JPS6133238A - グリコ−ルエ−テル生成の為のホルムアルデヒドアセタ−ルのデアルコキシヒドロキシメチル化用ルテニウム促進コバルト触媒 - Google Patents
グリコ−ルエ−テル生成の為のホルムアルデヒドアセタ−ルのデアルコキシヒドロキシメチル化用ルテニウム促進コバルト触媒Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明はアセタールのデアルコキシヒドロキシメチル化
に関する.より詳しくは本発明はある種のジアルキル、
ジシクロアルキル、又はジアリーノ←ホルムアルデヒド
アセタールを合成ガス、即ち水女及U一酸化度素で新規
なルテニウムカルボニル促進コバルトカルボニル触媒の
存在下で反応させ対応するエチレングリコールモノエー
テルを生成する上記のアセタールの新規なデアルコキシ
ヒドロキシメチル化方法に関するものである.更に詳し
くは、本発明は触媒それ自体及びその製造方法に関する
.本発明に記載されたメチクールは直1r加えられるか
又は対応するホルムアルデヒド及びアルコール前FA体
からその場で形成される。
に関する.より詳しくは本発明はある種のジアルキル、
ジシクロアルキル、又はジアリーノ←ホルムアルデヒド
アセタールを合成ガス、即ち水女及U一酸化度素で新規
なルテニウムカルボニル促進コバルトカルボニル触媒の
存在下で反応させ対応するエチレングリコールモノエー
テルを生成する上記のアセタールの新規なデアルコキシ
ヒドロキシメチル化方法に関するものである.更に詳し
くは、本発明は触媒それ自体及びその製造方法に関する
.本発明に記載されたメチクールは直1r加えられるか
又は対応するホルムアルデヒド及びアルコール前FA体
からその場で形成される。
本発明に記載されたグリコールエーテルは、例えばジエ
ツ)ffl科添加物、クリーナ、コーティング溶媒、あ
る種のシフタレート類の製造に於ける中間体などの種々
の用途を有する既知の化合物類を包含する。
ツ)ffl科添加物、クリーナ、コーティング溶媒、あ
る種のシフタレート類の製造に於ける中間体などの種々
の用途を有する既知の化合物類を包含する。
モノフル千ルエーテルなどのエチレングリコールモノエ
ーテルを製造する一つの現在良く知られた方法は、エチ
レンオキシドを種々の既知触媒系を使用して所属のアル
キルエーテルに対応するアルコールと反応させることか
らなる。別の方法としてはアルデヒド又はそれらのジア
ルキルアセタールを合成ガス即ち一酸化炭素、水素混合
物と反応させ対応するグリコールエーテルを生成するこ
ともこの技術に記載されている。従フて例えばエチレン
グリコールエーテルを蛾る方法は米国特許252579
3に記載されており、これは酸化コバルトを使用し、メ
チクールの合成ガスとの反応を触媒して反応混合物を与
え、これはニッケル上で水素添加の後、比較的非経済的
な25〜33%のオーダの変1☆$を与える。
ーテルを製造する一つの現在良く知られた方法は、エチ
レンオキシドを種々の既知触媒系を使用して所属のアル
キルエーテルに対応するアルコールと反応させることか
らなる。別の方法としてはアルデヒド又はそれらのジア
ルキルアセタールを合成ガス即ち一酸化炭素、水素混合
物と反応させ対応するグリコールエーテルを生成するこ
ともこの技術に記載されている。従フて例えばエチレン
グリコールエーテルを蛾る方法は米国特許252579
3に記載されており、これは酸化コバルトを使用し、メ
チクールの合成ガスとの反応を触媒して反応混合物を与
え、これはニッケル上で水素添加の後、比較的非経済的
な25〜33%のオーダの変1☆$を与える。
アルデヒド又はそれらのジアルキルアセタールからより
実際的な収率のグリコールエーテルを得る種々の試みが
なされた0反応速度及び生成物収率を改良させる努力の
なかで、種々のコバルト触媒とともに多くの促進剤が使
用されてきた。米国特許406289Bは例えばルテニ
ウムクロライド促進コバルトヨウ化物触媒を開示し、こ
れはホルムアルデヒドジメチルアセタール(メチクール
)をエチレングリコールモノメチルエーテル(EGMM
C)に1026以下の収率でヒドロカルボニル化する。
実際的な収率のグリコールエーテルを得る種々の試みが
なされた0反応速度及び生成物収率を改良させる努力の
なかで、種々のコバルト触媒とともに多くの促進剤が使
用されてきた。米国特許406289Bは例えばルテニ
ウムクロライド促進コバルトヨウ化物触媒を開示し、こ
れはホルムアルデヒドジメチルアセタール(メチクール
)をエチレングリコールモノメチルエーテル(EGMM
C)に1026以下の収率でヒドロカルボニル化する。
要する反応温度は20気圧又はそれ以上に於いて185
゜である、第二の方法は特許公開昭和56年83432
号(1981)に記載されており、これは溶媒としての
ベンゼン中でメチクールのコバルトカルボニル触媒され
たヒドロカルボニル化を促進するために実質的な量の2
.4.6・コリジン又は類似の芳香族アミンを使用する
。この方法でのメチクールの高度に加圧化された合成ガ
スとの反応は、190℃で10時間に於いて98%変換
率に於けるEG計ルへの44%の選択性な与えた。更に
ヨーロッパ特許出11iJjEP 34374(198
1)は3000 psig (210,9kg/cm
)の合成ガスと150と175℃の温度を使用するC
o(Ac)24H20触媒されたメテラールのヒドロカ
ルボニル化を促進する為にRuCl3 H2Dど共に
ヨウ素及びトリフェニル又はトリシクロヘキシルホスフ
ィンを使用して上記日本の特許と殆ど同じくらいの結果
を得ている。
゜である、第二の方法は特許公開昭和56年83432
号(1981)に記載されており、これは溶媒としての
ベンゼン中でメチクールのコバルトカルボニル触媒され
たヒドロカルボニル化を促進するために実質的な量の2
.4.6・コリジン又は類似の芳香族アミンを使用する
。この方法でのメチクールの高度に加圧化された合成ガ
スとの反応は、190℃で10時間に於いて98%変換
率に於けるEG計ルへの44%の選択性な与えた。更に
ヨーロッパ特許出11iJjEP 34374(198
1)は3000 psig (210,9kg/cm
)の合成ガスと150と175℃の温度を使用するC
o(Ac)24H20触媒されたメテラールのヒドロカ
ルボニル化を促進する為にRuCl3 H2Dど共に
ヨウ素及びトリフェニル又はトリシクロヘキシルホスフ
ィンを使用して上記日本の特許と殆ど同じくらいの結果
を得ている。
より最近ではクニフトンは■b族供与体配位子で促進さ
れたコバルトカルボニルがアルコール中でのアルデヒド
のヒドロカルボニル化を触媒し、エチレングリコールモ
ノエーテルを造ることを見いだしている(米国特許43
08403 ) 、 61%も高いエチレングリコール
モノブチルエーテル(EGMBE)の収=がこの特許に
り告されている。シクロペンタジェニル結合コバルト触
媒もこれらの反応に効果的であって、54%fy、出ま
でものグリコールエーテルを与えている(米国特許43
17963 ’I 。
れたコバルトカルボニルがアルコール中でのアルデヒド
のヒドロカルボニル化を触媒し、エチレングリコールモ
ノエーテルを造ることを見いだしている(米国特許43
08403 ) 、 61%も高いエチレングリコール
モノブチルエーテル(EGMBE)の収=がこの特許に
り告されている。シクロペンタジェニル結合コバルト触
媒もこれらの反応に効果的であって、54%fy、出ま
でものグリコールエーテルを与えている(米国特許43
17963 ’I 。
ボリニテレングリコールモノアルキルエーテルは一酸化
炭素及び水素の高圧混合物を7セクール又はアルデヒド
のいずれか、及びアルコールと、銘又はゲルマニウム含
有化合物で促進されたコバルト触媒を用いて接触するこ
とによって形成される(米国特許4356327 )
、 31%までのグリコールエーテルの収率がこの特許
で報告されている。エチレングリコールエーテルは又コ
バルトカルボニルの為の銭又はゲルマニウム促進剤を使
用してホルムアルデヒドアセタール又はホルムアルデヒ
ド及びアルコールからも形成される (米国特許435
7477 > 、この場合最も高いグリコールエーテル
収率(EにMBE)は53%である。
炭素及び水素の高圧混合物を7セクール又はアルデヒド
のいずれか、及びアルコールと、銘又はゲルマニウム含
有化合物で促進されたコバルト触媒を用いて接触するこ
とによって形成される(米国特許4356327 )
、 31%までのグリコールエーテルの収率がこの特許
で報告されている。エチレングリコールエーテルは又コ
バルトカルボニルの為の銭又はゲルマニウム促進剤を使
用してホルムアルデヒドアセタール又はホルムアルデヒ
ド及びアルコールからも形成される (米国特許435
7477 > 、この場合最も高いグリコールエーテル
収率(EにMBE)は53%である。
最後にプロピレングリコールモノアルキルエーテルは■
族の配位子系を付けているコバルトカルボニル又はコバ
ルト化合物のいずれかを促進する為にロジウム、ルテニ
ウム、又はニッケル化合物を使用するアセトアルデヒド
アセタール又はアセトアルデヒド及びアルコールのヒド
ロカルボニル化によフて形成される。28%迄のグリコ
ールエーテル収率がこれらの促進剤を使用したときに実
現した、クニフトン米国特許4390734(+983
) 。
族の配位子系を付けているコバルトカルボニル又はコバ
ルト化合物のいずれかを促進する為にロジウム、ルテニ
ウム、又はニッケル化合物を使用するアセトアルデヒド
アセタール又はアセトアルデヒド及びアルコールのヒド
ロカルボニル化によフて形成される。28%迄のグリコ
ールエーテル収率がこれらの促進剤を使用したときに実
現した、クニフトン米国特許4390734(+983
) 。
従ってアルデヒド又はアセタールのコバルト触媒された
ヒドロカルボニル化の為の種々の促進剤の使用はグリコ
ールエーテル生成物にもよるが10〜61%のグリコー
ルエーテル収率を生じた。最もゞ高い叩きされたEGM
MEの収率は44%、EGMBEのは61%、モしてE
GMEEは28%である。
ヒドロカルボニル化の為の種々の促進剤の使用はグリコ
ールエーテル生成物にもよるが10〜61%のグリコー
ルエーテル収率を生じた。最もゞ高い叩きされたEGM
MEの収率は44%、EGMBEのは61%、モしてE
GMEEは28%である。
本発明に従って、ある種のジアルキル、ジシクロアルキ
ル又はジアリールホルムアルデヒドアセタール又はそれ
らのホルムアルデヒドアルコール前駆体の合成ガスとの
、新規なルテニウムカルボニル促進コバルトカルボニル
触媒の存在下での反応により、対応するエチレングリコ
ールモノエーテルを生じる改良方法が提供される。この
反応はホルムアルデヒドのアルコールとの既知の方法に
よって別個に又はその場で生成するアセタールのデアル
コキシヒドロキシメチル化と記載されるのが最もよいが
、これは次の一般反応式によって表わされる。
ル又はジアリールホルムアルデヒドアセタール又はそれ
らのホルムアルデヒドアルコール前駆体の合成ガスとの
、新規なルテニウムカルボニル促進コバルトカルボニル
触媒の存在下での反応により、対応するエチレングリコ
ールモノエーテルを生じる改良方法が提供される。この
反応はホルムアルデヒドのアルコールとの既知の方法に
よって別個に又はその場で生成するアセタールのデアル
コキシヒドロキシメチル化と記載されるのが最もよいが
、これは次の一般反応式によって表わされる。
式中R1と R2は同じもの又は異なるものであり、−
緒に1又はそれ以上の以下の通りの橋かけ原子によって
結合され環状化合物を生成し得るものであるが、反応灸
件に対し不活性である任意の有機部分からなり、 (λ)1〜約20個の炭緊原子を有する直鎖又は分枝鎖
アルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、n−ブチル、t・ブチル、2−エチルヘキシル
、ドデシルなど、 (b)1〜20個の灰素原子を有する置換または非置換
シクロアルキル基、例えばシクロペンチル、シクロヘキ
シル、シクロへブチル、3−メチルシクロペンチル、3
−ブチルシクロヘキシル、シクロオクチル、アダマンチ
ル、デカリル、3−フェニルシクロヘプチルなと、及び (C)1〜約20個の炭紫原子を有する置換または非置
換アリール基、例えばベンジル、フェニル、ナフチル、
フルオロアントリル、テトラリル、トリル、エチルフェ
ニル、クミル、アニシル、クロロペンチルなどからなる
群から逗ばれる。
緒に1又はそれ以上の以下の通りの橋かけ原子によって
結合され環状化合物を生成し得るものであるが、反応灸
件に対し不活性である任意の有機部分からなり、 (λ)1〜約20個の炭緊原子を有する直鎖又は分枝鎖
アルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、n−ブチル、t・ブチル、2−エチルヘキシル
、ドデシルなど、 (b)1〜20個の灰素原子を有する置換または非置換
シクロアルキル基、例えばシクロペンチル、シクロヘキ
シル、シクロへブチル、3−メチルシクロペンチル、3
−ブチルシクロヘキシル、シクロオクチル、アダマンチ
ル、デカリル、3−フェニルシクロヘプチルなと、及び (C)1〜約20個の炭紫原子を有する置換または非置
換アリール基、例えばベンジル、フェニル、ナフチル、
フルオロアントリル、テトラリル、トリル、エチルフェ
ニル、クミル、アニシル、クロロペンチルなどからなる
群から逗ばれる。
上記の反応式に於いてR1とR2がことなるものである
ときは生じる生成物は実際にはヌジ応するエーテル及び
アルコールの混合物であることが理解される。
ときは生じる生成物は実際にはヌジ応するエーテル及び
アルコールの混合物であることが理解される。
本発明はまた新規なルテニウム促進コバルトカルボニル
触媒自体、及びその製法につき2荻されている。更に具
体倒に於いて、触媒として、式CO2Ru(CO)oの
ルテニウムカルボニル促進コバルトカルボニル金属クラ
スターからなる却載物を触媒として使用できることが更
に見いだされ、上記の式のものはロランド等、An4e
w、 Chem、1rrL、 Ed。
触媒自体、及びその製法につき2荻されている。更に具
体倒に於いて、触媒として、式CO2Ru(CO)oの
ルテニウムカルボニル促進コバルトカルボニル金属クラ
スターからなる却載物を触媒として使用できることが更
に見いだされ、上記の式のものはロランド等、An4e
w、 Chem、1rrL、 Ed。
εng1.20679(19B+)に開示される方法で
製造71、他のアセタールに由来するグリコールエーテ
ルの製造、例えば、ジェトキシメタン、シロイトキシメ
タン、ジェトキシエタンなどの他のアセタールに由来す
るグリコールエーテルの製造についても有用である。
製造71、他のアセタールに由来するグリコールエーテ
ルの製造、例えば、ジェトキシメタン、シロイトキシメ
タン、ジェトキシエタンなどの他のアセタールに由来す
るグリコールエーテルの製造についても有用である。
本発明の新規な触媒を使用するこの方法は先行技術の方
法よりも以下の改良点を与える。罪ち、本発明の触媒は
先行技術に開示されているようなヨウ素、アミン又はホ
スフィン促進剤の追加的な存在を必要としないので費用
がかからず、製造、回収がより容易であるという点であ
る。更にこれらの新規な触媒は先行技術のものより時間
及び温度のより温和な条件下で反応が実施され得るよう
にし、しかも最も驚くべきことにはコバルトカルボニル
単独の使用で得られるよりも所望生成物の優れた速度段
U’f5択性を与えることである。
法よりも以下の改良点を与える。罪ち、本発明の触媒は
先行技術に開示されているようなヨウ素、アミン又はホ
スフィン促進剤の追加的な存在を必要としないので費用
がかからず、製造、回収がより容易であるという点であ
る。更にこれらの新規な触媒は先行技術のものより時間
及び温度のより温和な条件下で反応が実施され得るよう
にし、しかも最も驚くべきことにはコバルトカルボニル
単独の使用で得られるよりも所望生成物の優れた速度段
U’f5択性を与えることである。
いろいろな方法で製造できる本発明の新規な均一触媒は
ルテニウムカルボニル促進ジコバルトオクタカルボニル
であって、より詳しくはトリルテニウムドデカカルボニ
ルジコバルトオクタカルボニル混合物である。この触媒
系は単にジコバルトオクタカルボニル(Co2 (CO
)a )を反応媒体中でルテニウムドデカカルボニル(
Ru3 (CO)12 )と混合することによって容易
にrA製される。これらの二つの成分のモル比は最適に
は約10:I〜1:10の範囲で、りアゴしくはキ勺5
:1〜1;5である。
ルテニウムカルボニル促進ジコバルトオクタカルボニル
であって、より詳しくはトリルテニウムドデカカルボニ
ルジコバルトオクタカルボニル混合物である。この触媒
系は単にジコバルトオクタカルボニル(Co2 (CO
)a )を反応媒体中でルテニウムドデカカルボニル(
Ru3 (CO)12 )と混合することによって容易
にrA製される。これらの二つの成分のモル比は最適に
は約10:I〜1:10の範囲で、りアゴしくはキ勺5
:1〜1;5である。
オニ発明に従ってM媒イd合物をヒl′ロキンメチル化
反応の完了にドしいて及り=奴体から沈殿ざゼたとき;
ここの物質は予W外にも速度及び迅択せにおいて最7刀
のルテニウムコバルトカルボニル混合物よりも優れた触
媒活性を有することが見いだされた。
反応の完了にドしいて及り=奴体から沈殿ざゼたとき;
ここの物質は予W外にも速度及び迅択せにおいて最7刀
のルテニウムコバルトカルボニル混合物よりも優れた触
媒活性を有することが見いだされた。
しかしこの活性は他の因子、例えば最?Dの5度、化学
、なとと共に沈殿が形成される速度に依存してUらか変
わることが見いだされた。従って、1クツえはルテニウ
ム及びコバルトカルボニル触媒が反応媒体にモル比Ml
で:ヱ合され、混合物がデアルコキシヒドロキシメチル
化に続いて溶液から1〜25日の期間析出させられたと
きには、生しる固体はメチクール合成ガス反応に導入さ
れたときにエチレングリコールモノエーテルに対する速
度及び選択性に関し、等しいか又は増加した活性を有し
ている。
、なとと共に沈殿が形成される速度に依存してUらか変
わることが見いだされた。従って、1クツえはルテニウ
ム及びコバルトカルボニル触媒が反応媒体にモル比Ml
で:ヱ合され、混合物がデアルコキシヒドロキシメチル
化に続いて溶液から1〜25日の期間析出させられたと
きには、生しる固体はメチクール合成ガス反応に導入さ
れたときにエチレングリコールモノエーテルに対する速
度及び選択性に関し、等しいか又は増加した活性を有し
ている。
同じく驚くべきことに、不活性有*溶媒、好ましくは塩
素化芳香族、例えばクロロベンゼン、0−ジクロロベン
ゼンなどの存在下で加圧された合成ガス下でルテニウム
及υコバル)・if1台物を1−5時間加舊ハすること
によつて、上記のように沈殿されたまりも更にまり話f
1のFtl: kVが7+; 、H,ねる、二とか見い
だされた。この混合物は冷il+するとオレンジ色の沈
殿を生じ、これはメテクールのデアルコキシヒトロキシ
メチル化に於いて触媒として使用したときに最初の触媒
混合物よりもエチレングリコールエーテルに対する速度
及び選択性におしビCがなりの改良を生じた9例えば、
ルテニウム及びコバルトカルボニルをモル比1:1て混
合し、クロロベンゼン中で約】50°Cに於イテ、〜3
000 psi(2]0.9にz/cm)の合成ガス下
で約3時間加熱し、改に冷却したときに生じる沈Vσは
メテクールデアルコキシメチル化反応に於いて増加した
触媒活性を有している。
素化芳香族、例えばクロロベンゼン、0−ジクロロベン
ゼンなどの存在下で加圧された合成ガス下でルテニウム
及υコバル)・if1台物を1−5時間加舊ハすること
によつて、上記のように沈殿されたまりも更にまり話f
1のFtl: kVが7+; 、H,ねる、二とか見い
だされた。この混合物は冷il+するとオレンジ色の沈
殿を生じ、これはメテクールのデアルコキシヒトロキシ
メチル化に於いて触媒として使用したときに最初の触媒
混合物よりもエチレングリコールエーテルに対する速度
及び選択性におしビCがなりの改良を生じた9例えば、
ルテニウム及びコバルトカルボニルをモル比1:1て混
合し、クロロベンゼン中で約】50°Cに於イテ、〜3
000 psi(2]0.9にz/cm)の合成ガス下
で約3時間加熱し、改に冷却したときに生じる沈Vσは
メテクールデアルコキシメチル化反応に於いて増加した
触媒活性を有している。
上記のその沈殿した形態をも含めて、本発明の新規なル
テニウムコバル!・カルボニル触媒iH台物を使用する
上に述べた合成ガスとのボルムアルデヒドアセタールデ
アルコキシヒドロキシメチル化反応は、新顔のアセター
ルが与えられた期間、高温および高圧下で合成ガスと反
応される既知の一般的に知られた方法で都合よく行ない
得るが、その期間反応混合物二よ動量的に捜はんされる
。水反応で、合成ガス中の水素に対する一酸化炭素のの
容量比は約1:3〜3:1の範囲で、より好ましくはl
:2〜2:1である。急速に冷5することに続き反応生
成物を改に決まりきったやり方で混合物から回収する。
テニウムコバル!・カルボニル触媒iH台物を使用する
上に述べた合成ガスとのボルムアルデヒドアセタールデ
アルコキシヒドロキシメチル化反応は、新顔のアセター
ルが与えられた期間、高温および高圧下で合成ガスと反
応される既知の一般的に知られた方法で都合よく行ない
得るが、その期間反応混合物二よ動量的に捜はんされる
。水反応で、合成ガス中の水素に対する一酸化炭素のの
容量比は約1:3〜3:1の範囲で、より好ましくはl
:2〜2:1である。急速に冷5することに続き反応生
成物を改に決まりきったやり方で混合物から回収する。
上記の先行技術の反応条件と対比して本発明の新規なル
テニウムコバルトカルボニル触媒は有利なことにはより
穏やかな運転条件の使用を可能とする。従フて約100
〜200℃そして好ましくは約125°〜175℃の礼
図の温度、約500〜5000 psi(35,]5−
351.5 kg/Cm )の圧力、及び好ましくは
約1000〜3000 psi(70,3・210.9
J/c襲 )の圧力を満足に使用する二とが出来る
。
テニウムコバルトカルボニル触媒は有利なことにはより
穏やかな運転条件の使用を可能とする。従フて約100
〜200℃そして好ましくは約125°〜175℃の礼
図の温度、約500〜5000 psi(35,]5−
351.5 kg/Cm )の圧力、及び好ましくは
約1000〜3000 psi(70,3・210.9
J/c襲 )の圧力を満足に使用する二とが出来る
。
使用するM媒混合物のアセタールエ量に対する工二比は
バッチ反応で、藍ましくは約 0.001〜0.1、そ
して好ましくは0.005〜0.05である。
バッチ反応で、藍ましくは約 0.001〜0.1、そ
して好ましくは0.005〜0.05である。
更に本発明の具体例に於いて本発明の触媒系との組合せ
に於ける溶媒の添加によってこのデアルコキシヒドロキ
シメチル化方法で高度に有利な効果が得られることが見
いだされた。
に於ける溶媒の添加によってこのデアルコキシヒドロキ
シメチル化方法で高度に有利な効果が得られることが見
いだされた。
有利に使用できる溶媒は反応の条件に不活性である任意
の極性又は非極性有機溶媒を含む、これらの溶媒に含ま
れるものには、C1〜C12アルコール類、好ましくは
ホルムアルデヒドアセタールのアルキル基に対応するも
の、例えばメタノール、エタノール、ブタノール、3−
エチル−2−ヘキサノールなど、反応の条件下て環装さ
れないエーテル類、例えばグライム、ジグライム、ジフ
ェニルエーテルなと、芳香族及び置換芳香族類、例えば
ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジク
ロロベンゼン、アニソールなと、である。
の極性又は非極性有機溶媒を含む、これらの溶媒に含ま
れるものには、C1〜C12アルコール類、好ましくは
ホルムアルデヒドアセタールのアルキル基に対応するも
の、例えばメタノール、エタノール、ブタノール、3−
エチル−2−ヘキサノールなど、反応の条件下て環装さ
れないエーテル類、例えばグライム、ジグライム、ジフ
ェニルエーテルなと、芳香族及び置換芳香族類、例えば
ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジク
ロロベンゼン、アニソールなと、である。
溶媒は反応混合物の0〜90容童%の範囲内のいずれか
の値をなし打抜しくは20〜80%である。
の値をなし打抜しくは20〜80%である。
本発明で使用するアセタール出発物質は上記の一般式、
EDち rj−に’ C)(2 \0− R2 をイiする0式中RI と R2は上に定義の通りで
ある。これらのアセタールは既知の方法で別個に又はそ
の場て製造てさる。9I]えばイー、ブイ、デームラブ
及びジュー。シュミット、テトラヘドロンレターズ(T
etrahedron Letters) 95−6頁
(1976)、ビー、ニス、パル及びエッチ、ダブリュ
、ビンニ・ンク1.1. Orz、 Chem、 V4
4(21ン3727−8()979)、ディー、ダブリ
ュー、ホール米国特許349235G 、1月27日(
1970年)に記載されるように、ホルムアルデヒ)の
一般式RI OH,又は+!201−1(式中R1と
R2はここても上記の定義の通り)アルコール又はアル
コール;昆合物との反応て対応するアセタールを造る。
EDち rj−に’ C)(2 \0− R2 をイiする0式中RI と R2は上に定義の通りで
ある。これらのアセタールは既知の方法で別個に又はそ
の場て製造てさる。9I]えばイー、ブイ、デームラブ
及びジュー。シュミット、テトラヘドロンレターズ(T
etrahedron Letters) 95−6頁
(1976)、ビー、ニス、パル及びエッチ、ダブリュ
、ビンニ・ンク1.1. Orz、 Chem、 V4
4(21ン3727−8()979)、ディー、ダブリ
ュー、ホール米国特許349235G 、1月27日(
1970年)に記載されるように、ホルムアルデヒ)の
一般式RI OH,又は+!201−1(式中R1と
R2はここても上記の定義の通り)アルコール又はアル
コール;昆合物との反応て対応するアセタールを造る。
以後アセタールを述べるときには対応する前駆体のホル
ムアルデヒド及び!!!まれるアルコールを含むと意図
していると1!l!解するべきである。
ムアルデヒド及び!!!まれるアルコールを含むと意図
していると1!l!解するべきである。
また上に述べたように生じるアセタールの有装置1fi
基は以下の様な六V、化合物を形成する】又はそれ以上
の棉か(ブ原子と一緒に1−30されEる。
基は以下の様な六V、化合物を形成する】又はそれ以上
の棉か(ブ原子と一緒に1−30されEる。
など0式中Xはアルキル、アラルキル、アリール、及び
シクロアルキル基であ)て、1〜20個の炭夕;原子を
有するものからなる群から迅ばれる。
シクロアルキル基であ)て、1〜20個の炭夕;原子を
有するものからなる群から迅ばれる。
アセタール出発物iqを迅ふにあたって、本発明のデア
ルコキシヒドロキシメチル化方法の条件下でこれが反応
性のあるどんな置換基も含有していないことが必須であ
る。言い換えればR1と R2基は例えばホスフィン、
アルシン、アミン、スルフィド、又はカルボニル基、ア
セタール部分又はオレフィン又はアセチレンニ1拮台な
どの反応性部分を含むか又は構成していないものである
へきである。他の似たような基は留まれるモノエーテル
以外の生/i3:物を生じるものとして生業者は:8め
f7るか容易に法定しtηるてあろう。
ルコキシヒドロキシメチル化方法の条件下でこれが反応
性のあるどんな置換基も含有していないことが必須であ
る。言い換えればR1と R2基は例えばホスフィン、
アルシン、アミン、スルフィド、又はカルボニル基、ア
セタール部分又はオレフィン又はアセチレンニ1拮台な
どの反応性部分を含むか又は構成していないものである
へきである。他の似たような基は留まれるモノエーテル
以外の生/i3:物を生じるものとして生業者は:8め
f7るか容易に法定しtηるてあろう。
未発明の方法に従ってこれらのアセタールが合成ガスと
デアルコキシヒドロキシメチル化されるどき二二対応す
るエチレングリコールモノエーテルが得られ、ここでエ
ーテル部分はアセタール出発物質の有纒部分に7づ応す
る。又より少量て形成されるものはアルコールR20H
とともに一般式%式% のト房ノアルコキシエタンである。これは迂加的なアセ
タール出発物質を形成する為に再循環できる。
デアルコキシヒドロキシメチル化されるどき二二対応す
るエチレングリコールモノエーテルが得られ、ここでエ
ーテル部分はアセタール出発物質の有纒部分に7づ応す
る。又より少量て形成されるものはアルコールR20H
とともに一般式%式% のト房ノアルコキシエタンである。これは迂加的なアセ
タール出発物質を形成する為に再循環できる。
上と同じにここでも、もしアセタールのR基が異なる場
合にはヌ1応する Rrt換化金化合物合物が生しる。
合にはヌ1応する Rrt換化金化合物合物が生しる。
以下に示すように、トリアルコキシ副生物以上の所望の
モノエーテルに対する選択性は約3:1から多くは10
:)又はそれ以上の比率である。
モノエーテルに対する選択性は約3:1から多くは10
:)又はそれ以上の比率である。
本発明の好ましい具体例に於いて出発物質は好まし・く
は R基が1〜4σの低級アルキルL℃で、I5る対称
的なアセタールであり、従フて対応するエチレングリコ
ールモノ低級アルキルエーテル、51Jえばモノメチル
エーテル、モノエチルエーテルなどを生成する。
は R基が1〜4σの低級アルキルL℃で、I5る対称
的なアセタールであり、従フて対応するエチレングリコ
ールモノ低級アルキルエーテル、51Jえばモノメチル
エーテル、モノエチルエーテルなどを生成する。
それ以外ζ;はアセタールはナフチル及びフェニルなど
のに1 及びR2基を含有することが出来る。
のに1 及びR2基を含有することが出来る。
ナフチルの場合には生じるホルムアルデヒドアセタール
の合成ガスとの反応は既知の鎮静剤である2−(2−ナ
フチルオキシ)エタノール’e L?供し、これは次に
酸化されて植物生長ホルモンである2・ナフチルオキシ
ミ¥酸とされる。
の合成ガスとの反応は既知の鎮静剤である2−(2−ナ
フチルオキシ)エタノール’e L?供し、これは次に
酸化されて植物生長ホルモンである2・ナフチルオキシ
ミ¥酸とされる。
同様にR+ 及びR2がフェニルであるアセタールのデ
アルコキシヒドロキシメチル化は局所的防腐剤である2
−フェノキシエタノールを製造し、これは酸化されたと
きには抗菌剤であるフェノ千シ酢酸を生じる。同様に
R1と R2が2.4.5− )リクロロフェニルであ
るホルムアルデヒドアセタールは本方法に従って除革剤
である2、4.5− トリクロロフェノキシ酢酸を生成
する。同様にR1ζR2がp−ノニルフェニルであると
きにはafi阻止剤であり、カッリン及び切削油中の消
泡剤であるp−ノニルフェノキシlff1ffがilG
られる。
アルコキシヒドロキシメチル化は局所的防腐剤である2
−フェノキシエタノールを製造し、これは酸化されたと
きには抗菌剤であるフェノ千シ酢酸を生じる。同様に
R1と R2が2.4.5− )リクロロフェニルであ
るホルムアルデヒドアセタールは本方法に従って除革剤
である2、4.5− トリクロロフェノキシ酢酸を生成
する。同様にR1ζR2がp−ノニルフェニルであると
きにはafi阻止剤であり、カッリン及び切削油中の消
泡剤であるp−ノニルフェノキシlff1ffがilG
られる。
これらの上記の生成物の各々はこの技術で良く知られた
方法で決まったやり方で生成できる。
方法で決まったやり方で生成できる。
本発明は次の実施例で説明されるが、これらに限定する
t区ではない。
t区ではない。
実j6例
実施例 1〜21
一連の実験を行なったが、Co2 (Co)s 及び
Ru3 (CO)12の漬金物、又は(対照目的のため
の)Co2 (Co)aのみを触媒として使い、次の一
般手順を用いた。以下の表に於いてRL13 (Co)
12の添加はCo2(CO)s Jli独で得られたよ
りグリコールエーテルBのより以上の生成の増大を生じ
たが他の金属カルボニルはそのような効果を有しなかっ
た。磁XWtはん器を協えた3001のステンレス鋼オ
ートクしブ中にメチクール、もしあるならば溶媒、及び
触媒を仕込んだ、−酸化炭素800 psis(56,
24kg/cm’、 )及U水素1600 psig
(112,5kg/cm” )を入れ、\応混合物を急
速に望む温度に加熱した。
Ru3 (CO)12の漬金物、又は(対照目的のため
の)Co2 (Co)aのみを触媒として使い、次の一
般手順を用いた。以下の表に於いてRL13 (Co)
12の添加はCo2(CO)s Jli独で得られたよ
りグリコールエーテルBのより以上の生成の増大を生じ
たが他の金属カルボニルはそのような効果を有しなかっ
た。磁XWtはん器を協えた3001のステンレス鋼オ
ートクしブ中にメチクール、もしあるならば溶媒、及び
触媒を仕込んだ、−酸化炭素800 psis(56,
24kg/cm’、 )及U水素1600 psig
(112,5kg/cm” )を入れ、\応混合物を急
速に望む温度に加熱した。
混合物をへてされた時開反応温度て撹はんし、その後に
反応器を水浴に浅l質シてc9却した。内容物力25℃
に達した時にrt後の圧力を記録した。ガスを排出の0
ち液体をGLPCで分析した。結果を以下の表1に慴告
する0反応条件、量及び溶媒の使用はこの表二二述べら
れたデータに従って変化した。
反応器を水浴に浅l質シてc9却した。内容物力25℃
に達した時にrt後の圧力を記録した。ガスを排出の0
ち液体をGLPCで分析した。結果を以下の表1に慴告
する0反応条件、量及び溶媒の使用はこの表二二述べら
れたデータに従って変化した。
−λ::;t!’A22−25
上の実験に加え、別の一連の実験を次の一般手1麺に+
+jい、)11の条件等を変えて実施したが、用いた触
媒j!:溶媒が存在する状態又は存在しない4ノ(j」
てCo−Ru触媒されたメチクールデアルコキシヒトロ
キシメチル化のイ′diαからイ太殿したものを使用し
て行なった。
+jい、)11の条件等を変えて実施したが、用いた触
媒j!:溶媒が存在する状態又は存在しない4ノ(j」
てCo−Ru触媒されたメチクールデアルコキシヒトロ
キシメチル化のイ′diαからイ太殿したものを使用し
て行なった。
Mu系及びメチクールを3001のオートフレア;こ仕
込み、系をCO及びH2で十分フラッシュした。1:1
のCo/H2混合物を2400 psig (168,
7にg7cm )の圧力に加え、温度を急、運に 1
50℃に上昇させた0反応混合物を指定された時間攪は
んし、次にコ、速に冷却し、圧力を開放してガスを集め
、gctnsで分析し、ζα体を除いて標準のにLPC
で分析した。
込み、系をCO及びH2で十分フラッシュした。1:1
のCo/H2混合物を2400 psig (168,
7にg7cm )の圧力に加え、温度を急、運に 1
50℃に上昇させた0反応混合物を指定された時間攪は
んし、次にコ、速に冷却し、圧力を開放してガスを集め
、gctnsで分析し、ζα体を除いて標準のにLPC
で分析した。
これらの実験の結果を以下の表2に報告する。
表2の実hr例23.24及U25の触媒は以下のよう
にして造った。
にして造った。
大h’f ?I 23M W
実施例23の触媒は実施例18の表1と同じ二つの′X
馴から回収されたiff体を数週間放置し、その後にオ
レンジ色固体を沈殿することによって:A製した。オレ
ンジ色固体ろ過の後、真空中で乾燥して赤外ここ特徴的
な金属カルボニルバンドを示す物質を得たが、これはC
o2 (CO)aでもRu3 (CO)12でもない、
車なされた固体の IR吸収バンドは4.83゜4.9
2及び4.98 uであった。出発Co2 (CO)e
(5,37U)の橋かけカルボニルは全く消失し、新
しい活性の舵体を形成している。この固体2.5gを実
施例23の触媒として使用した。
馴から回収されたiff体を数週間放置し、その後にオ
レンジ色固体を沈殿することによって:A製した。オレ
ンジ色固体ろ過の後、真空中で乾燥して赤外ここ特徴的
な金属カルボニルバンドを示す物質を得たが、これはC
o2 (CO)aでもRu3 (CO)12でもない、
車なされた固体の IR吸収バンドは4.83゜4.9
2及び4.98 uであった。出発Co2 (CO)e
(5,37U)の橋かけカルボニルは全く消失し、新
しい活性の舵体を形成している。この固体2.5gを実
施例23の触媒として使用した。
実施例24触媒
実施例24の触媒は実施例4表1と同じ二つの実験から
回収したiri体を数週間放置し、その後にオレンジ色
の固体を沈殿させて調製した。この固体2.08を真空
中でろ過、乾燥の後、実施例24の触媒として使用した
。単離されたこの固体は4.83゜4.92及び4.D
8uに特徴的な金属力ルボニルハン1゛を有していた。
回収したiri体を数週間放置し、その後にオレンジ色
の固体を沈殿させて調製した。この固体2.08を真空
中でろ過、乾燥の後、実施例24の触媒として使用した
。単離されたこの固体は4.83゜4.92及び4.D
8uに特徴的な金属力ルボニルハン1゛を有していた。
出発Co2 (CO)eの橋かけカルir′:ニルは完
/1≧Lこ消失していた。
/1≧Lこ消失していた。
実施例25触媒
実施タリ25の触媒は表2の脚注(C)に示されるよう
に調製した。単離したオレンジ色の固体は赤外吸収帯を
4.83 u、 4.92 u、そして金属カルボニル
錯体の印である4、97 uに有し、ここで5.37υ
の橋かけカルボニルの吸収帯はなかった。
に調製した。単離したオレンジ色の固体は赤外吸収帯を
4.83 u、 4.92 u、そして金属カルボニル
錯体の印である4、97 uに有し、ここで5.37υ
の橋かけカルボニルの吸収帯はなかった。
次の実施例26〜32に於いて実験を実施例 1〜25
と同じ方法で行なったが、ただジブトキシメタンをメチ
クールに代えて用い、溶媒及び温度を表3及び4に示す
ように変化させエチレングリコールモノブチルエーテル
を製造した。
と同じ方法で行なったが、ただジブトキシメタンをメチ
クールに代えて用い、溶媒及び温度を表3及び4に示す
ように変化させエチレングリコールモノブチルエーテル
を製造した。
実施例26〜29
実施例26〜29に於いて触媒としてCo2 (CO)
e及びBLI3 (CD)12の1:】混合物を使用し
、ホルムアルデヒドジブチルアセタール(CH2(OB
u)2)をエチレングリコールモノブチルエーテルEG
MBEにデアルコキシヒドロキシメチル化した0表3の
まとめた結果からn−ブチルアルコール又は0−ジクロ
ロベンゼンなどの溶媒中で反応を行なうと、純粋なCH
2(OBu)2に於ける反応を行なうよりも一般に優n
た収率を与えることがわかる。
e及びBLI3 (CD)12の1:】混合物を使用し
、ホルムアルデヒドジブチルアセタール(CH2(OB
u)2)をエチレングリコールモノブチルエーテルEG
MBEにデアルコキシヒドロキシメチル化した0表3の
まとめた結果からn−ブチルアルコール又は0−ジクロ
ロベンゼンなどの溶媒中で反応を行なうと、純粋なCH
2(OBu)2に於ける反応を行なうよりも一般に優n
た収率を与えることがわかる。
褒3に於いて実施例は次の一般手順に従って行なった。
ジコバルトオクタカルボニル 4ミリモル、トリルテニ
ウムドデカカルボニル 4ミリモル、C)12 (OB
LI)2を表に挙げた量で、そして8J媒を表ζこ芋げ
た量で300厘1の攪はんしたオートクレブに仕込み、
これここ3200 psi(225kg/cm2 )の
COとH2のl=1混合物を加え、次に150℃で3〜
4時間加熱した。オートクレブを冷却し、排圧して生成
物のffEjlを計り、塊準のガスクロマトグラフィ分
析にかけた。
ウムドデカカルボニル 4ミリモル、C)12 (OB
LI)2を表に挙げた量で、そして8J媒を表ζこ芋げ
た量で300厘1の攪はんしたオートクレブに仕込み、
これここ3200 psi(225kg/cm2 )の
COとH2のl=1混合物を加え、次に150℃で3〜
4時間加熱した。オートクレブを冷却し、排圧して生成
物のffEjlを計り、塊準のガスクロマトグラフィ分
析にかけた。
実施例30〜32
結果を表4まとめた実施rA30〜32に於いて反応温
度が125から175℃に上昇するに従い、EGMBE
収墨が12から34上がる。
度が125から175℃に上昇するに従い、EGMBE
収墨が12から34上がる。
表4に於いて実施例は次の一般手順に従フて行なフた。
ジコバルトオクタカルボニル4モル、トリルテニウムド
デカカルボニル4モル、CH2(OBu) 290■1
を3001のオートクレブに仕込んだ0次に3200p
si(225kg/cm2 )のCO/H21:I C
合物を加え、反2混合物を3〜41F?間表に挙げた温
度で加熱した。オートクレブを冷却し、排出して、生成
物の工さを計り、標準ガスクロマトグラフィ分析にかけ
た。
デカカルボニル4モル、CH2(OBu) 290■1
を3001のオートクレブに仕込んだ0次に3200p
si(225kg/cm2 )のCO/H21:I C
合物を加え、反2混合物を3〜41F?間表に挙げた温
度で加熱した。オートクレブを冷却し、排出して、生成
物の工さを計り、標準ガスクロマトグラフィ分析にかけ
た。
実施rA33
実施例31と同じような方法で、ただホルムアルデヒド
ジブチルアセタールの代わりにホルムアルデヒドジシク
ロへキシルアセタールを使用してエチレングリコールモ
ノシクロヘキシルエーテルを良好な収率でSl!!製し
た。
ジブチルアセタールの代わりにホルムアルデヒドジシク
ロへキシルアセタールを使用してエチレングリコールモ
ノシクロヘキシルエーテルを良好な収率でSl!!製し
た。
実施例34
実施f%31と同じような方法で、ただホルムアルデヒ
ドジブチルアセタールの代わりにホルムアルデヒドジフ
ェニルアセ・タールを使用してエチレングリニールモノ
フェニルエーテルを反応生成物として調製した。
ドジブチルアセタールの代わりにホルムアルデヒドジフ
ェニルアセ・タールを使用してエチレングリニールモノ
フェニルエーテルを反応生成物として調製した。
実施例35
実&!131と同じような方法で、ただホルムアルデヒ
ドジブチルアセタールの代わりにジオキソランを使用し
てジエチレングリコールを反応生成物としてrA製した
。
ドジブチルアセタールの代わりにジオキソランを使用し
てジエチレングリコールを反応生成物としてrA製した
。
実施例36〜43
90モルのブタノール及び101のトルエン中のおよそ
6gのバラホルムアルデヒド及び触媒パッケージを表5
に与えられた温度に、示された水素とCO圧力に於いて
2時間加熱した。この時間の後、反応t=金物をガスク
ロマトグラフィで分析し、主要な生成物がエチレングリ
コールモノブチルエーテルであることを示した。結果を
表5に示す。
6gのバラホルムアルデヒド及び触媒パッケージを表5
に与えられた温度に、示された水素とCO圧力に於いて
2時間加熱した。この時間の後、反応t=金物をガスク
ロマトグラフィで分析し、主要な生成物がエチレングリ
コールモノブチルエーテルであることを示した。結果を
表5に示す。
実施例44〜50
一運の実験を行なつたが次の一般手順を用い、触媒とし
てCo2 Ru(Co)++−並びに、Co2 (Co
)@とRu:l (C(+)12の混合物又はCo2
(CO)a !L独を比較目的の為に使眉した。
てCo2 Ru(Co)++−並びに、Co2 (Co
)@とRu:l (C(+)12の混合物又はCo2
(CO)a !L独を比較目的の為に使眉した。
磁気攪はん器を装備した3001のステンレス鋼オート
クレーブにメテクールZ媒及び触媒を仕込んだ、−酸化
炭素及び水素を入れ、反応混合物を3運に所望温度に加
熱した。混合物を指定された時間反応温度で撹はんし、
その後に反応器を水浴に浸漬することにより冷却した。
クレーブにメテクールZ媒及び触媒を仕込んだ、−酸化
炭素及び水素を入れ、反応混合物を3運に所望温度に加
熱した。混合物を指定された時間反応温度で撹はんし、
その後に反応器を水浴に浸漬することにより冷却した。
内容物が25℃に達したときに最終圧力を記録した。ガ
スを排出の後、ζα体をGLPCで分析した。
スを排出の後、ζα体をGLPCで分析した。
結果を以下の表6に報告する。特定の反応条件、量、及
び溶媒はこの褒の脚注(a)に記載する。
び溶媒はこの褒の脚注(a)に記載する。
実施例51
110 +glの播勤オートクレブに Co2 Ru(
Co)st(0,75ミリモル)、メテクール(70,
6ミリモル)及び0−ジクロロベンゼン(23,55g
)を仕込んだ。
Co)st(0,75ミリモル)、メテクール(70,
6ミリモル)及び0−ジクロロベンゼン(23,55g
)を仕込んだ。
十分【こl/2 (CO:)12 )合成ガスでフラシ
ュの後、800 psig(56,24にg/cm
)のCOを入れ、次に水素で全圧2400 psi3
(168,7にg/cts )にした、オートクレー
ブを150℃で3時間揺動し、次に冷却し生成物を除き
、標K GLPCで分析した。エチレングリコールモノ
メチルエーテルを高程率で得た。
ュの後、800 psig(56,24にg/cm
)のCOを入れ、次に水素で全圧2400 psi3
(168,7にg/cts )にした、オートクレー
ブを150℃で3時間揺動し、次に冷却し生成物を除き
、標K GLPCで分析した。エチレングリコールモノ
メチルエーテルを高程率で得た。
実施例52
実施例51の手順を使用するがメテクールに代えジェト
キシメタンを使い、エチレングリコールモノエチルエー
テルの高収率を得た。
キシメタンを使い、エチレングリコールモノエチルエー
テルの高収率を得た。
実施例53
実施例51の手順を使用するがメテクールに代えジアド
キシメタンを使い、エチレングリコールモノブチルエー
テルの極めて優れた収fSを得た。
キシメタンを使い、エチレングリコールモノブチルエー
テルの極めて優れた収fSを得た。
実施例54
0.4ミリモルのパラホルムアルデヒドを、モして0−
ジクロロベンゼンに代えて25 gのブタノールを使い
、良好な収率のエチレングリコールモノブチルエーテル
を得た。
ジクロロベンゼンに代えて25 gのブタノールを使い
、良好な収率のエチレングリコールモノブチルエーテル
を得た。
実施例55
実施例510手jlllを使用するがメチクールに代え
ジェトキシエタンを使うと、プロピレングリコールモノ
エチルエーテルが主要な反応生成物であ)た。
ジェトキシエタンを使うと、プロピレングリコールモノ
エチルエーテルが主要な反応生成物であ)た。
実施例56
1101の揺動オートクレブに Co2 Ru(CO)
11(0,75ミリモル)、メチクール(27ミリモル
)、ブタノール(18,5ml)及び内部標進としての
メシチレンを仕込んだ、 800 psigの一酸化炭
素を加え、水素を全圧3200 pSig (225k
g/cmりに加えた。
11(0,75ミリモル)、メチクール(27ミリモル
)、ブタノール(18,5ml)及び内部標進としての
メシチレンを仕込んだ、 800 psigの一酸化炭
素を加え、水素を全圧3200 pSig (225k
g/cmりに加えた。
混合物を150℃で6時間揺動し、冷却してj:A準G
しPCで分析した。エチレングリコールのモノブチルエ
ーテルが良好な収率で生成された。
しPCで分析した。エチレングリコールのモノブチルエ
ーテルが良好な収率で生成された。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中R^1とR^2は同じ又は異なるものであって、
1〜約20個の炭素原子を有するアルキル、シクロアル
キル、及びアリール部分からなる群から選ばれるか又は
R^1とR^2は一緒に環状アセタールを形成する]の
ホルムアルデヒドアセタールのデアルコキシヒドロキシ
メチル化方法に於いて、別個に形成されたか又はその場
で造られた上記アセタールをRu_3(CO)_1_2
で促進されたCo_2(CO)_8の混合物からなる触
媒として有効な量の触媒の存在下で合成ガスと反応させ
、対応するエチレングリコールモノエーテルを形成する
ことからなる方法。 2、触媒混合物のコバルトカルボニル成分のルテニウム
カルボニル成分に対するモル比が約10:1〜1:10
の範囲である特許請求の範囲第1項に記載の方法。 3、温度が約100〜200℃の範囲である特許請求の
範囲第1項に記載の方法。 4、圧力が約500〜5000psi(35.15−3
51.5kg/cm^2)の範囲である特許請求の範囲
第1項に記載の方法。 5、反応を不活性有機溶媒の存在下で実施する特許請求
の範囲第1項に記載の方法。 6、不活性有機溶媒が塩素化芳香族溶媒である特許請求
の範囲第5項に記載の方法。 7、塩素化芳香族溶媒がクロロベンゼンまたはジクロロ
ベンゼンである特許請求の範囲第6項に記載の方法。 8、R^1とR^2が1〜約20個の炭素原子を有する
アルキル基である特許請求の範囲第1項に記載の方法。 9、アルキル基が低級アルキル基である特許請求の範囲
第8項に記載の方法。 10、触媒のアセタールに対する重量比が約0.001
〜0.1の範囲である特許請求の範囲第1項に記載の方
法。 11、Ru_3(CO)_1_2で促進されたCo_2
(CO)_8の混合物からなるアセタールのデアルコキ
シヒドロキシメチル化用の触媒として有用な組成物。 12、触媒混合物のコバルトカルボニル成分のルテニウ
ムカルボニル成分に対するモル比が約10:1〜1:1
0の範囲である特許請求の範囲第11項に記載の組成物
。 13、Ru_3(CO)_1_2で促進されたCo_2
(CO)_8の混合物からなる触媒の存在下でホルムア
ルデヒドアセタールを合成ガスでデアルコキシメチル化
することによって形成される反応混合物からルテニウム
及びコバルトカルボニル錯体を沈殿させることによって
調製されるアセタールのデアルコキシヒドロキシメチル
化用触媒として有用な組成物。 14、沈殿された触媒のコバルトカルボニル成分のルテ
ニウムカルボニル成分に対するモル比が約10:1〜1
:10の範囲である特許請求の範囲第13項に記載の組
成物。 15、不活性有機溶媒及びRu_3(CO)_1_2で
促進されたCo_2(CO)_8の混合物からなる触媒
の存在下で、ホルムアルデヒドアセタールを合成ガスで
デアルコキシヒドロキシメチル化することによって形成
される反応混合物からルテニウム及びコバルトカルボニ
ル錯体を沈殿させることによって調製されるアセタール
のデアルコキシヒドロキシメチル化用の触媒として有用
な組成物。 16、沈殿された触媒のコバルトカルボニル成分のルテ
ニウムカルボニル成分に対するモル比が約10:1〜1
:10の範囲である特許請求の範囲第15項に記載の組
成物。 17、Co_2(CO)_8及びRu_3(CO)_1
_2の混合物を塩素化芳香族炭化水素中で高温及び高圧
に於いて合成ガスで処理することによって形成される反
応混合物からルテニウム及びコバルトカルボニル錯体を
沈殿させることによって調製されるアセタールのデアル
コキシヒドロキシメチル化用触媒として有用な組成物。 18、沈殿された触媒のコバルトカルボニル成分のルテ
ニウムカルボニル成分に対するモル比が約10:1〜1
:10の範囲である特許請求の範囲第17項に記載の組
成物。 19、アルデヒドアセタールのデアルコキシヒドロキシ
メチル化方法に於いて、別個に又はその場で造った上記
アセタールを、錯体CO_2Ru(CO)_1_1から
なる触媒として有用な量の触媒の存在下で合成ガスと反
応させ、対応するグリコールモノエーテルを形成するこ
とからなる方法。 20、温度が約100〜200℃の範囲である特許請求
の範囲第19項に記載の方法。 21、圧力が約500〜5000psi(35.15−
351.5kg/cm^2)の範囲である特許請求の範
囲第19項に記載の方法。 22、反応の不活性有機溶媒の存在下での実施を更に含
む特許請求の範囲第19項記載の方法。 23、不活性有機溶媒が塩素化芳香族溶媒である特許請
求の範囲第22項に記載の方法。 24、塩素化芳香族溶媒がクロロベンゼンまたはジクロ
ロベンゼンである特許請求の範囲第22項に記載の方法
。 25、触媒のアセタールに対する重量比が約0.001
〜0.1の範囲である特許請求の範囲第19項に記載の
方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US62281584A | 1984-06-21 | 1984-06-21 | |
US622815 | 1984-06-21 | ||
US622816 | 1984-06-21 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6133238A true JPS6133238A (ja) | 1986-02-17 |
Family
ID=24495620
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13444385A Pending JPS6133238A (ja) | 1984-06-21 | 1985-06-21 | グリコ−ルエ−テル生成の為のホルムアルデヒドアセタ−ルのデアルコキシヒドロキシメチル化用ルテニウム促進コバルト触媒 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6133238A (ja) |
CA (1) | CA1254190A (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8785697B2 (en) | 2011-06-24 | 2014-07-22 | Eastman Chemical Company | Nickel modified catalyst for the production of hydroxy ether hydrocarbons by vapor phase hydrogenolysis of cyclic acetals and ketals |
US9056313B2 (en) | 2011-06-24 | 2015-06-16 | Eastman Chemical Company | Catalysts for the production of hydroxy ether hydrocarbons by vapor phase hydrogenolysis of cyclic acetals and ketals |
US8829206B2 (en) | 2011-06-24 | 2014-09-09 | Eastman Chemical Company | Production of cyclic acetals or ketals using solid acid catalysts |
US8829207B2 (en) | 2011-06-24 | 2014-09-09 | Eastman Chemical Company | Production of cyclic acetals by reactive distillation |
US8969598B2 (en) | 2011-06-24 | 2015-03-03 | Eastman Chemical Company | Production of cyclic acetals or ketals using liquid-phase acid catalysts |
US9000229B2 (en) | 2011-06-24 | 2015-04-07 | Eastman Chemical Company | Production of hydroxy ether hydrocarbons by vapor phase hydrogenolysis of cyclic acetals and ketals |
US9388105B2 (en) | 2011-06-24 | 2016-07-12 | Eastman Chemical Company | Production of hydroxy ether hydrocarbons by liquid phase hydrogenolysis of cyclic acetals or cyclic ketals |
-
1985
- 1985-05-29 CA CA000482648A patent/CA1254190A/en not_active Expired
- 1985-06-21 JP JP13444385A patent/JPS6133238A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA1254190A (en) | 1989-05-16 |
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