を第８表に示す。

特開０ｆｆａＲ３６２６７（２６）■ ギ ′Ｒ叱 λ も　　櫨 外 ト　　　田 ・　　る ０； −く く く　　く 置 ヨ削 嵩 拌Ｖ ご 」

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 式中、Ｒはシアノ、アルコキシカルボニル、アルケニル
   オキシカルボニル、アルキニル オキシカルボニル、アミノカルボニル、ア ルキルアミノカルボニル、アルケニルアミ ノカルボニル、アルキニルアミノカルボニ ル、ジアルキルアミノカルボニル、ジアル ケニルアミノカルボニルまたはジアルキニ ルアミノカルボニルを表わし、 Ｒ＾１はアルキル、アルケニル、アルキニルまたはシク
   ロアルキルを表わし、但しその 各々は随時置換されていてもよく、 Ｒ＾２はＲ＾１とは独立にＲ＾１と同様の基を表わし、
   そして加えて水素または基▲数式、化学式、表等があり
   ます▼を 表わし、ここに Ｘは酸素または硫黄を表わし、且つ Ｒ＾３は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハ
   ロゲノアルキル、アルコキシア ルキル、アルキルチオアルキル、随時置換 されていてもよいシクロアルキルもしくは 随時置換されていてもよいアリールを表わ すか、アルコキシ、アルキルチオ、随時置 換されていてもよいアリールオキシもしく は随時置換されていてもよいアリールチオ を表わすか、またはアルキルアミノ、ジア ルキルアミノもしくは随時置換されていて もよいアリールアミノを表わし、そして同 一もしくは相異なるものであるＲ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５
   、Ｒ＾６及びＲ＾７は水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ
   、アルキル、アルコキシ、ア ルキルスルホニル、アルコキシカルボニル または基−（Ｘ′）＿ｎ−Ｒ＾９を表わし、ここにＸ′
   は酸素、硫黄、スルフィニルまたはス ルホニルを表わし、 ｎは０または１を表わし、そして Ｒ＾９はハロゲノアルキルを表わし、但しＲ＾３、Ｒ＾
   ４、Ｒ＾５、Ｒ＾６及びＲ＾７の少くとも１つは基−（
   Ｘ′）＿ｎ−Ｒ＾９を表わすが、Ｒ＾５がトリフルオロ
   メチルを表わすと同時にＲはシアノ を表わさない、 の置換された５−アミノ−１−フェニルピラゾール。 ２、Ｒがシアノもしくはアミノカルボニルを表わすか、
   またはアルコキシカルボニル、アルケニルオキシカルボ
   ニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルアミノカ
   ルボニル、アルケニルアミノカルボニル、アルキニルア
   ミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、ジアル
   ケニルアミノカルボニルもしくはジアルキニルアミノカ
   ルボニルを表わし、その各々が個々の脂肪族基中に炭素
   原子５個までを有し、且つその各々が直鎖状もしくは分
   枝鎖状であり、Ｒ＾１がアルキル、アルケニルまたはア
   ルキニルを表わし、その各々が炭素原子８個までを有し
   、且つその各々が随時同一もしくは相異なる置換基によ
   り一置換または多置換されていてもよく、その際に可能
   な置換基にはハロゲン、シアノ、ニトロ、ヒドロキシル
   及びカルボキシル、アルコキシ並びにアルコキシカルボ
   ニルがあり、その各々は炭素原子６個までを有し、その
   各々は直鎖状または分枝鎖状であり、並びに随時アルキ
   ル、アルケニル、アルキニル、アルコキシもしくはアル
   キルスルホニルで置換されていてもよいアミノカルボニ
   ルを表わし、その際にアミノカルボニル基の窒素原子は
   更にヘテロ原子、殊に窒素、酸素もしくは硫黄２個まで
   を有する飽和の３員〜７員の複素環式基の一部であるこ
   ともできるか；或いは炭素原子３〜７個を有し、且つ随
   時ハロゲン及び炭素原子１〜４個を有する直鎖状または
   分枝鎖状アルキルよりなる群からの同一もしくは相異な
   る基で一置換または多置換されていてもよいシクロアル
   キルを表わし、Ｒ＾２がＲ＾１とは独立にＲ＾１と同様
   の基を表わし、そしてまた水素または基▲数式、化学式
   、表等があります▼を表わし、ここにＸが酸素または硫
   黄を表わし、Ｒ＾８が水素を表わすか、その各々が個々
   のアルキル部分に炭素原子４個までを有し、且つその各
   々が直鎖状もしくは分枝鎖状であるアルキル、アルケニ
   ル、アルキニル、アルコキシアルキル、アルキルチオア
   ルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルアミノ、
   ジアルキルアミノまたは同一もしくは相異なるハロゲン
   原子９個までも有するハロゲノアルキルを表わすか、炭
   素原子３〜７個を有し、且つ随時ハロゲン、低級アルキ
   ル及び低級ハロゲノアルキルよりなる群からの同一もし
   くは相異なる置換基で一置換または多置換されていても
   よいシクロアルキルを表わすか、或いはその各々が随時
   同一もしくは相異なる置換基で一置換または多置換され
   ていてもよいフェニル、フェノキシ、フェニルチオまた
   はフェニルアミノを表わし、ここにフェニルの可能な置
   換基にはハロゲン並びにその各々が炭素原子４個までを
   有し、且つその各々が直鎖状もしくは分枝鎖状であるア
   ルキル、アルコキシ及び同一もしくは相異なるハロゲン
   原子９個までも有するハロゲノアルキルがあり、そして
   Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５、Ｒ＾６及びＲ＾７が相互に独
   立して水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素またはニトロ
   、或いはその各々が特定のアルキル部分に炭素原子４個
   までを有し、且つ直鎖状もしくは分枝鎖状であるアルキ
   ル、アルコキシ、アルキルスルホニルまたはアルコキシ
   カルボニルを表わすか、或いは基−（Ｘ′）＿ｎ−Ｒ＾
   ９を表わし、ここにＸ′は酸素、硫黄、スルフィニルま
   たはスルホニルを表わし、ｎは０または１を表わし、そ
   してＲ＾９は炭素原子４個まで及び同一もしくは相異な
   るハロゲン原子９個までを有する直鎖状もしくは分枝鎖
   状のハロゲノアルキルを表わし、但し基Ｒ＾３、Ｒ＾４
   、Ｒ＾５、Ｒ＾６またはＲ＾７の少なくとも１つが基−
   （Ｘ′）＿ｎ−Ｒ＾９を表わすが、Ｒ＾５がトリフルオ
   ロメチルを表わすと同時にＲはシアノを表わさないこと
   を特徴とする、特許請求の範囲第１項記載の一般式（
   I ）の置換された５−アミノ−１−フェニルピラゾール
   。 ３、Ｒがシアノ、メトキシカルボニル、エトキシカルボ
   ニル、アリルオキシカルボニル、プロパルギルオキシカ
   ルボニル、アミノカルボニル、メチルアミノカルボニル
   、ジメチルアミノカルボニル、エチルアミノカルボニル
   、ジエチルアミノカルボニル、ジアリルアミノカルボニ
   ルまたはジプロパルギルアミノカルボニルを表わし、Ｒ
   ＾１がメチル、エチル、ｎ−もしくはｔ−プロピル、ｎ
   −、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブチル、アリル、ブテニル
   、プロパルギルまたはブチニルを表わし、ここにその各
   々は随時同一もしくは相異なる置換基で一、二または三
   置換されていてもよく、可能な置換基にはフッ素、塩素
   、臭素、ヨウ素、シアノ、ニトロ、ヒドロキシル、カル
   ボキシル、メトキシ、エトキシ、ｎ−もしくはｉ−プロ
   ポキシ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ
   −もしくはｉ−プロポキシカルボニル、ｎ−、ｉ−、ｓ
   −もしくはｔ−ブトキシカルボニル、アミノカルボニル
   、Ｎ−メチルアミノカルボニル、Ｎ−エチルアミノカル
   ボニル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−
   ジエチルアミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジアリルアミノカ
   ルボニル、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノカルボニル、
   Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノカルボニル、Ｎ−メチ
   ル−Ｎ−アリルアミノカルボニル、Ｎ−メチル−Ｎ−プ
   ロパルギルアミノカルボニル、Ｎ−メチル−Ｎ−メトキ
   シアミノカルボニル、Ｎ−メチルスルホニルアミノカル
   ボニル、Ｎ−エチルスルホニルアミノカルボニル、ピロ
   リジン−１−イルカルボニル、ピペリジン−１−イルカ
   ルボニル、モルホリン−４−イルカルボニル及びパーヒ
   ドロアゼピン−１−イルカルボニルであるか；或いはシ
   クロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルまたは
   シクロヘプチルを表わし、ここにその各々は随時塩素、
   メチル及びエチルよりなる群からの同一もしくは相異な
   る置換基で一、二、三、四または五置換されていてもよ
   く、Ｒ＾２はＲ＾１とは独立にＲ＾１と同様の基を表わ
   し、追加として水素または基▲数式、化学式、表等があ
   ります▼を表わし、ここにＸは酸素または硫黄を表わし
   、そしてＲ＾３は水素、メチル、エチル、ｎ−もしくは
   ｉ−プロピル、アリル、プロパルギル、ブテニル、メト
   キシメチル、エトキシメチル、メトキシエチル、エトキ
   シエチル、メチルチオメチル、メトキシ、エトキシ、メ
   チルチオ、エチルチオ、メチルアミノ、エチルアミノ、
   ジメチルアミノ、トリフルオロメチル、トリクロロエチ
   ル、ジクロロフルオロエチル、ジフルオロクロロエチル
   、クロロメチル、ヨードメチル、ブロモメチル、ジクロ
   ロメチル、１−クロロエチル、２−クロロエチル、２−
   ブロモエチルまたはヘプタフルオロ−ｎ−プロピルを表
   わすか、その各々が随時フッ素、塩素、臭素、メチル及
   びトリフルオロメチルよりなる群からの同一もしくは相
   異なる置換基で一、二、三または四置換されていてもよ
   いシクロプロピル、シクロペンチルまたはシクロヘキシ
   ルを表わすか、或いはその各々が随時メチル、メトキシ
   、塩素及びトリフルオロメチルからなる群に対する同一
   もしくは相異なる置換基で一、二または三置換されてい
   てもよいフェニル、フェノキシ、フェニルチオまたはフ
   ェニルアミノを表わし、そしてＲ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５
   、Ｒ＾６及びＲ＾７が相互に独立して水素、フッ素、塩
   素、臭素、シアノ、ニトロ、メチル、エチル、ｎ−もし
   くはｉ−プロピル、メトキシ、エトキシ、メチルスルホ
   ニル、メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニルを
   表わすか、或いは基−（Ｘ′）＿ｎ−Ｒ＾９を表わし、
   ここにＸ′は酸素、硫黄、スルフィニルまたはスルホニ
   ルを表わし、ｎは０または１を表わし、そしてＲ＾９は
   トリフルオロメチル、トリクロロメチル、ジクロロフル
   オロメチル、ジフルオロクロロメチル、ジクロロメチル
   、クロロメチル、ジフルオロメチル、ペンタフルオロエ
   チル、テトラフルオロエチル、トリフルオロクロロエチ
   ル、トリフルオロエチル、ジフルオロジクロロエチル、
   トリフルオロジクロロエチルまたはペンタクロロエチル
   を表わし、但しＲ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５、Ｒ＾６または
   Ｒ＾７の少なくとも１つが基−（Ｘ′）＿ｎ−Ｒ＾９を
   表わすが、Ｒ＾５がトリフルオロメチルを表わすと同時
   にＲはシアノを表わさないことを特徴とする、特許請求
   の範囲第１項記載の一般式（ I ）の置換された５−ア
   ミノ−１−フェニルピラゾール。 ４、（ａ）式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 式中、Ｒ、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５、Ｒ＾６及びＲ＾７
   は上記の意味を有し、そして Ｒ＾１＾０は水素または基−Ｃ−Ｒ＾８を表わし、ここ
   にＸ及びＲ＾８は上記の意味を有する、の５−アミノ−
   ピラゾールを適当ならば希釈剤の存在下、及び適当なら
   ば酸結合剤の存在下、並びに適当ならば触媒の存在下で
   式（III） Ｒ＾１−Ａ　（III） 式中、Ｒ＾１は上記の意味を有し、そして Ａは電子吸引性脱離基を表わす、 のアルキル化剤と反応させるか、 （ｂ）式（ I ａ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ａ） 式中、Ｒ、Ｒ＾１、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５、Ｒ＾６、
   Ｒ＾７及びＲ＾８は上記の意味を有する、 の５−アシルアミノピラゾールを適当ならば希釈剤の存
   在下で常法により酸及び塩基で脱アシル化するか、また
   は （ｃ）式（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） 式中、Ｒ、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５、Ｒ＾６及びＲ＾７
   は上記の意味を有し、 Ｒ＾１＾１はアルキル、アルケニルまたはアルキニルを
   表わし、その各々は随時置換されて いてもよく、そして Ｒ＾１＾２はＲ＾１＾１とは独立にＲ＾１＾１と同様の
   基を表わし、且つまた水素も表わす、 のアゾメチンを適当ならば希釈剤の存在下で錯体水素化
   物で還元することを特徴とする、特許請求の範囲第１項
   記載の一般式（ I ）の置換された５−アミノ−１−フ
   ェニルピラゾールの製造方法。 ５、少なくとも１つの特許請求の範囲第１項記載の式（
   I ）の置換された５−アミノ−１−フェニルピラゾー
   ルを含有することを特徴とする除草剤。 ６、特許請求の範囲第１項記載の一般式（ I ）の置換
   された５−アミノ−１−フェニルピラゾールを雑草また
   はその環境に作用させることを特徴とする雑草の防除方
   法。 ７、望ましくない植物生長を防除する際の特許請求の範
   囲第１項記載の一般式（ I ）の置換された５−アミノ
   −１−フェニルピラゾールの使用。 ８、特許請求の範囲第１項記載の一般式（ I ）の置換
   された５−アミノ−１−フェニルピラゾールを伸展剤及
   び／または表面活性剤と混合することを特徴とする除草
   剤の製造方法。 ９、式（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） 式中、Ｒ、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５、Ｒ＾６及びＲ＾７
   は特許請求の範囲第１項記載の意味を有し、 Ｒ＾１＾１は各々の場合に随時置換されていてもよいア
   ルキル、アルケニルまたはアルキニ ルを表わし、そして Ｒ＾１＾２はＲ＾１＾１とは独立にＲ＾１＾１と同様の
   基を表わし、且つまた水素も表わす、 のアゾメチン。 １０、式（IIａ） ▲数式、化学式、表等があります▼（IIａ） 式中、Ｒ、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５、Ｒ＾６及びＲ＾７
   は特許請求の範囲第１項記載の意味を有する、の５−ア
   ミノピラゾールを適当ならば希釈剤の存在下、及び適当
   ならば触媒の存在下にて＋２０乃至＋１２０℃間の温度
   で式（Ｘ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ I ） 式中、Ｒ＾１＾１及びＲ＾１＾２は特許請求の範囲第９
   項記載の意味を有する、 のアルデヒドまたはケトンと反応させることを特徴とす
   る特許請求の範囲第９項記載の式（IV）のアゾメチルの
   製造方法。