JPS6135846A - エーロゾル流の製法 - Google Patents

エーロゾル流の製法

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JPS6135846A
JPS6135846A JP16134485A JP16134485A JPS6135846A JP S6135846 A JPS6135846 A JP S6135846A JP 16134485 A JP16134485 A JP 16134485A JP 16134485 A JP16134485 A JP 16134485A JP S6135846 A JPS6135846 A JP S6135846A
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vapor
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マツクス・クイスル
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、ガス−および／または蒸気混合物から無炎化
学反応によりエーロゾルを形成し、カッエーロゾル流を
大体においてエーロゾル不含のガス流およ１び／または
蒸気流により導く、従来の技術 このような方法は、特願昭５９−１４８７３２号明細書
（西ドイツ国特許出願Ｐ３３２６０４３　、５号明細書
）から公知でありかつ図面につき詳説されている。大体
において同心に配置され、断面が形成すべきエーロゾル
流の用途に適合された管２１，３１．４１を経て、層流
で流動するガス−および／または蒸気状の成分２．３並
びにエーロゾル不含の蒸気−および／またはガス流２０
が導かれる。この場合、炉６０により加熱された反応室
１中にエーロゾル流１ｏが生じ、これが蒸気−および／
またはガス流２０により、コーチ、ングすべき物体４ｏ
に導かれる。物体４０に、エーロゾル流１０中に含有さ
れた粒子が沈殿せしめられる。このことが、空気力学的
に形成された案内部材５０により支援される。とくに、
石英ガラスより成る光波導体の予備成形体を製造するた
め有利なのは、物体４０および案内部材５０間に不均等
な電場を形成し、この電場により、ドーピングされたお
よび／またはドーピングされざる石英ガラス粒子の析出
が付加的に支援されることである。
本発明の根底をなす課題は、前記せる種類の方法を有利
に発展させることである。
本発明によれば、この課題は、ガス−および／または蒸
気混合物の少なくとも１成分が、それが反応室中へ導入
される前に、大体においてエーロゾルをつくる反応温度
に相応する温度に加熱され、かつ大体においてエーロゾ
ル不含のガス−および／または蒸気流が反応温度と比べ
高い温度に加熱されることにより解決される。
他の有利な実施例が従属請求項から明白である。
本発明は、小さい粒子（パーチクル）が温度勾配を使用
し移動されることができるという知見に基づく。このよ
うな過程は、熱泳動（Ｔｈ−ｅｒｍｏｐｈｏｒｅｓｅ　
）なる呼称下に公知である。この熱泳動なる呼称は、例
えば熱拡散゛並びに熱浸透のような温度依存性運動の総
称である。
特願昭５９−１４８７３２号の特許請求の範囲第１項か
らは、エーロゾル流１００粒子の不利な析出が、このエ
ーロゾル流１０を包囲しかつこれを導く、大体において
エーロゾル不含の蒸気−および／またはガス流２０によ
り回避されることが明白である。この効果が、熱泳動に
より支援可能である。例えばエーロゾル不含の蒸気−お
よび／またはガス流２０および／またはこれを包囲する
管４１の壁がエーロゾル１０よりも高い温度に加熱され
た場合、半径方向の力が生じ、この力がエーロゾル流中
に含有された粒子をエーロゾル流１０の長手軸へ向は運
動させる。とくに反応室１の壁、場合によりノズル並び
に案内部材５０の有害な被覆が回避される。
特願昭５９−１４８７３２号に記載された、ガス状の５
ｉＣｚ４およびガス状のＨ２Ｏから５１０２粒子を形成
する実施例において、例えば、これら成分５ｉＣｔ４お
よびＨ２Ｏをそれぞれ所要の反応温度約８００〜１００
０℃に加熱し、かつ加熱されたこれら成分をその後に反
応室ｌ中で混合し、こうしてエーロゾル流１０を生じさ
せることが可能である。この場合、このような炉６０は
、管２１．３１．４１の壁および／または蒸気−および
／またはガス流２０を、反応温度と比べ高い温度、例え
ば１２００℃に加熱するためにだけ使用される。
とくに、偏光性を維持する光学特性を有する光波導体で
は、棒状体４０、例えばすでに存在する、長さ約１ｍお
よび径５ｃｒｎの予備成形体に、光学的に非回転対称形
の５ｉ０２析出を実施する必要がある。このため、析出
を、物体４０の回転角との関連において制御および／ま
たは調節する必要かあ−る。このことは、多種多様な方
法で、例えば物体４０の不均等回転および／または５ｉ
Ｃｚ４への不均等なドープ剤添加および／または前記電
場の変更により可能である。例えば、この方法で、光学
的に活性な楕円形断面を有する弐波導体が製造されるこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明による方法を実施する装置の１実施例を
略示する縦断面図である。 １・・・反応室、２，３・・・ガス−および／または蒸
気混合物、１０・・・エーロゾル流、２０・・・エーロ
ゾル不含のガス−および／または蒸気流、２１．３１．
４１・・・同心に配置された管、４０・・・コーチング
すべき物体、５０・・・案内部材、６０・・・炉

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、エーロゾル流（１０）をつくるため、ガス−および
    ／または蒸気混合物（２、３）から無炎化学反応により
    エーロゾルを形成し、かつエーロゾル流（１０）を大体
    においてエーロゾル不含のガス−および／または蒸気流
    （２０）により導く方法において、ガス−および／また
    は蒸気混合物（２、３）の少くとも１成分が、それが反
    応室（１）中へ導入される前に、大体においてエーロゾ
    ルをつくる反応温度に相応する温度に加熱され、かつ大
    体においてエーロゾル不含のガス−および／または蒸気
    流（２０）が反応温度と比べ高い温度に加熱されること
    を特徴とするエーロゾル流の製法。 ２、エーロゾル不含のガス−および／または蒸気流（２
    ０）の高い温度が、エーロゾルの粒子が熱泳動によりエ
    ーロゾル流（１０）内部に維持され、従って不利な位置
    における粒子析出が回避される価に調節されることを特
    徴とする、特許請求の範囲第１項記載のエーロゾル流の
    製法。 ３、エーロゾル流（１０）および／またはエーロゾル不
    含のガス−および／または蒸気流（２０）を包囲する壁
    が、エーロゾルの粒子が熱泳動によりエーロゾル流（１
    ０）内部に維持され、従って不利な位置における粒子析
    出が回避されるような高い温度に加熱されることを特徴
    とする、特許請求の範囲第１項または第２項のいずれか
    に記載のエーロゾル流の製法。 ４、コーチングすべき物体（４０）がコーチング中に回
    転され、かつコーチングが、回転角との関連において、
    回転速度および／またはエーロゾルのドープ率および／
    または、析出を支援する電場の電界強度を変更すること
    により制御および／または調節されることを特徴とする
    、特許請求の範囲第１項から第３項までのいずれか１項
    に記載のエーロゾル流の製法。 ５、光波導体の予備成形体を製造するため、物体（４０
    ）にガラス状および／またはガラス形成性の層が析出さ
    れることを特徴とする、特許請求の範囲第１項から第４
    項までのいずれか１項に記載のエーロゾル流の製法。 ６、光学的に非回転対称形の断面を有する光波導体の予
    備成形体を製造するため、物体（４０）に回転角と関連
    する層が析出されることを特徴とする、特許請求の範囲
    第１項から第５項までのいずれか１項に記載のエーロゾ
    ル流の製法。
JP16134485A 1984-07-25 1985-07-23 エーロゾル流の製法 Pending JPS6135846A (ja)

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DE3427323.9 1984-07-25
DE19843427323 DE3427323A1 (de) 1984-07-25 1984-07-25 Verfahren zur herstellung eines aerosolstromes

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FI78283B (fi) 1989-03-31
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