JPS6135436B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6135436B2
JPS6135436B2 JP55117901A JP11790180A JPS6135436B2 JP S6135436 B2 JPS6135436 B2 JP S6135436B2 JP 55117901 A JP55117901 A JP 55117901A JP 11790180 A JP11790180 A JP 11790180A JP S6135436 B2 JPS6135436 B2 JP S6135436B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
space
oxygen
air
outer plate
deoxidizing material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP55117901A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5743093A (en
Inventor
Satoshi Nishikawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP55117901A priority Critical patent/JPS5743093A/ja
Publication of JPS5743093A publication Critical patent/JPS5743093A/ja
Publication of JPS6135436B2 publication Critical patent/JPS6135436B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)
  • Thermal Insulation (AREA)
  • Thermally Insulated Containers For Foods (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 従来の真空断熱層に於いては、内板と外板とで
構成される密閉空間内の空気を真空ポンプ等で真
空引きをするものであつたが、此の種のものでは
真空ポンプ等を必要とし装置が大型化すると共
に、真空引きに際しての空気漏れを防止するため
にシール部分に細心の注意をはらわなければなら
ず、その作業が極めて困難なものであつた。
本発明は上述事項に鑑みて工夫されたもので、
簡単な方法により真空度の高い真空断熱層を得ら
れるようにしたものである。
以下、本発明の方法により製作される断熱箱に
ついて説明する。
1は内板2と外板3とで構成される箱体にし
て、これら内板2と外板3との間には空間4が形
成されて居り、該外板3の底壁中央部及び両側壁
部に開口5,6,7が形成されている。この外板
3の底壁中央部に形成された開口5は外部より気
体の酸素8を強制的に送り込むためのもので、外
板3の両側壁に形成された開口6,7は上記酸素
8を流入によつて押し出される空気9の逃げ穴で
ある。
本発明の断熱箱の作成にあたつては、先ず最初
第1図に示す箱体1の開口5より空間4内に気体
の酸素8を供給していく。すると、最初は空間4
内には大気中の空気が充満されているが、酸素8
の流入によりその流入した分だけ空気が上部に押
しやられ、外板3の両側壁に形成された開口6,
7より外部に放出され、やがては上記空間4内が
純粋の酸素8で充満される。而して、上記空間4
内が完全に上記酸素8により充満されたことを何
等かの検知手段により検出した時、該空間4への
酸素8の供給を停止し、開口6,7を適当なシー
ル材で封緘すると共に、底部の開口5より活性酸
化鉄の如き脱酸素材10を投入し該開口5を適宣
シール材で封緘する。この状態で放置しておく
と、空間4内に充満された酸素8と脱酸素材10
との間に化学反応が生じ、やがては空間4から酸
素8がなくなり真空層が形成される。
尚、上記脱酸素材10の投入に際し、該脱酸素
材10と酸素8との化学反応を促進するために触
媒を添加することも可能である。
本発明は、以上の如く内板と外板とで形成され
る空間内の空気を酸素で置換し、その後上記空間
内に活性酸化鉄の如き脱酸素材を充填し密封して
真空断熱層を形成するようにしたものであるか
ら、従来のように真空ポンプ等を必要とせず、構
造簡単且つ安価に製作することができる他、シー
ルについても従来程作業が煩雑となることがない
〓〓〓〓〓
という顕著な効果を奏し得るものである。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は本発明の方法により製造さ
れる断熱箱体の製造工程図である。 2:内板、3:外板、4:空間、5,6,7:
開口、8:酸素、9:空気、10:脱酸素材。 〓〓〓〓〓

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 内板と外板とで形成される空間内の空気を酸
    素で置換し、その後上記空間内で活性酸化鉄の如
    き脱酸素材を充填し密封する事を特徴としてなる
    真空断熱層の製造方法。
JP55117901A 1980-08-26 1980-08-26 Production of vacuum heat insulating layer Granted JPS5743093A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP55117901A JPS5743093A (en) 1980-08-26 1980-08-26 Production of vacuum heat insulating layer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP55117901A JPS5743093A (en) 1980-08-26 1980-08-26 Production of vacuum heat insulating layer

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5743093A JPS5743093A (en) 1982-03-10
JPS6135436B2 true JPS6135436B2 (ja) 1986-08-13

Family

ID=14723001

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP55117901A Granted JPS5743093A (en) 1980-08-26 1980-08-26 Production of vacuum heat insulating layer

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5743093A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10971621B2 (en) 2019-02-19 2021-04-06 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10971621B2 (en) 2019-02-19 2021-04-06 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5743093A (en) 1982-03-10

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