JPS6135846A - エーロゾル流の製法 - Google Patents
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
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- C03B2207/00—Glass deposition burners
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、ガス−および/または蒸気混合物から無炎化
学反応によりエーロゾルを形成し、カッエーロゾル流を
大体においてエーロゾル不含のガス流およ1び/または
蒸気流により導く、従来の技術 このような方法は、特願昭59−148732号明細書
(西ドイツ国特許出願P3326043 、5号明細書
)から公知でありかつ図面につき詳説されている。大体
において同心に配置され、断面が形成すべきエーロゾル
流の用途に適合された管21,31.41を経て、層流
で流動するガス−および/または蒸気状の成分2.3並
びにエーロゾル不含の蒸気−および/またはガス流20
が導かれる。この場合、炉60により加熱された反応室
1中にエーロゾル流1oが生じ、これが蒸気−および/
またはガス流20により、コーチ、ングすべき物体4o
に導かれる。物体40に、エーロゾル流10中に含有さ
れた粒子が沈殿せしめられる。このことが、空気力学的
に形成された案内部材50により支援される。とくに、
石英ガラスより成る光波導体の予備成形体を製造するた
め有利なのは、物体40および案内部材50間に不均等
な電場を形成し、この電場により、ドーピングされたお
よび/またはドーピングされざる石英ガラス粒子の析出
が付加的に支援されることである。
学反応によりエーロゾルを形成し、カッエーロゾル流を
大体においてエーロゾル不含のガス流およ1び/または
蒸気流により導く、従来の技術 このような方法は、特願昭59−148732号明細書
(西ドイツ国特許出願P3326043 、5号明細書
)から公知でありかつ図面につき詳説されている。大体
において同心に配置され、断面が形成すべきエーロゾル
流の用途に適合された管21,31.41を経て、層流
で流動するガス−および/または蒸気状の成分2.3並
びにエーロゾル不含の蒸気−および/またはガス流20
が導かれる。この場合、炉60により加熱された反応室
1中にエーロゾル流1oが生じ、これが蒸気−および/
またはガス流20により、コーチ、ングすべき物体4o
に導かれる。物体40に、エーロゾル流10中に含有さ
れた粒子が沈殿せしめられる。このことが、空気力学的
に形成された案内部材50により支援される。とくに、
石英ガラスより成る光波導体の予備成形体を製造するた
め有利なのは、物体40および案内部材50間に不均等
な電場を形成し、この電場により、ドーピングされたお
よび/またはドーピングされざる石英ガラス粒子の析出
が付加的に支援されることである。
本発明の根底をなす課題は、前記せる種類の方法を有利
に発展させることである。
に発展させることである。
本発明によれば、この課題は、ガス−および/または蒸
気混合物の少なくとも1成分が、それが反応室中へ導入
される前に、大体においてエーロゾルをつくる反応温度
に相応する温度に加熱され、かつ大体においてエーロゾ
ル不含のガス−および/または蒸気流が反応温度と比べ
高い温度に加熱されることにより解決される。
気混合物の少なくとも1成分が、それが反応室中へ導入
される前に、大体においてエーロゾルをつくる反応温度
に相応する温度に加熱され、かつ大体においてエーロゾ
ル不含のガス−および/または蒸気流が反応温度と比べ
高い温度に加熱されることにより解決される。
他の有利な実施例が従属請求項から明白である。
本発明は、小さい粒子(パーチクル)が温度勾配を使用
し移動されることができるという知見に基づく。このよ
うな過程は、熱泳動(Th−ermophorese
)なる呼称下に公知である。この熱泳動なる呼称は、例
えば熱拡散゛並びに熱浸透のような温度依存性運動の総
称である。
し移動されることができるという知見に基づく。このよ
うな過程は、熱泳動(Th−ermophorese
)なる呼称下に公知である。この熱泳動なる呼称は、例
えば熱拡散゛並びに熱浸透のような温度依存性運動の総
称である。
特願昭59−148732号の特許請求の範囲第1項か
らは、エーロゾル流100粒子の不利な析出が、このエ
ーロゾル流10を包囲しかつこれを導く、大体において
エーロゾル不含の蒸気−および/またはガス流20によ
り回避されることが明白である。この効果が、熱泳動に
より支援可能である。例えばエーロゾル不含の蒸気−お
よび/またはガス流20および/またはこれを包囲する
管41の壁がエーロゾル10よりも高い温度に加熱され
た場合、半径方向の力が生じ、この力がエーロゾル流中
に含有された粒子をエーロゾル流10の長手軸へ向は運
動させる。とくに反応室1の壁、場合によりノズル並び
に案内部材50の有害な被覆が回避される。
らは、エーロゾル流100粒子の不利な析出が、このエ
ーロゾル流10を包囲しかつこれを導く、大体において
エーロゾル不含の蒸気−および/またはガス流20によ
り回避されることが明白である。この効果が、熱泳動に
より支援可能である。例えばエーロゾル不含の蒸気−お
よび/またはガス流20および/またはこれを包囲する
管41の壁がエーロゾル10よりも高い温度に加熱され
た場合、半径方向の力が生じ、この力がエーロゾル流中
に含有された粒子をエーロゾル流10の長手軸へ向は運
動させる。とくに反応室1の壁、場合によりノズル並び
に案内部材50の有害な被覆が回避される。
特願昭59−148732号に記載された、ガス状の5
iCz4およびガス状のH2Oから5102粒子を形成
する実施例において、例えば、これら成分5iCt4お
よびH2Oをそれぞれ所要の反応温度約800〜100
0℃に加熱し、かつ加熱されたこれら成分をその後に反
応室l中で混合し、こうしてエーロゾル流10を生じさ
せることが可能である。この場合、このような炉60は
、管21.31.41の壁および/または蒸気−および
/またはガス流20を、反応温度と比べ高い温度、例え
ば1200℃に加熱するためにだけ使用される。
iCz4およびガス状のH2Oから5102粒子を形成
する実施例において、例えば、これら成分5iCt4お
よびH2Oをそれぞれ所要の反応温度約800〜100
0℃に加熱し、かつ加熱されたこれら成分をその後に反
応室l中で混合し、こうしてエーロゾル流10を生じさ
せることが可能である。この場合、このような炉60は
、管21.31.41の壁および/または蒸気−および
/またはガス流20を、反応温度と比べ高い温度、例え
ば1200℃に加熱するためにだけ使用される。
とくに、偏光性を維持する光学特性を有する光波導体で
は、棒状体40、例えばすでに存在する、長さ約1mお
よび径5crnの予備成形体に、光学的に非回転対称形
の5i02析出を実施する必要がある。このため、析出
を、物体40の回転角との関連において制御および/ま
たは調節する必要かあ−る。このことは、多種多様な方
法で、例えば物体40の不均等回転および/または5i
Cz4への不均等なドープ剤添加および/または前記電
場の変更により可能である。例えば、この方法で、光学
的に活性な楕円形断面を有する弐波導体が製造されるこ
とができる。
は、棒状体40、例えばすでに存在する、長さ約1mお
よび径5crnの予備成形体に、光学的に非回転対称形
の5i02析出を実施する必要がある。このため、析出
を、物体40の回転角との関連において制御および/ま
たは調節する必要かあ−る。このことは、多種多様な方
法で、例えば物体40の不均等回転および/または5i
Cz4への不均等なドープ剤添加および/または前記電
場の変更により可能である。例えば、この方法で、光学
的に活性な楕円形断面を有する弐波導体が製造されるこ
とができる。
第1図は本発明による方法を実施する装置の1実施例を
略示する縦断面図である。 1・・・反応室、2,3・・・ガス−および/または蒸
気混合物、10・・・エーロゾル流、20・・・エーロ
ゾル不含のガス−および/または蒸気流、21.31.
41・・・同心に配置された管、40・・・コーチング
すべき物体、50・・・案内部材、60・・・炉
略示する縦断面図である。 1・・・反応室、2,3・・・ガス−および/または蒸
気混合物、10・・・エーロゾル流、20・・・エーロ
ゾル不含のガス−および/または蒸気流、21.31.
41・・・同心に配置された管、40・・・コーチング
すべき物体、50・・・案内部材、60・・・炉
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、エーロゾル流(10)をつくるため、ガス−および
/または蒸気混合物(2、3)から無炎化学反応により
エーロゾルを形成し、かつエーロゾル流(10)を大体
においてエーロゾル不含のガス−および/または蒸気流
(20)により導く方法において、ガス−および/また
は蒸気混合物(2、3)の少くとも1成分が、それが反
応室(1)中へ導入される前に、大体においてエーロゾ
ルをつくる反応温度に相応する温度に加熱され、かつ大
体においてエーロゾル不含のガス−および/または蒸気
流(20)が反応温度と比べ高い温度に加熱されること
を特徴とするエーロゾル流の製法。 2、エーロゾル不含のガス−および/または蒸気流(2
0)の高い温度が、エーロゾルの粒子が熱泳動によりエ
ーロゾル流(10)内部に維持され、従って不利な位置
における粒子析出が回避される価に調節されることを特
徴とする、特許請求の範囲第1項記載のエーロゾル流の
製法。 3、エーロゾル流(10)および/またはエーロゾル不
含のガス−および/または蒸気流(20)を包囲する壁
が、エーロゾルの粒子が熱泳動によりエーロゾル流(1
0)内部に維持され、従って不利な位置における粒子析
出が回避されるような高い温度に加熱されることを特徴
とする、特許請求の範囲第1項または第2項のいずれか
に記載のエーロゾル流の製法。 4、コーチングすべき物体(40)がコーチング中に回
転され、かつコーチングが、回転角との関連において、
回転速度および/またはエーロゾルのドープ率および/
または、析出を支援する電場の電界強度を変更すること
により制御および/または調節されることを特徴とする
、特許請求の範囲第1項から第3項までのいずれか1項
に記載のエーロゾル流の製法。 5、光波導体の予備成形体を製造するため、物体(40
)にガラス状および/またはガラス形成性の層が析出さ
れることを特徴とする、特許請求の範囲第1項から第4
項までのいずれか1項に記載のエーロゾル流の製法。 6、光学的に非回転対称形の断面を有する光波導体の予
備成形体を製造するため、物体(40)に回転角と関連
する層が析出されることを特徴とする、特許請求の範囲
第1項から第5項までのいずれか1項に記載のエーロゾ
ル流の製法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19843427323 DE3427323A1 (de) | 1984-07-25 | 1984-07-25 | Verfahren zur herstellung eines aerosolstromes |
DE3427323.9 | 1984-07-25 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6135846A true JPS6135846A (ja) | 1986-02-20 |
Family
ID=6241474
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16134485A Pending JPS6135846A (ja) | 1984-07-25 | 1985-07-23 | エーロゾル流の製法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4650693A (ja) |
EP (1) | EP0169325B1 (ja) |
JP (1) | JPS6135846A (ja) |
AT (1) | ATE35669T1 (ja) |
CA (1) | CA1241875A (ja) |
DE (2) | DE3427323A1 (ja) |
FI (1) | FI78283C (ja) |
Cited By (1)
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DE3635034A1 (de) * | 1986-10-15 | 1988-04-21 | Philips Patentverwaltung | Verfahren zur herstellung von lichtleitfasern |
JPH02222134A (ja) * | 1989-02-23 | 1990-09-04 | Nobuo Mikoshiba | 薄膜形成装置 |
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DE602007012162D1 (de) * | 2006-03-20 | 2011-03-10 | Brother Ind Ltd | Verfahren zur Herstellung eines piezoelektrischen Aktors, Tintenstrahlkopf und Tintenstrahldrucker mit Aerosolablagerungsverfahren, piezoelektrischer Aktor, Tintenstrahlkopf und Tintenstrahldrucker |
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1984
- 1984-07-25 DE DE19843427323 patent/DE3427323A1/de not_active Ceased
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1985
- 1985-05-17 AT AT85106071T patent/ATE35669T1/de not_active IP Right Cessation
- 1985-05-17 DE DE8585106071T patent/DE3563732D1/de not_active Expired
- 1985-05-17 EP EP85106071A patent/EP0169325B1/de not_active Expired
- 1985-07-22 US US06/757,860 patent/US4650693A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-07-23 JP JP16134485A patent/JPS6135846A/ja active Pending
- 1985-07-24 FI FI852874A patent/FI78283C/fi not_active IP Right Cessation
- 1985-07-24 CA CA000487363A patent/CA1241875A/en not_active Expired
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EP0169325B1 (de) | 1988-07-13 |
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