JPS6134178A - 真空処理装置 - Google Patents
真空処理装置Info
- Publication number
- JPS6134178A JPS6134178A JP15399284A JP15399284A JPS6134178A JP S6134178 A JPS6134178 A JP S6134178A JP 15399284 A JP15399284 A JP 15399284A JP 15399284 A JP15399284 A JP 15399284A JP S6134178 A JPS6134178 A JP S6134178A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- roller
- vacuum
- rollers
- chamber
- thin film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野１
本発明は真空槽内のローラ機構を真空槽外に設けた駆動
装置ぐ駆動するようになした真空処理装置に関し、更に
詳しくは、真空下でローラ機構により連続的に移動され
る可撓性フィルム、例えばポリエステルフィルムなとの
プラスチックシートやアルミ、ステンレスなとの金属ホ
イル上に薄膜を形成するのに好適な真空処理装置に関す
る。
装置ぐ駆動するようになした真空処理装置に関し、更に
詳しくは、真空下でローラ機構により連続的に移動され
る可撓性フィルム、例えばポリエステルフィルムなとの
プラスチックシートやアルミ、ステンレスなとの金属ホ
イル上に薄膜を形成するのに好適な真空処理装置に関す
る。
［従来技術］
上述の真空処理装置は、実開昭５７−５４５８号公報、
特公昭５９−１７１９２号公報、等で公知であり、磁気
記録媒体、導電性フィルム、太［ｉ池等の薄膜素子等の
製造装置として近年、特に注目されているものである。
特公昭５９−１７１９２号公報、等で公知であり、磁気
記録媒体、導電性フィルム、太［ｉ池等の薄膜素子等の
製造装置として近年、特に注目されているものである。
ところで、従来の真空処理装置においては、実開昭５７
−５４５８号公報の如く、ローラ機構の駆動ローラは真
空槽壁の１部をなす１枚のベースプレートに固定された
軸受にＪ、り支Ｊ！Ｊされ、軸受のハウジング内に設け
られたシール部月（こよってシールされ真空槽外に設置
された電動機ににつＣ回転を与えられていた。
−５４５８号公報の如く、ローラ機構の駆動ローラは真
空槽壁の１部をなす１枚のベースプレートに固定された
軸受にＪ、り支Ｊ！Ｊされ、軸受のハウジング内に設け
られたシール部月（こよってシールされ真空槽外に設置
された電動機ににつＣ回転を与えられていた。
この種の装置に用いられるシール材はＯリング。
オイルシール、ウィルソンシールであり、いずれの場合
にも潤滑剤として蒸気圧の低い油ま１＝はグ゛リスが使
用されている。かかる構造の装置ではシール部においで
圧力差によるリークガス及び前記の潤滑剤から発生する
ガスが薄膜堆積部に混入し、薄膜を汚染するという問題
があった。
にも潤滑剤として蒸気圧の低い油ま１＝はグ゛リスが使
用されている。かかる構造の装置ではシール部においで
圧力差によるリークガス及び前記の潤滑剤から発生する
ガスが薄膜堆積部に混入し、薄膜を汚染するという問題
があった。
また、可撓性フィルムを連続的に搬送させる装置では通
常、巻出ローラ、巻取ローラ、中間ローラ等多数のロー
ラからなるローラ移送機構を有しており、特にベースプ
レートだけで支持される片′持ローラの場合、圧力差に
よるベースプレートの撓みによってローラの平行度が悪
化し、フィルムが蛇行する問題がある。一方、この問題
を防止するために大気圧に耐えうる必要厚さの２倍以上
の厚さのベースプレートを用いる対策がとられるが、こ
の場合は装Ｕ仝体の重量が増加し、装置製作費も高価と
４ヱるという別の問題がある。
常、巻出ローラ、巻取ローラ、中間ローラ等多数のロー
ラからなるローラ移送機構を有しており、特にベースプ
レートだけで支持される片′持ローラの場合、圧力差に
よるベースプレートの撓みによってローラの平行度が悪
化し、フィルムが蛇行する問題がある。一方、この問題
を防止するために大気圧に耐えうる必要厚さの２倍以上
の厚さのベースプレートを用いる対策がとられるが、こ
の場合は装Ｕ仝体の重量が増加し、装置製作費も高価と
４ヱるという別の問題がある。
［発明の目的］
本発明は以上の事情を背景として為されＩＣものであり
、ローラを支持する部材の圧力差に起因する変形を低減
ｕしめることによってローラの平行度を紺持し、フィル
ムの蛇行、シワを防止すること第１の目的とし、軸シー
ル部分のリークガス及び潤滑剤から発生するガスが薄膜
を汚染するのを防止づ−ることを第２の目的とするもの
である。
、ローラを支持する部材の圧力差に起因する変形を低減
ｕしめることによってローラの平行度を紺持し、フィル
ムの蛇行、シワを防止すること第１の目的とし、軸シー
ル部分のリークガス及び潤滑剤から発生するガスが薄膜
を汚染するのを防止づ−ることを第２の目的とするもの
である。
［発明の構成及び作用］
上述の第１の目的は、以下の本発明により達成される。
すなわち本発明は、真空槽内のローラを真空槽外の駆動
装置により駆動するようになした真空処理装置において
、真空槽の槽壁とローラとの間に中間支持体を設けて中
間支持体によりローラ駆動軸を軸支する一方、ローラ駆
動軸の槽壁貫通部はシールｉｔｓによりシールしたこと
を特徴とする真空処理装置である。
装置により駆動するようになした真空処理装置において
、真空槽の槽壁とローラとの間に中間支持体を設けて中
間支持体によりローラ駆動軸を軸支する一方、ローラ駆
動軸の槽壁貫通部はシールｉｔｓによりシールしたこと
を特徴とする真空処理装置である。
そして、上述の本発明において、中間支持体を真空槽を
区画する中間壁とし、少なくともＯ−ラ駆動軸が貫通す
る槽壁に面する苗に排気装置を接続することにより、シ
ール機構からの発生ガスを効果的に除去でき、第２の目
的を達成することができる。更に中間壁で真空槽を独立
した各室に区画し、各室に排気装置を接続することによ
りシール機構からの発生ガスの膜への影響を完全に防止
することができる。
区画する中間壁とし、少なくともＯ−ラ駆動軸が貫通す
る槽壁に面する苗に排気装置を接続することにより、シ
ール機構からの発生ガスを効果的に除去でき、第２の目
的を達成することができる。更に中間壁で真空槽を独立
した各室に区画し、各室に排気装置を接続することによ
りシール機構からの発生ガスの膜への影響を完全に防止
することができる。
以下、上述の本発明の詳細を、真空蒸着装置を例に説明
する。第１図は実施例の真空蒸着装置の正面図、第２図
はそのＡ−Ａ’断面矢視図、第３図は、そのシール部の
詳細図、第４図は他の実施例の側断面図である。
する。第１図は実施例の真空蒸着装置の正面図、第２図
はそのＡ−Ａ’断面矢視図、第３図は、そのシール部の
詳細図、第４図は他の実施例の側断面図である。
図において、１は真空槽、２は基板となる可撓性フィル
ム、３は薄膜形成手段の蒸発源、１０は可撓性フィルム
を移送するローラ移送機構で、巻出ローラ１１．中間ロ
ーラ１２．蒸発源３と対面した薄膜形成手段 ーラ１４．及び巻取ローラ１５より構成される。すなわ
ち、基本構成は可撓性フィルム２を移送しつつ、その上
に目的の薄膜を連続的に形成する公知の連続蒸着装置と
同じ構成となっている。
ム、３は薄膜形成手段の蒸発源、１０は可撓性フィルム
を移送するローラ移送機構で、巻出ローラ１１．中間ロ
ーラ１２．蒸発源３と対面した薄膜形成手段 ーラ１４．及び巻取ローラ１５より構成される。すなわ
ち、基本構成は可撓性フィルム２を移送しつつ、その上
に目的の薄膜を連続的に形成する公知の連続蒸着装置と
同じ構成となっている。
ところで、所定速度で駆動される巻出ローラ１１゜支持
ローラド３９巻取ローラ１５の支持及び駆動は第２図に
示すように構成されている。
ローラド３９巻取ローラ１５の支持及び駆動は第２図に
示すように構成されている。
図において、２０はローラ移送機構を支持する中間支持
体で、真空槽１を蒸発源３を含む薄膜形成室１Ａと、各
ローラの駆動軸１１ａ 、 １３ａの槽壁１ａの貫通部
含むシール室１Ｂの独立した二室に完全に区画する中間
壁となしである。そして、ローラ駆動軸１１ａ 、 １
３ａは、中間支持体２０において、軸受４Ａ、４Ｂによ
り軸支し、又、第１．第２の中間ローラ１２．１４も図
示の通り回転自在に中間支持体２０に支持しである。す
なわち、ローラ移送機構１０の各ローラは中間支持体２
０にその平行度等の機械的位置関係を決定するように取
着しである。
体で、真空槽１を蒸発源３を含む薄膜形成室１Ａと、各
ローラの駆動軸１１ａ 、 １３ａの槽壁１ａの貫通部
含むシール室１Ｂの独立した二室に完全に区画する中間
壁となしである。そして、ローラ駆動軸１１ａ 、 １
３ａは、中間支持体２０において、軸受４Ａ、４Ｂによ
り軸支し、又、第１．第２の中間ローラ１２．１４も図
示の通り回転自在に中間支持体２０に支持しである。す
なわち、ローラ移送機構１０の各ローラは中間支持体２
０にその平行度等の機械的位置関係を決定するように取
着しである。
そして、ローラ移送機構１０の巻出ローラ１１．支持ロ
ーラ１３１巻取ローラ１５の駆動軸１１ａ 、 １３ａ
の真空槽１の槽壁１ａの貫通部は、シール機構５Ａ。
ーラ１３１巻取ローラ１５の駆動軸１１ａ 、 １３ａ
の真空槽１の槽壁１ａの貫通部は、シール機構５Ａ。
５Ｂのみとし、真空槽・外に設けた駆動装置の電動機６
Δ、６Ｂにより所定速麿で駆動するようになしである。
Δ、６Ｂにより所定速麿で駆動するようになしである。
なお、図示されていない巻取ローラ１５は巻出ローラ１
１と同じ構成となっている。
１と同じ構成となっている。
一方、真空槽１の排気は中間支持体２０で連通口のない
独立した室温側された薄膜形成室１へとシール室１Ｂの
各室に排気装置７Ａ、７Ｂを接続し、独立に排気して真
空を保持するようになしである。
独立した室温側された薄膜形成室１へとシール室１Ｂの
各室に排気装置７Ａ、７Ｂを接続し、独立に排気して真
空を保持するようになしである。
ところで、駆動軸のシール機構は第３図に示すように槽
壁１ａに取ｆ＝Ｊけられた軸シールハウジング５ａ内に
Ｏリング、Ａイルシール、ウィルソンシール等のシール
部材５１）が組込まれ、シール部１５ｂｑ［Ｉ−ラー軸
１１ａ 、 １３ａ 、 １５ａの接触面には潤滑剤と
して蒸気圧の低い油よｌこはグリスが塗布されている。
壁１ａに取ｆ＝Ｊけられた軸シールハウジング５ａ内に
Ｏリング、Ａイルシール、ウィルソンシール等のシール
部材５１）が組込まれ、シール部１５ｂｑ［Ｉ−ラー軸
１１ａ 、 １３ａ 、 １５ａの接触面には潤滑剤と
して蒸気圧の低い油よｌこはグリスが塗布されている。
このような軸シール（幾構Ｃは若工の人気のリーク及び
潤滑剤からのガスの発生があり当該リーク又は発生Ｊニ
スが薄膜１ｆｔ槓部に流入すれば薄膜中にガス成分が混
入し、薄膜が汚染され所望の薄ｌｉ９が得られない。
潤滑剤からのガスの発生があり当該リーク又は発生Ｊニ
スが薄膜１ｆｔ槓部に流入すれば薄膜中にガス成分が混
入し、薄膜が汚染され所望の薄ｌｉ９が得られない。
本発明では前述の通り、中間支持体（１５）によって真
空槽を軸シール４１）へ、５Ｂを含むシール室１Ｂと薄
膜１１１ｆａ部を含む薄膜形成室１Ａとの二室に分割し
、各々の至に独立の排気装置７△。
空槽を軸シール４１）へ、５Ｂを含むシール室１Ｂと薄
膜１１１ｆａ部を含む薄膜形成室１Ａとの二室に分割し
、各々の至に独立の排気装置７△。
７Ｂを接続して軸シール部のリークガス又は潤滑剤より
発４ｊりるガスが薄膜堆積部へ流入するのを防止してい
る。このとき、軸シール部を含むシール室ＩＢ＋７）ｆ
ｆ力が薄膜堆積部を含む薄膜形成室１Ａの圧力よりも低
いことが望ましいのは言うまでもない。
発４ｊりるガスが薄膜堆積部へ流入するのを防止してい
る。このとき、軸シール部を含むシール室ＩＢ＋７）ｆ
ｆ力が薄膜堆積部を含む薄膜形成室１Ａの圧力よりも低
いことが望ましいのは言うまでもない。
また第４図に示り−ように中間支持体２０にガスの通路
となる連通部２１を設け、シール室１Ｂに接続された排
気装置７Ｃのみで真空槽１全体を真空に保つ方法でも、
軸シール部のリークガス又は潤滑剤より発生Ｊるガスが
薄膜堆積部への流入することを防止できる。
となる連通部２１を設け、シール室１Ｂに接続された排
気装置７Ｃのみで真空槽１全体を真空に保つ方法でも、
軸シール部のリークガス又は潤滑剤より発生Ｊるガスが
薄膜堆積部への流入することを防止できる。
ところで上述の如ぎローラの駆動軸の支持を機械的位置
を決める軸支却と真空シールのシール部とに分前ＵＩｃ
ＩＭ造をとることによって、中間支持体２０には大気
圧という大きな圧力差による変形が発生せず、当該中間
支持体に支持されるローラの平行度が悪化せず、フィル
ムの蛇行、シワといつた問題が少なくなる。特に片持支
持のローラの場合に効果は顕著である。
を決める軸支却と真空シールのシール部とに分前ＵＩｃ
ＩＭ造をとることによって、中間支持体２０には大気
圧という大きな圧力差による変形が発生せず、当該中間
支持体に支持されるローラの平行度が悪化せず、フィル
ムの蛇行、シワといつた問題が少なくなる。特に片持支
持のローラの場合に効果は顕著である。
以上本発明を真空処理装置を例に説明したが、その他ス
パッタ装置、ＣＶ Ｄ装置等の真空薄膜形成装置には勿
論、真空熱処理装置等、本発明はｌ＜空槽の中にローラ
移送４ｍ構をイｊし、槽外の駆動装置で駆動するように
＜ｉ Ｌ／た真空処理装置を含むものであることはその
趣旨から明らかである。
パッタ装置、ＣＶ Ｄ装置等の真空薄膜形成装置には勿
論、真空熱処理装置等、本発明はｌ＜空槽の中にローラ
移送４ｍ構をイｊし、槽外の駆動装置で駆動するように
＜ｉ Ｌ／た真空処理装置を含むものであることはその
趣旨から明らかである。
また、中間支持体としく、薄膜形成賛同に好適な板体か
らなる中間壁構造どしたものを示したが、真空熱処理装
置等の如くシール部を区画づる必要がない場合は、Ｏ−
ラを機械的位置が安定固定できる軸支できるものであれ
ば良く、枠組体等でも良いことは云うまで−しない。
らなる中間壁構造どしたものを示したが、真空熱処理装
置等の如くシール部を区画づる必要がない場合は、Ｏ−
ラを機械的位置が安定固定できる軸支できるものであれ
ば良く、枠組体等でも良いことは云うまで−しない。
以上の通り本発明は種々の態様を含むもの（゛ある。
［発明の効果１
以上の通り本発明によれば、大気圧と真空の圧力差によ
るローラ支持体の変形を少くし、ローラムの蛇ｈ 、シ
ワを防止することができる真空処理装置が得られる。更
に、軸シール部のリークガス又は潤滑剤より発生ずるガ
スが薄膜堆積部へ流入し薄膜を汚染するのを防止できる
。このように本発明は、優れた作用効果を秦するもので
ある。
るローラ支持体の変形を少くし、ローラムの蛇ｈ 、シ
ワを防止することができる真空処理装置が得られる。更
に、軸シール部のリークガス又は潤滑剤より発生ずるガ
スが薄膜堆積部へ流入し薄膜を汚染するのを防止できる
。このように本発明は、優れた作用効果を秦するもので
ある。
第１図は、実施例の正面図、第２図は第１図のＡ 、−
Ａ ’断面矢視図、第３図は実施例のシール機構の説明
図、第４図は他の実施例の側断面図である。 １：真空槽 ２：可撓性フィルム ３；蒸発源 １０：ローラ移送機構２０：中間支持
体 ６Ａ、６Ｂ：電動機７１図 附Ｚ図 ７′３図 ７＋図
Ａ ’断面矢視図、第３図は実施例のシール機構の説明
図、第４図は他の実施例の側断面図である。 １：真空槽 ２：可撓性フィルム ３；蒸発源 １０：ローラ移送機構２０：中間支持
体 ６Ａ、６Ｂ：電動機７１図 附Ｚ図 ７′３図 ７＋図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、真空槽内のローラを真空槽外の駆動装置で駆動する
ようになした真空処理装置において、真空槽壁とローラ
との間に中間支持体を設けて中間支持体によりローラ駆
動軸を軸支する一方、ローラ駆動軸の真空槽壁の貫通部
はシール機構によりシールしたことを特徴とする真空処
理装置。 ２、前記中間支持体が真空槽を独立した室に区画する中
間隔壁であり、区画された各室に独立の排気装置を接続
した特許請求の範囲第１項記載の真空処理装置。 ３、前記中間支持体が真空槽を互いに連通した各室に区
画する中間隔壁であり、ローラ駆動軸の真空槽壁の貫通
部を有する室に排気装置を接続した特許請求の範囲第１
項記載の真空処理装置。 ４、ローラが存在する室に薄膜形成手段を有する特許請
求の範囲第２項若しくは第３項記載の真空処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15399284A JPS6134178A (ja) | 1984-07-26 | 1984-07-26 | 真空処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15399284A JPS6134178A (ja) | 1984-07-26 | 1984-07-26 | 真空処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6134178A true JPS6134178A (ja) | 1986-02-18 |
Family
ID=15574545
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15399284A Pending JPS6134178A (ja) | 1984-07-26 | 1984-07-26 | 真空処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6134178A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06240443A (ja) * | 1992-12-26 | 1994-08-30 | Sony Corp | 真空薄膜製造装置及びこれを用いた磁気記録媒体の製造方法 |
-
1984
- 1984-07-26 JP JP15399284A patent/JPS6134178A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06240443A (ja) * | 1992-12-26 | 1994-08-30 | Sony Corp | 真空薄膜製造装置及びこれを用いた磁気記録媒体の製造方法 |
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