JPS6135482A - 受動表示装置及びその製造方法 - Google Patents

受動表示装置及びその製造方法

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JPS6135482A
JPS6135482A JP14937085A JP14937085A JPS6135482A JP S6135482 A JPS6135482 A JP S6135482A JP 14937085 A JP14937085 A JP 14937085A JP 14937085 A JP14937085 A JP 14937085A JP S6135482 A JPS6135482 A JP S6135482A
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layer
display device
movable electrode
passive display
electrode
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JP14937085A
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English (en)
Inventor
テイース・シーボルト・テ・フエルデ
アドリアナ・テレシア・アルデイナ・ツエフエルス・フアン・ドウインホーフエン
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Koninklijke Philips NV
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Philips Gloeilampenfabrieken NV
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    • G09EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09FDISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • G09F9/30Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements
    • G09F9/37Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements being movable elements
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は第1と第2の支持板を具え、その少なくとも一
方が透明で、多数の表示要素が各々少な(とも1個の固
定電極と、静電力によりこの固定電極に対して動けるよ
うに配置され且つ電気絶縁層により」二記固定電極から
離される電極とを具え、上記可動電極が1個のパターン
を成す開口を有し、係合面により定まる2個の最終位間
の間で動くことができる受動表示装置に関するものであ
る。
本発明はまたこのような受動表示装置の製造方法に関す
るものである。
上述したタイプの受動表示装置は「ニス・アイ・ディー
 インターナショナル シンポジウムダイジェスト オ
ブ テクニカル ペーパーズ」(S r D  r n
ternational  3 ymposiun+D
igest  of  techn 、 papers
> 、 1980年4月、第116〜117頁にのって
いる。各表示要素において可動電極が2個の安定な位置
の間を動くことができ、表示装置に入射する光の吸収又
は反射を画素毎に制御できる。可動電極はいくつかの弾
性要素により一方の支持板に連結する。可動電極を一方
の安定な位置から他方の安定な位置へ駆動する力は静電
力又は静電力に弾性要素により発生させられた弾性力が
組み合わさったものである。
表示装置の第1の実施例では可動電極が第1の支持板と
第2の支持板の対向する而−ヒに設けられている2個の
電極の間を動く。弾性要素内に生ずる弾性力は静電力に
比較して無視できることもあれば、無視できないことも
ある。表示装置の第2の実施例では静電ツノが第2の電
極を一方の安定な位置から他方の安定な位置へ駆動し、
弾性要素内の弾性力が第2の電極を元へ戻すのに使用さ
れる。
いずれの場合も可動電極と固定電極の間に電気絶縁層を
設けてこれらの電極が短絡するのを防いでいる。第1の
実施例では可動電極に作用する全部の力「tは最も一般
的な形でFt=F+−1−r2十F3と書(プる。ここ
で、Flは可動電極と一方の固定電極の間にかかる静電
力であり、F2は可動電極と他方の固定電極の間にかか
る静電力であり、「3は弾性要素内に生ずる機械的弾性
力である。
上に挙げたFtの式から、表示装置の種々の実施例を導
くことができる。F3が項F1又はF2に対して無視で
きる程度に小さい場合は可動電極は実質的に静電ツノに
J:り動く。Fl又はF2がゼロに等しい場合は上述し
た第2の実施例が得られる。
一実施例は色が可動電極の入射光に向き合う表面の色と
コントラストをなす液体で表示装置を満だ1゛。可動電
極がどちらの安定位置にあるかに依存して当該画素は目
視者に対して可動電極の表面の色又はコントラストをな
す液体の色をとる。このようにしていくつもの画素にJ
:り画像が組立てられる。表示された画像内の情報を変
えられる速度は主として可動電極が一方の安定な位置か
ら仙−7= 方の安定な位置へ動くのに要する時間に依存する。
この点において可動電極の開口が重要な役割を演する。
蓋し、このような開口の寸法と数が可動電極が一方の位
置から他方の位置へ変わる時可動電極が液体内で受ける
抵抗を決めるからである。本願人の公告された欧州特許
願第85459号(この内容をここに含めるものとする
)には可動電極のスイッチング時間を短くする手段を講
じた受動表示装置が記載されている。この既知の表示装
置では弾性要素が可動電極の横ではなく下に設【ノられ
ており、可動電極に大きな開口を設け、このため公告さ
れた英国特許願第1533458号(これまた本願人の
名による)に記載されているような可動電極の周りに弾
性要素を設けた表示装置におけるよりもスイッチング時
間が速くなっている。
本発明の目的は、弾性要素の位置にかかわらず、可動電
極のスイッチング時間が速い改良された受動表示装置を
提供するにある。本発明のもう一つの目的はこのような
表示装置を作る製造方法を提供するにある。
8一 本発明にJ:れば、第1と第2の支持板を具え、その少
なくとも一方が透明で、多数の表示要素が各々少なくと
も1個の固定電極と、静電力によりこの固定電極に対し
て動けるように配置されDつ電気絶縁層ににり上記固定
電極から離される電極とを具え、上記可動電極が1個の
パターンを成す開口を有し、係合面により定まる2個の
最終位置の間で動くことができる受動表示装置において
、2個の最終位置の少なくとも一方において、可動電極
が面構造が可動電極の隣接面の面構造と一致しない係合
面と係合し、このため有限個のl散する係合点が形成さ
れ、これらの係合点の間では可動電極の面が係合面の隣
接面から離れていることを特徴とする。
本発明は可動電極の交さ時間が実質的に2個の異なる流
体力学又は空気力学効果により決まる事実を認識したこ
とに基づいている。一方の効果は媒質(気体又は液体)
内でvjく電極が支持板の表面からいくらかの距離前れ
た点で受ける空気力抵抗又は流体力学抵抗である。可動
電極の開口の寸法と数はこの空力又は流体力学抵抗に関
連する。
この効果は前述した欧州特許願第85459号に記載さ
れている。他方の効果は可動電極が係合面から離れたり
近づいたりする時受ける抵抗である。
本発明が関係するのは正にこの後者の効果である。
係合面と可動電極との間の自由空間が相当程度にこの空
力抵抗又は流体力学抵抗の値を決めることが判明してい
る。特に開口を通ってこの自由空間へ又は自由空間から
流れる媒質(液体又は気体)の加速度が重要である。可
動電極と係合面との間の距離が小さい場合は、媒質はゆ
っくりとこの距離により定まる空間に出入りできるだけ
である。
この結果可動電極が安定な最終係合位置に近づいたり離
れたりする速度は低くなる。本発明によれば安定な最終
位置にある可動電極は特殊な構造をした表面を介して夫
々の隣接する係合面の表面と係合する。こうすると有限
個の離散した係合点が形成されると共にこれらの係合点
間で可動電極の表面が係合面から離れ、いくらかの中間
空間ができる。この中間空間は可動電極の対向面と支持
板との間の距離により定まる。スペーサ層により定まる
中間空間、換言すれば係合点の高さはこれにより定まる
流体力学又は空力抵抗が小さくなるように選ばねばなら
ない。
本発明に係る一つの実施例は可動電極の少なくとも一側
で可動電極の間口に対して対称的なようなWi’lli
にされlc面により係合点が形成されることを特徴とす
る。こうすると特殊な構造をした表面が中間自由空間内
で可動電極の開口から流れ出したりそこに流れ込む媒質
に対する抵抗をほとんどなくしたり、有っても極く小さ
くする。
もう一つの利点は静電力の影響の下で係合点間に存在す
る可動電極の表面区域がそれが係合する相手側の係合面
の方へ曲がれることである。こうなると可動電極が他方
の安定なR終位置へスイッチされる時電極に累積されて
いる弾性エネルギーが電極がその係合面から離れるのを
加速する。これが所謂「バンパばね効果」である。可動
電極が散乱−反射層を具える時、原理的にはこの層の表
面を特殊な構造にする必要はない。散乱−反射面一 1
1− 自体が表面構造(5urface  sf:uctue
r)を有し、これが統S1的に分布する係合点を形成し
、これで本発明の目的が達成できる。
本発明の一実施例ににれば特殊な構造をした面が可動電
極の一部を形成することを特徴とする。
代りの実施例によれば特殊な構造をした面が係合面の一
部を形成することを特徴とする。
本発明のもう一つの実施例は前記係合点の区域での特殊
な構造をした面が電気絶縁材料から成ることを特徴とす
る。このように係合点を電気絶縁材料で作れば可動電極
と支持板上に設けられる電極の間にもう一つの絶縁層を
設ける必要がなくなる。
本発明に係る特別な実施例は可動電極の開口を開口群の
繰り返しパターンに従って配置し、開口群どうしの間に
係合点を置くことを特徴とする。
各開口群内で開口は所定のパターンに従って配置され、
群どうしも互に所定のパターンに従って配置される。超
構造を持たせた構造は係合点の数が更に少なくなり、前
述したバンパばね効果の点で12一 種々の変形例が可能となる利点を有する。
可動電極は十分な剛性を有し、所堡とあらば白色散乱−
反射面が得られる材料で作ると好適である。この材料は
応力がない態様で可動電極を形成できるものでな()れ
ばならない。この点で金属合金、特に銀合金から成る材
F3+を用いると良好な結果が得られる。銀合金は特に
弾性要素が可動電極と一つの組1γ体を形成する場合に
極めて秀れている。
本発明は内部を液体で充たした受動表示装置で重要であ
るだけでなく、排気した装置又は気体で充たした装置で
も重要である。後者の装置において可動電極を餠す際の
慣性は特に空気力学効果により定まる。従ってこの場合
も上述したような特殊な構造をした面を用いることが重
要である。このような装置の一例が前述した英国特許第
1,533.458号明細書に記載されているが、そこ
では可動電極が光に対するシャッタどして働く透過モー
ドで装置が動作する。
本発明はまた受動表示装置の製造方法にも関するもので
ある。特殊な構造をした面を作るために本発明方法は次
の諸工程、即ち a)基板上に第1の材料の層を設ける■稈、b)上記第
1の材料の層の上に第2の材料の層を設ける工程、 C)ホトエツチング法により第2の材料の層に1個のパ
ターンに従って開口を設ける工程、d)この第2の材料
の層の開口を用いてアンダーカットすることにより第1
の材料の層の少なくとも一部を除去して特殊な構造をし
た面を形成する工程 を含むことを特徴とする。
この方法は係合面の一部を形成する特殊な構造をした層
を作るのにも、また可動電極の一部を形成する特殊な構
造をした層を作るのにも使用できる。本発明の一実施例
によれば、更に第1の材料の層及び第2の材料の層又は
そのいずれか一方の組成を層の厚さに亘って不均一にし
、エツチング感度が層の厚さに百って変化するようにす
ることを特徴とする。「エツチング感度」という言葉は
ここでは材料がエッチャントに溶ける速度を意味するも
のと理解すべきである。エツチング感度が高いというこ
とは材料が当該エッチャントに溶ける速度が高いことを
意味する。第1の材料の層及び第2の材料の層又はその
いずれか一方の厚さに頁ってエツチング感度が変わると
特殊な構造をした面の形成の点で可能ス([の範囲が大
きくなる。もう一つの実施例によれば第2の材料の層が
また可動電極の材わ1ともなっており、開口のエツチン
グ時にこの層にも1個のパターンの電極をエッヂするこ
とを特徴どづ−る。この実施例の利点は可動電極自体を
アンダーカッティング工程のマスクとして用いることで
ある。この場合特殊な構造をした面の係合点が電極の開
口に対して対称となる。特殊な構造をした面が可動電極
の一部を形成する場合は第1の材料のエツチング感度が
第2の材料にりも大きいエッチャントを用いることがで
きる。
この場合、アンダーカッティング工程中に第1の材料が
完全に■ツブし去られ、第2の材料が一部エッチし去ら
れる。この方法を修正した実施例は第1の材料の層のエ
ツチング感度を第2の材料の層の方に向って下げてゆく
ことを特徴とする。この方法によれば“第1の材料の点
状部がアンダーカッティング工程後第2の材料の層の上
に残る。明らかにアンダーカッティング工程は可動電極
を下側層から完全に解放するに足る時間行なわれる。
本発明方法のもう一つの実施例はホトエツチング工程に
先立って第1の材料の層の性質と類似する性質を有する
材料の別の層を第2の材料の層の上に設け、次にこの別
の層にホトエツチング法により可動電極に望まれる寸法
の開口をエッチすることを特徴とする。この実施例によ
れば電極の両側に特殊な構造をした面が与えられ、その
係合点が開口に対して対称的に位置するか又は開口群の
間に位置する。
本発明により係合面の一部を形成する特殊な構造をした
面を得る方法は第1の材料の層のエツチング感度を第2
の材料の層の方に上げてゆき、基板の一部を形成する特
殊な構造をした面が得られるようにすることを特徴とす
る。この方法によれば、アンダーカッティングT稈後第
1の材$1i+−17)点状の部分が基板上に残る。
本発明方法を更に拡張したものは基板と第1の材料の層
との間に第3の材料の層を設け、特殊な構造を有する面
を作った後選択性エラチャンI・に  ゛よりこれを取
り除くことから成る。第3の材料の層は可動電極の少な
くとも一面に係合点を形成する柱を設けられるようにす
る。特殊な構造をした面が基板面の一部を形成する場合
は第3の材料のこのような層を第1の材料の層と第2の
材料の層との間に置くことができる。この場合は基板(
係合面)の一部を形成する柱が作られる。前記第1の材
料は金属又は金属合金、例えば、アルミニウム、ニッケ
ル、銅、マグネシウム又はこれらの金属の合金すること
ができる。これに限定するもので゛はないが、第2の材
料に対して多から少なかれ選択的にエツチングできる物
質はTi0z。
CdS、Ce0z、CllCl、M(lF2.M!11
0゜Nb2O5,Ta205.Y2O3及びZ n S
 bsら成る群を成ず。絶縁体の利点はアンダー力ッテ
インクの後知絡を起すおそれのある導電性の1〜ラツク
が残らないことである。第1の材料の層と第2の材お1
の層とは組成の点で均一である必要はない。複合層又は
密度が層の厚さ方向に変わる層とすることもできる。本
発明の範囲を逸脱せずに層の組成と特殊な構造をした而
の形状の点で無数の変形例が可能である。
種々の実施例を上げて図面につき本発明の詳細な説明す
る。
本発明に係る表示装置の一実施例におけるように静電力
により2個の電極間で動ける電極の動作原理を第1a図
及び第1b図につき説明する。
第1a図は互に距11idだけ離れた2個の固定電極1
及び2を示す。これらの固定電極1と2の間に電極1か
ら距離X離して可動電極3を設ける。
電極1及び2の上に厚さδdの絶縁層4及び5を設ける
。こうすると電極3は2個の極端な位置X−δdとX=
D−δdの間で動【ノる。固定電極1及び2には夫々電
圧パルス十V及び−Vを印加し、同時に可動N[13に
可変電圧パルスVgを印加する。液体と絶縁層の誘電率
をほぼ等しくするど、電極2の方に向って単位面積当り かかる。但し、εは電極1と2の間の媒質の誘電率であ
る。これらの2個の力の間の平衡を示す破線に第1b図
では旬号8を付した。この破線8は電圧V(+−十V−
δVでI!X−δdに交わり、電圧V(1−−V+δV
で線X=d−δdに交わる。
電極3の平衡は勿論不安定であって、電極3が少し平衡
状態から動くと、互に近づく2個の電極間の静電力は大
きくなり、互に離れる2個の電極間の静電力は小さくな
る。この結果この第3の電極3は−V十δVと+V−δ
Vの間の電圧Vgの範囲で2個の安定な状態を有する。
即ち、X−δdで絶縁層4に当接し、X=d−δdで絶
縁層5に当接する。例えば、電極3が絶縁層4と係合す
る時、この第3の電極3が電極2に飛び越ず前に電圧V
oはほぼV−δV迄上昇する。そして電極3が電極1に
戻る前に電圧V9はほぼ−V+δ■に下がる。こうして
電極3は線9で示したほぼ理想的なヒステリシスループ
を辿る。この結果この装置はしきい値電圧が大きく、メ
モリ作用を右する。
」−述した原理に基づく本発明に係るマトリックス表示
装置の一例を第2図及び第3図につき説明するが、これ
らは夫々装置の断面図及び一部切欠斜視図である。この
装置は2個の平衡な支持板10及び11を具えるが、そ
のうちで少なくとも支持板10を透明にする。支持板i
o、 iiは、例えばガラス又は他の+J P+で作る
。支持板10に透明電極12を取り付ける。支持板11
の方にはストリップ状の電極13を設ける。電極12及
び13は厚さが約0.2μmで、例えば、インジウム酸
化物及び錫酸化物又はそのいずれか一方で作られている
。電極12及び13上に1〜2μm厚の石英の絶縁層1
4及び15を設ける。
この装置はまたいくつかの可動電極16を具えるが、こ
れらの可動電極16はいくつかの弾性要素19により絶
帽15に連結されている。電極16は弾性要素19によ
り一方向に相互接続され、電極13とほぼ直交するスト
リップ状電極を構成する。電極16の透明な支持板10
に面する表面を反射性にする。装置は封止材料のリム1
7で封11〕する。支持板10ど11の間の空間は不透
明な不導電性液体18で充たすが、この液体の色は電極
16の散乱−反射性の色とコントラストをなすようにす
る。液体18は、例えば、スーダンブラック(Suda
n  t+1ack )をトルエンに溶かして作る。5
.電極12.13及び16に電圧を印加することにより
電極16を一方の安定状態から使方の安定状態へ制御す
ることができる。電極16が絶縁層14に当接している
時は周囲の光は電極16により反射される。電極16が
絶縁層15に当接している時は、透明な支持板10側の
観察者は電極16を見ることができず、周囲の光は液体
18により吸収されるか又は少なくとも液体18の色で
だ1ノ反射される。
この装置は所謂マトリックス表示装置を構成し、そこで
はストリップ状電極13が、例えば、行電極を構成し、
ストリップ状電極16が列電極を構成する。
画像を書込む時は、電極16を全て第2の支持板11の
側に置いて出発状態とする。行電極13及び共通電極1
2は夫々十Vと−Vポル]〜の電圧に保つ。
行電極13を駆動する情報は同時に全ての列電極に当て
られる。+Vボルトの電圧パルスvgを電極16が駆動
された行電極13ど交わる時第1の支持板10へとび移
る必要のある列電極に加える。残りの列電極には0ボル
トの電圧パルスを加える。書込みが終った後短時間同時
に全ての列電極を一■ボルトにすることにより全ての電
極16を再び第2の支持板11へ戻す。この時絶縁層は
3市の目的に役立つ。第1に絶縁層は可動電極16と固
定電極12及び13との間で電気的接触が生ずるのを全
て防ぐ。
第2の目的は表示装置のエネルギー消費に関するもので
、電極16がこれらの2個の絶縁層の一方に当接させら
れる時dを絶縁層(誘電体層)の厚さとした時1/dに
比例するエネルギーが各交互の電圧パルスで与えられる
。絶縁層の第3の目的は表示装置のスイッチング特性に
関するもので、第1b図に見るように、破線8の上方に
位置する点では可動電極が支持板2の方向の力を受け、
破線8の下方に位置する点ではこの力が支持板1の方を
向いている。絶縁層(誘電体層)の厚さが極端に小さい
(δ−〇)と、これはスイッチングが正確に十Vポル1
〜及び−Vポル(−の点で行なわれ、可動電極を一方の
位置から他方の位置へ送らねばならないことを意味する
が、しかし、これは実際にはほとんど不可能である。い
くらかでも厚さを有する誘電体層は成る量の救いを与え
る。蓋し、このような厚さでもスイッチングを行なえる
範囲をWで示す領域迄伸長するからである。
第48,41)及び40図は可動電極の一部を形成する
特殊な構造をした表面を得る方法の第1の実施例を示し
たものである。支持板20と、0.2ミクロン厚のクロ
ム層から成る第1の電極21と、誘電体層22とから成
る基板の十に第1の材料の層23、第2の材料の層24
及びボ]−ラッカ層25を順次に設ける。通常行なわれ
る露光と現像とにより、ホトラッカ層25に開口26を
設ける。可動電極の形状と、この可動電極と一体の組立
体を形成する弾性要素の形状とは同時にホ1−ラッカ層
25内に設けること−6(]− ができる。60℃で濃リンM(H3PO<>でエツチン
グすることにより第2の材料の層24(これは0.6ミ
クロン厚のアルミニウム層から成る)に直径が4ミクロ
ンでピッチが20ミクロンの開口21を形成する。こう
して第4b図の構造が得られる。
第1の材料層23は0.2ミクロン厚のマグネシウム酸
化物(M(10)の層である。開口27とエツチングで
できた電極の縁とを介して層23と層24の一部とを除
去するが、それは40℃で100c/のHN Osと、
200c+/(7) H3P O4と、5oのFe 2
  (804) 3どに水を加えて1リツトルどしたエ
ッチャントによりアンダーカットすることにより行なわ
れる。この結果層24は特殊な構造をした表面28を得
、2個の間口27の対称中心に係合点30ができる。特
殊なWi造をした層24(第4C図参照)と層22(こ
れは1.5ミクロン厚のSi 02層である)どの間に
互に重なり合う円錐状の空胴29が得られる。最后に小
トラッカ層25を取り除く。
最后に層24が可動電極として残るが、これは弾性要素
により基板に連結されており、開口270周りでは厚さ
が0.1ミクロンであり、係合点30(これらは上記開
口多こ対して対称的に配置されている)の高さは約0.
5ミクロンである。表面28と反対側の表面31は粗く
し、散乱−反射をよくする。
第5a図及び第5h図はこれまた可動電極の一部を形成
する特殊な構造をlノだ表面が得られる第2の実施例を
示す。ガラスの支持板40と、固定電極のためのスズ酸
化物層41と、誘電体層としての1.5ミクロン厚の8
102層42とから成る基板の上に0.3ミクロン厚の
C802層43を設ける。このCeoz層43の十に0
.3ミクロン厚のアルミニウムFR44を蒸着し、次に
4%のシリコンを含有す”る0、3ミクロン厚のアルミ
ニウム層45を蒸着する。
この全体をホトレジスト層46で覆い、次に露光プロセ
スによりこのホトレジスト層に開口47を設ける。第5
a図は60℃でリン酸により層44及び45に開口48
をエツチングした後の状態を示寸。この開口48を介し
てアンダーカットすることにより層43を全部、そして
層44を一部除去する。使用するエラチャンi・は50
7の1−+2 SO4、50C11’の11202 。
20dのH:l PO4に水を加えて1リツトルにした
ものである。CeO2(層43)は層44の材料よりも
このエッチャントに対するエツチング感度が大きい。ア
ンダーカットプロセスの後層44の残りとしてボス49
が層45上に残り、これが可動電極を構成する。最后に
ホトレジスト層46を除去する。
第6a図及び第6b図は可動電極の両側に特殊な構造を
した表面を作る方法を示す。第6a図の層構造は各々が
0.2ミクロン厚の2個のM(10層50、51の間に
0.3ミクロンのアルミニウム、0.02ミクロンの銅
(破線52で示す)及び再び0.3ミクロンのアルミニ
ウムとから成るサンドイッチ層53が存在する点で第5
a図の層構造と異なる。このサンドイッチ層53は先ず
アルミニウムを蒸着し、この蒸着プロセスの途中で、約
200℃で銅を蒸着し、最后にアルミニウム層を蒸着す
ることによりプロセスを終了させて作る。銅は両側のア
ルミニウムの中に僅かながら拡散してゆく。開口54を
介して層50.51及び53に開口55を二[ツチング
で作る。使用するエッチャントは85重量%のト13P
O4,12重屋%の酢酸及び3重量%のHNO3から成
り、約33℃の温度でエツチングを行なう。こうして第
6a図に示°すような状態が得られる。これに対し第6
b図は開口55を介して100dのHNO3,100c
fflの1−+3PO4及び5gのFf32  (80
4) 3に水を加えて1リッ1−ルにしたエッチャント
でアンダーカットした後の状態を示す。層50及び51
は完全にエツチングし去り、層53は一部だけをエツチ
ングし去る。蓋し、銅を含有するアルミニウムは純粋な
アルミニウムよりも使用するアンダーカット剤に対する
エツチング感度が小さいからである。斯くして可動電極
を形成する層53の両側に特殊な構造をした表面56が
得られる。勿論最后にホトレジスト層57も除去する。
第7a図及び第7h図は絶縁材料の特殊な構造をした表
面が形成される方法の第4の実施例を示す。基板60は
前述した諸方法の基板に等しいが、この基板60の上に
8%アルミニウム酸化物(Aβ203)を含有するマグ
ネシウム酸化物(M(10)の1ミクロン厚の層61を
蒸着により設け、次にo、oiミクロン厚のマグネシウ
ム酸化物(M(IQ)の層62を蒸着により設ける。こ
のM(10層62の上に0.5〜5重量パーセントのク
ロムを含有する銀−クロム合金の層63を0.05ミク
ロン厚スパッタするか又は蒸着し、次にホトレジスト層
64をつける。通常の態様でホトレジスト層64に開口
65を設けた後、この間口65を介して室温で800d
のエチレングリコールに4400のFe(NOs ) 
3を溶かした溶液に水を加えて1リツトルとしたエッチ
ャントにより開口66を層63内にエツチングで作り出
す。この間口66を使ってアンダーカットすることによ
り層62を完全にエッチし去り、層61を一部エッチし
去る。この場合に使われるエラチャンとは500dのH
3PO4,100cdのf」zsO,*に水を加えて1
リツトルとしたもので、エツチング感度は65℃である
。このようにして基板60に絶縁材料のボス61を固着
した形の特殊な構造をした表面67が得られる。この場
合は誘電体層68を省くことができる。
この実施例を修正したものは層61と62の順序を逆に
したものである。第7a図及び第7b図につき述べたも
のと同じプロセス工程を用いるが、第8図はこの反転の
最終結果を示したものである。
絶縁部は可動電極63の表面に剛固に連結されている。
この場合も誘電体層68を省くことができる。
第9a図ないし第9C図は本発明方法のもう一つの実施
例を示す。この場合基板はガラス支持板10の上に固定
電極として0.2ミクロン厚のクロム層71を蒸着した
ものである。このクロム層71の上に8%のアルミニウ
ム酸化物を含有するマグネシウム酸化物の1ミクロン厚
の絶縁層72を蒸着する。
次にこの層12の上に0403ミクロン厚のアルミニウ
ム層73を蒸着し、このアルミニウム層73の上に0.
5〜5重量%のクロムを含有する0、45ミクロン厚の
銀層74を蒸着する。ホトレジスト層75と開口アロと
を介して800dのエチレングリコールに440gのF
e(NOs)sを溶かし、水を加えて1リツトルとした
ものから成るエッヂヤントにより開ロア7をエツチング
で作り出J°。次に40℃で水酸化ナトリウム溶液(水
1リットル当り100のNa0f−1>により層73に
開ロア8をエツチングで作る。この結果生ずる構造を第
9a図に示す。これらの−列に並んだ開口アロ、 77
及び78を介してアンダーカットすることにJ:り層7
2をエッチし去り、約2ミクロンの柱80が残るように
する。この状態を第9b図に示す。このアンダーカット
に使用するエッヂヤントは500CI/のト13PO4
,100c/のH2804に水を加えて1リツ1〜ルと
したもので、エツチング温度は約65℃である。次に5
00dの1−+3PO4に水を加えて1リツトルとした
エッチャントを用いて65℃で約1分間エツチングする
こうすると層73は完全にエッチし去られ、柱80に丸
味81がつく。この状態を第9C図に示す。柱80は固
定電極71に剛固に連結され続ける。この場合は誘電体
層を設けない。最后にホトレジスト層75を除去する。
層72を蒸着する際蒸着プロセス時に組成がこの層72
の厚さに亘って変化する。このため層12の厚に亘って
エツチング感度も変わる。層72はSi 02とするこ
ともできる。これはフッ化水素酸でエツチングすること
ができる。層の密度は蒸着プロセス時にガス圧を変える
ことにより厚さ方向で変えることができる。層72と7
3の順序を逆にすることにより第8図につき述べたのと
類似した態様で柱80が層74に固着した構造が得られ
る(可動電極)。
第10図は可動電極90の平面図であるが、この可動電
極90は弾性要素91を有する。開口92をグループ分
けして配置し、所謂超構造(5uperstructu
re )を形成する。1個の群の内部では開口は周期p
で繰り返し、群どうしは周期q =np(n >  1
>で繰り返される。開fi92どうしの間の相対距離、
エツチング速酊及びエツチング時間により特殊な構造の
表面の形状が決まる。係合点の高さはAで示す場所で最
高になり、破線で示す隣接する群間で僅かに低く、同じ
群に属する開口間で最低になる。
このようにして前述した。「バンパ バネ効果」で多数
の変形例が得られる。
以上本発明方法を可動電極の間口を通してアンダーカッ
ティングを行イ【う実施例につき述べてきたが、本発明
はこれに限定されるものではない。
勿論アンダーカッティングのマスクとして任意の開口を
設けた層を使うことができる。本発明は英国特許第1.
533.458号明m書に記載されているように、可動
電極の周りに弾性要素が存在する表示装置の製造で使用
すると特に有利であるが、本発明はまた出願公告されて
いる欧州特許願第85459号に記載されているように
可動電極の下方に弾性要素が存在する構造にも適用でき
る。
【図面の簡単な説明】
第1a図及び第1b図は静電)〕が実質的に主たる役割
を演する「3電極系」に係る表示装置を説明するための
略式説明図、 第2図は「3電極系」に係る表示装置の略式断面図、 第3図は第2図に示す装置の一部を切欠した斜視図、 第4a図、第4b図及び第4C図は本発明方法の第1の
実施例の断面図、 第5a図及び第5b図は第2の実施例の断面図、第6a
図及び第6h図は第3の実施例の断面図。 第7a図及び第71)図は第4の実施例の断面図、第8
図は第5の実施例の断面図、 第9a図、第91)図及び第9C図は第6の実施例の断
面図、 第10図は可動電極の一実施例の平面図である。 1.2・・・固定電極  3・・・可動電極4.5・・
・絶縁層   8・・・力の平衡を示す破線9・・・ヒ
ステリシス ループ 10、11・・・支持板   12・・・透明電極(共
通電極)13・・・ストリップ状電極(行電極)14、
15・・・絶縁層   16・・・可動電極(列電極)
17・・・リム      18・・・不導電性液体1
9・・・弾性要素    20・・・支持板21・・・
第1の電極   22・・・誘電体層23・・・第1の
材料の層 24・・・第2の材料の層25・・・ホトラ
ッカ層  26・・・開口21・・・開口      
28・・・特殊な構造をした表面29・・・円鉗状の空
胴  30・・・係合点31・・・表面      4
0・・・支持板41・・・スズ酸化物層  42・・・
Si 02層43−Ce O2層  44・Aj2層4
5・・・4%3iを含有するAJ2層46・・・ホトレ
ジスト層 47・・・開口48・・・開口      
49・・・ボス50、51・・・M2O層  52・・
・銅53・・・サンドイッチ層 54・・・開口55・
・・開口      56・・・特殊なI造をした表面
51・・・ホ]・レジスl−1i9 60・・・基板6
1・・・8%のAJ2zOsを含有するM(10層62
・・・M(10m    63・・・銀−クロム合金層
64・・・ホトレジスト層 65・・・開口66・・・
開口      67・・・特殊な構造をした表面68
・・・誘電体層    70・・・ガラス支持板71・
・・クロム層 72・・・8%のAAz03を含有するM(10層73
・・・Aβ層     14・・・銀層75・・・ホト
レジスト層 16・・・開ロア713.開口     
 18・・・開口80・・・柱       81・・
・丸味90・・・可動電極    91・・・弾性要素
92・・・開口 特許出願人   エヌ・ベー・フィリップス・フルーイ
ランペンファブリケン O デー Cフ L =」−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、第1と第2の支持板を具え、その少なくとも一方が
    透明で、多数の表示要素が各々少なくとも1個の固定電
    極と、静電力によりこの固定電極に対して動けるように
    配置され且つ電気絶縁層により上記固定電極から離され
    る電極とを具え、上記可動電極が1個のパターンを成す
    開口を有し、係合面により定まる2個の最終位置の間で
    動くことができる受動表示装置において、2個の最終位
    置の少なくとも一方において、可動電極が面構造が可動
    電極の隣接面の面構造と一致しない係合面と係合し、こ
    のため有限個の離散する係合点が形成され、これらの係
    合点の間では可動電極の面が係合面の隣接面から離れて
    いることを特徴とする受動表示装置。 2、可動電極の少なくとも一側で可動電極の開口に対し
    て対称的なような構造にされた面により係合点が形成さ
    れることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の受動
    表示装置。 3、特殊な構造をした面が可動電極の一部を形成するこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項記載の
    受動表示装置。 4、特殊な構造をした面が係合面の一部を形成すること
    を特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項記載の受
    動表示装置。 5、前記係合点の区域での特殊な構造をした面が電気絶
    縁材料から成ることを特徴とする特許請求の範囲前記各
    項のいずれかに記載の受動表示装置。 6、特殊な構造をした面が可動電極と、支持板上に設け
    られた固定電極との間でも絶縁層を形成することを特徴
    とする特許請求の範囲第5項記載の受動表示装置。 7、可動電極の開口を開口群の繰り返しパターンに従つ
    て配置し、開口群どうしの間に係合点を置くことを特徴
    とする特許請求の範囲前記各項のいずれかに記載の受動
    表示装置。 8、可動電極を金属合金、特に銀合金で作ったことを特
    徴とする特許請求の範囲前記各項のいずれかに記載の受
    動表示装置。 9、特許請求の範囲前記各項のいずれかに記載の受動表
    示装置の製造方法であって、この方法が特殊な構造をし
    た面を形成するために、以下の工程、即ち、 a)基板上に第1の材料の層を設ける工程、b)上記第
    1の材料の層の上に第2の材料の層を設ける工程、 c)ホトエッチング法により第2の材料の層に1個のパ
    ターンに従つて開口を設ける工 程、 d)この第2の材料の層の開口を用いてアンダーカット
    することにより第1の材料の層 の少なくとも一部を除去して特殊な構造を した面を形成する工程 を含むことを特徴とする受動表示装置の製造方法。 10、第1の材料の層及び第2の材料の層又はそのいず
    れか一方の組成を層の厚さに亘って不均一にし、エッチ
    ング感度が層の厚さに亘って変化するようにすることを
    特徴とする特許請求の範囲第9項記載の受動表示装置の
    製造方法。 11、第2の材料の層がまた可動電極の材料ともなって
    おり、開口のエッチング時にこの層にも1個のパターン
    の電極をエッチすることを特徴とする特許請求の範囲第
    9項又は第10項に記載の受動表示装置の製造方法。 12、アンダーカット工程時に第1の材料が第2の材料
    よりもエッチング感度が高いエッチャントを用い、可動
    電極の一部を形成する特殊な構造をした面を得ることを
    特徴とする特許請求の範囲第11項記載の受動表示装置
    の製造方法。 13、第1の材料の層のエッチング感度を第2の材料の
    層の方に向つて下げてゆくことを特徴とする特許請求の
    範囲第12項記載の受動表示装置の製造方法。 14、ホトエッチング工程に先立って第1の材料の層の
    性質と類似する性質を有する材料の別の層を第2の材料
    の層の上に設け、次にこの別の層にホトエッチング法に
    より可動電極に望まれる寸法の開口をエッチすることを
    特徴とする特許請求の範囲第11項、第12項又は第1
    3項に記載の受動表示装置の製造方法。 15、第1の材料の層のエッチング感度を第2の材料の
    層の方に上げてゆき、基板の一部を形成する特殊な構造
    をした面が得られるようにすることを特徴とする特許請
    求の範囲第11項記載の受動表示装置の製造方法。 16、基板と第1の材料の層との間に第3の材料の層を
    設け、特殊な構造を有する面を作った後選択性エッチャ
    ントによりこれを取り除くことを特徴とする特許請求の
    範囲第11項、第12項、第13項又は第14項に記載
    の受動表示装置の製造方法。 17、第1の材料の層と第2の材料の層との間に第3の
    材料の層を設け、特殊な構造を有する面を作った後選択
    性エッチャントによりこれを取り除くことを特徴とする
    特許請求の範囲第15項記載の受動表示装置の製造方法
    。 18、前記第1の材料を電気絶縁材料とすることを特徴
    とする特許請求の範囲第10項ないし第17項のいずれ
    かに記載の受動表示装置の製造方法。
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