JPS6134831A - イオン源装置 - Google Patents

イオン源装置

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Publication number
JPS6134831A
JPS6134831A JP15539384A JP15539384A JPS6134831A JP S6134831 A JPS6134831 A JP S6134831A JP 15539384 A JP15539384 A JP 15539384A JP 15539384 A JP15539384 A JP 15539384A JP S6134831 A JPS6134831 A JP S6134831A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
negative ion
electron beam
ion beam
magnetic field
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP15539384A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshihiro Obara
小原 祥裕
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Atomic Energy Agency
Original Assignee
Japan Atomic Energy Research Institute
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Filing date
Publication date
Application filed by Japan Atomic Energy Research Institute filed Critical Japan Atomic Energy Research Institute
Priority to JP15539384A priority Critical patent/JPS6134831A/ja
Publication of JPS6134831A publication Critical patent/JPS6134831A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J27/00Ion beam tubes
    • H01J27/02Ion sources; Ion guns
    • H01J27/028Negative ion sources

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (概要) 現在稼動中あるいは建設中の核融合実験装置のだめの中
性粒子入射加熱装置では水素圧イオン源が用いられてい
るが、将来の核融合装置では、入射水素ビームのエネル
ギーとしては数100 KeV以上が要求される。しか
しながら、水素の正イオンビームでは中性化効率が大幅
に低下するため正イオン源を用いることは事実上不可能
と考えられている。このため、将来の核融合装置用中性
粒子入射加熱装置では中性化効率の低下しない負イオン
ビームを用いることが有力視されており、そのための負
イオン源の開発が望まれている。
本発明は、将来の中性粒子入射加熱装置などに用いられ
る可能性のある高出力負イオン源に関するものであり、
電子ビーム引出しによる損失を減らし、高輝腿で不純物
の少ない負イオンビームを得るために考えられたもので
ある。さらに詳細に言えば、本発明は、負イオンビーム
とともに引出された、電子ビームを、負イオンビームの
ビーム光学を乱すことのない局所的な磁場によって偏向
させてエイ・ルギー回収電極に当て、電子ビームのエネ
ルギーを回収するとともに下流の加速部へ電子ビームが
流入することを防止する引出し部電極構造をもち、かつ
、下流の加速部においては、電子全偏向させるための磁
場により多少偏向された負イオンビームを加速電極孔の
径方向軸ずれにより補正し、さらに下流の加速部及び輸
送部においては、局所的な磁場と電極孔の径方向軸ずれ
によって生じる非軸対称な電場全周期的に配置すること
によって負イオンビーム中の不純物負イオンを除去する
電極構造をもったイオン@装置に関するものである。
(従来技術) 一般に負イオン源は、第1図(a)に示す様に、負イオ
ン生成部lと負イオンビーム発生部2に分けられ、負イ
オンビーム発生部はさらに引出し部3、加速部4及び輸
送部5より成る。特に直接引出し型負イオン源では、負
イオン生成部に多くの場合プラズマ状の電子が存在する
ため、負イオンを引出そうとすれば同時に負イオンビー
ム電流の数倍から数100倍もの電子を引出すことにな
り、この大量の電子をいかに処理し、かつ、輝度の優れ
た負イオンビームを発生するかは、現在の大きな問題と
なっている。このため、1つの方法として、第1図fa
lに示すように、引出し面に横磁場6を印加して電子の
引出しを抑制する方式がとられるが、この方式では負イ
オンビームもかなり偏向されるため7、下流の加速部、
輸送部の設計が難しくなる。又、引出し面近傍に捕捉さ
れた低速電子8の空間電荷により負イオンビームの軌道
も影響を受けやすいし、引出12面近傍の磁場は賀イオ
ン生成〆も影響を与える。又、第1図fblに示すよう
な引出し電極構造も現在用いられているが、数1 n 
rnA/ Ca以上の大きな電流密度をとるためには引
出し電圧を大きくしなければならず、この場合、電子ビ
ームの加速による損失が大きくなり、かつ、電極への熱
負荷も増大してし捷う9゜又、電子偏向用の磁場も引出
し面から十分離すことができないため、引出し面近傍に
かなシの残留磁場が生じてしまう・。一方、負イオンビ
ーム中の不純物イオンの処理に関してはいまだ十分考え
られていないのが現状である。
(目的) 本発明は上記の欠陥を改善して、電子ビームによる損失
を減らし、高輝度でかつ不納物を含まない負イオンビー
ムを得ることを目的としたものである。
(構成) 本発明の構成は、負イオンビーム発生部においては、引
出された電子ビームを偏向するための局所的な磁鴨ヲ発
生する電極及び、偏向された電子ビームのエネルギーを
回収するための回収電極を備え、下流の加速部において
は、磁場により偏向された負イオンビームの偏向角を補
正するための径方向に軸ずれした電極孔を備え、さらに
下流の加速部又は輸送部においては、不純物イオンビー
ムを分離するために局所的な磁場を発生する電極と径方
向に軸ずれした電極孔の組を1組又は複数組周期的に配
置されている。
(実施例) 本発明の実施例を第2図に示す。この場合、スロット状
の引出し電極孔が用いられており、(a)は正面図、(
b)は側面図である。本イオン源装置においては、まず
、負イオンと電子を磁場に乱されることなく一担は共に
収束されたビームとして引出し10、電子ビームの空間
電荷が負イオンの空間電荷に比べて無視できるまで約1
0〜20 KeVに加速する。この状態で磁石11に疋
り局所的に作られた磁場約200〜300 Gauss
によって電子ビームを偏向する。この時、磁石が引出し
面近傍に作る磁場は数Gauss以下になるように、磁
石は引出し面から十分離されて配置される。このため、
磁石の作る磁場は負イオン生成や負イオン引出しに影響
を与えることはない。偏向された電子ビーム12は、エ
ネルギー回収電極】3に印加された減速電界により減速
されながら、最終的には数Kev程度の低エネルギーで
回収電極に当り、残留エネルギーは熱となって回収電極
により除去される。回収電極の上流、下流側には回収電
極から放出される2次電子、後方散乱電子の放出を抑制
するための電子抑制電極14が配置される。一方、負イ
オンビームは電子ビームの非軸対称な空間電荷の影響を
ほとんど受けることなく、電子ビーム偏向用磁場により
わずかに偏向されて下流の加速部に達する15゜しかし
ながら、イオンビームの偏向は加速電極孔を径方向にず
らすことによりJ6、容易に補正される。
一方、酸素等の不純物負イオンは、さらに下流の加速部
及び輸送部において第3図に示すような電極構造を用い
ることにより除去することができる。すなわち、局所的
な磁場を発生するための磁石ti着した電極17及び径
方向に軸ずれした電極孔をもった電極18の組を]段又
は複数段周期的に配置し、両電極間19.20にはそれ
ぞれ加速電界、減速電界を印加する。電極孔の軸ずれ量
は、磁場の強さ、ビームエネルギー、電界強度、電極構
造寸法等によって決められる。電極17近傍で、水素負
イオンビームは磁場により偏向されるが、酸素等の質量
の大きい不純物イオンはほとんど偏向されない。電極1
8を通過すると、水素負イオンビームは非軸対称電界で
逆方向に偏向されて、ビーム軸が補正されるが、不純物
イオンビームはほとんど偏向されていないので、非軸対
称電界により逆方向に偏向されてしまう。このような過
程を複数回繰返すことにより、水素負イオンビームのビ
ーム光学をほとんど乱すことなく、不純物イオンビーム
のみ下流の電極に衝突して21、次第にビームから除去
されていく。
(効果) 上記のような負イオンビーム発生部電極構造を用いるこ
とにより、電子ビームによる電源出力の損失が減少し、
電子ビーム及び不純物イオンを含まない高輝度の負イオ
ンビーム22が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図にI)及び(blは、それぞれ従来の負イオンビ
ーム引出し部の概略図であって、電子ビーム及び負イオ
ンビームの流れを示す。第2図は本発明のイオン@装置
の一実施例の概略図であって、電子ビーム偏向のための
磁石配置、電子ビーム回収電極、及びビーム軸補正のた
めの加速電極孔の径方向軸ずれが示されている。第3図
には、加速部又□は輸送部において不純物イオンを除去
するための電極構成及び不純物イオンの流れが示されて
いる。 図において、 ]l・・・磁石を装着した電極 13・・エネルギー回収電極 16・・・電極孔の軸ずれ 17・・磁石を装着した電極 18・・・電極孔の軸ずれ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)負イオンビームと共に引出された電子ビームのエ
    ネルギーを回収すると同時に下流の加速部への電子ビー
    ムの漏洩を防止するために、負イオンビーム引出し部に
    、電子ビーム偏向用の局所的な磁場を発生する電極と、
    電子ビームのエネルギーを回収するための電極を配置す
    ることを特徴としたイオン源装置。
  2. (2)電子ビームを偏向させるために用いた磁場により
    偏向された負イオンビームの軸を補正するために、負イ
    オンビーム加速部にビーム軸と垂直方向に軸ずれした加
    速電極孔を配置することを特徴としたイオン源装置。
  3. (3)負イオンビーム中から不純物イオンを除去するた
    めに、負イオンビーム加速部又は負イオンビーム輸送部
    に、局所的な磁場を発生する電極及びビーム軸と垂直方
    向に軸ずれした電極孔の組を1段又は複数段周期的に配
    置することを特徴としたイオン源装置。
JP15539384A 1984-07-27 1984-07-27 イオン源装置 Pending JPS6134831A (ja)

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JP15539384A JPS6134831A (ja) 1984-07-27 1984-07-27 イオン源装置

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JP15539384A JPS6134831A (ja) 1984-07-27 1984-07-27 イオン源装置

Publications (1)

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JPS6134831A true JPS6134831A (ja) 1986-02-19

Family

ID=15604971

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JP15539384A Pending JPS6134831A (ja) 1984-07-27 1984-07-27 イオン源装置

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JP (1) JPS6134831A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4902647A (en) * 1988-10-21 1990-02-20 The United States Of American As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Surface modification using low energy ground state ion beams
JPH04144048A (ja) * 1990-10-05 1992-05-18 Nissin Electric Co Ltd イオン源

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4902647A (en) * 1988-10-21 1990-02-20 The United States Of American As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Surface modification using low energy ground state ion beams
JPH04144048A (ja) * 1990-10-05 1992-05-18 Nissin Electric Co Ltd イオン源

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