JPS6131514Y2 - - Google Patents

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JPS6131514Y2
JPS6131514Y2 JP11193781U JP11193781U JPS6131514Y2 JP S6131514 Y2 JPS6131514 Y2 JP S6131514Y2 JP 11193781 U JP11193781 U JP 11193781U JP 11193781 U JP11193781 U JP 11193781U JP S6131514 Y2 JPS6131514 Y2 JP S6131514Y2
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JP
Japan
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oven
slits
microwaves
slit
rotating disk
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JP11193781U
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JPS5817797U (ja
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  • Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】
本考案は、食品を加熱調理する高周波加熱装置
に係り、特にマイクロ波を励振する半径方向のス
リツトを形成した回転円板が設置された高周波加
熱装置に関する。 一般に、食品を加熱調理する誘電加熱方式の高
周波加熱装置は、第1図および第2図において、
マイクロ波を発振するマグネトロン1にマイクロ
波を導く導波管2の一端3が接続され、この導波
管2の他端4はオーブン5の天井面6に設けられ
た円形の開口7の上に設置された空洞箱8へ開口
している。上記天井面6に設けられた上記円形の
開口7には、その開口の輪郭と適当なマイクロ波
励作用の間隙9を保持して水平に回転円板10が
設置されていてこの回転円板10は電動機11等
により上記回転円板10の垂直軸を中心として回
転する。上記オーブン5内の上部、即ち上記回転
円板10の下にはオーブン5内の調理される食品
12から出る水蒸気や煙をしや断する低誘電体か
らなる仕切板13が設けられ、上記オーブン5内
の下部には調理する食品12を載せる棚板14を
備えている。そして、前記回転板10には、マイ
クロ波を励振する複数本の半径方向のスリツト1
5が形成されている。なお、上記回転円板10
は、低誘電体からなる円板16にスリツト15を
残して4個の金属板17,17……を取付けてい
る。食品12の調理に当つては、マグネトロン1
から発振されたマイクロ波は導波管2を通つて空
洞箱8に入り、回転している上記回転円板10の
マイクロ波励振用スリツト15,15……よりオ
ーブン5内へマイクロ波が放射されて食品12を
加熱調理する。 上記に示す構成の高周波加熱装置において、従
来はオーブン5の天井面6に設けられた円形の開
口7に、その開口の輪郭と適当なマイクロ波励振
用の間隙9を保持して設置された回転板10には
第3図に示すように、上記回転円板10の半径方
向にスリツト幅Aが全て等しい4本のマイクロ波
励振用スリツト15,15……が十字状に形成さ
れていた。そのため、食品12の調理に当つて
は、上記円板10のスリツト15から常に同じよ
うなマイクロ波がオーブン5内へ放射されるの
で、放射されるマイクロ波に半径方向のむらがあ
ると、食品12の加熱温度が不均一になる欠点が
あつた。また、常に同じようなマイクロ波が放射
されることによつて無負荷時のインピーダンスの
変化も少なくなり電界集中が生じ易い等の欠点も
あつた。 本考案は、上記の欠点を除去し、オーブン内の
食品の加熱温度を均一にすることを目的としてな
されたもので、マイクロ波を励振するスリツト
は、スリツト幅の異なるものを併設してなるもの
である。 以下、本考案を図面に示す実施例により説明す
る。 本考案の一実施例は前記第1図および第2図に
示す構成の高周波加熱装置において、オーブン1
5の天井面6に設けられた円形の開口7に、その
開口の輪郭と適当なマイクロ波励振用の間隙9を
保持して回転円板10が設置されている。更に、
第4図において、低誘電体の円板16に4個の金
属板17,17……を取付けることによつて上記
回転円板10に半径方向の4本のマイクロ波励振
用スリツト15,15b,15bおよび15bが
十字状に形成され、上記4本のスリツトの中の1
本のスリツト15のスリツト幅Aが他のスリツト
15b,15bおよび15bのスリツト幅Bより
大きく形成されている。 前述した構成によれば、上記回転円板10に形
成された上記半径方向の複数本のスリツトのスリ
ツト幅が2種類以上になつているので、幅の大き
いスリツトからはマイクロ波がオーブン15内に
多く放射され、また、幅の小さいスリツトからは
マイクロ波がオーブン15内に少なく放射され
る。そのため、変化に富んだマイクロ波がオーブ
ン15内へ放射されるので放射されるマイクロ波
に半径方向のむらが生じないからオーブン15内
の食品の加熱温度が均一になる。また、常に変化
するマイクロ波が放射されることによつて無負荷
時のインピーダンスの変化が多くなり電界集中が
生じない等の効果がある。 本考案の他の実施例は、前記第1図および第2
図に示す構成の高周波加熱装置において、回転円
板10には、第5図に示すように、低誘電体の円
板16に4個の金属板17,17……を取付ける
ことによつて、上記回転円板10の半径方向に4
本のマイクロ波励振用スリツト15,15および
15bが形成されている。そして、上記4本のス
リツトが隣り合うスリツト一本毎に大きいスリツ
ト幅Aのスリツト15および15と小さいスリツ
ト幅Bのスリツト15bおよび15bとに配列さ
れている。 更に、本考案の他の実施例は、第1図および第
2図に示す構成の高周波加熱装置において、回転
円板10には、第6図に示すように、低誘電体の
円板16に4個の金属板17,17……を取付け
ることによつて、上記回転円板10の半径方向に
4本のマイクロ波励振用スリツト15,15b,
15cおよび15dが十字状形成されている。そ
して上記4本の各々のスリツトのスリツト幅が互
いに他のスリツトのスリツト幅と異なるように、
例えばスリツト15のスリツト幅Aが互いに他の
スリツト15b,15cおよび15dのスリツト
幅B,CおよびDと異なるように形成されてい
る。 なお、上記オーブン5内の加熱温度分布を従来
例と本考案の実施例とについて比較測定した。第
7図におい、負荷として5個のビーカ18,18
……に水を300c.c.ずつ満たし、オーブン内の棚板
14の上に並べ、マイクロ波を2分30秒放射した
ときの各ビーカ18,18……内の水の温度上昇
を測定し、温度分布率は式(1)により計算した。 温度分布率が低い値ほど食品の均一加熱が良い
ことを示している。 温度分布率=最大温度上昇値−最小温度上昇値/平均
温度上昇値 ×100% ……(1) その結果は表1に示す通りであつて、本考案は
加熱温度分布を改善する効果が大きいことが証明
された。
【表】 以上説明したように、本考案に係る高周波加熱
装置は、回転円板に形成された半径方向の複数本
のスリツト幅を異にしているので、オーブン内の
食品の加熱温度を均一にすることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は一般の高周波加熱装置の
構成を示す断面図および平面図、第3図は従来の
回転円板の平面図、第4図、第5図および第6図
はそれぜぞれ本考案の高周波加熱装置に用いられ
る回転円板の実施例を示す平面図、第7図はオー
ブン内の温度分布測定の説明図である。 1……マグネトロン、2……導波管、5……オ
ーブン、6……オーブンの天井面、7……円形の
開口、8……空洞箱、10……回転円板、13…
…仕切板、15,15′,15″および15……
マイクロ波励振用スリツト、16……低誘電体の
円板、17……金属板、18……ビーカ。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. マグネトロンで発振したマイクロ波を導波管で
    空洞箱へ導き、この空洞箱からオーブン内へ導入
    するマイクロ波を励振させるため、その半径方向
    に複数本のスリツトが形成された回転板を上記オ
    ーブンの天井面に設置してなる高周波加熱装置に
    おいて、上記回転円板に形成された上記半径方向
    の複数本のスリツトは、スリツト幅の異なるもの
    を併設してなることを特徴とする高周波加熱装
    置。
JP11193781U 1981-07-28 1981-07-28 高周波加熱装置 Granted JPS5817797U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11193781U JPS5817797U (ja) 1981-07-28 1981-07-28 高周波加熱装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11193781U JPS5817797U (ja) 1981-07-28 1981-07-28 高周波加熱装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5817797U JPS5817797U (ja) 1983-02-03
JPS6131514Y2 true JPS6131514Y2 (ja) 1986-09-12

Family

ID=29906280

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11193781U Granted JPS5817797U (ja) 1981-07-28 1981-07-28 高周波加熱装置

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JP (1) JPS5817797U (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6088497U (ja) * 1983-11-24 1985-06-18 株式会社東芝 高周波加熱調理装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5817797U (ja) 1983-02-03

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