JPS6130706A - 光ビ−ム位置確認装置 - Google Patents
光ビ−ム位置確認装置Info
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- JPS6130706A JPS6130706A JP15356084A JP15356084A JPS6130706A JP S6130706 A JPS6130706 A JP S6130706A JP 15356084 A JP15356084 A JP 15356084A JP 15356084 A JP15356084 A JP 15356084A JP S6130706 A JPS6130706 A JP S6130706A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D5/00—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
- G01D5/26—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Radiography Using Non-Light Waves (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、光ビーム位置確認装置に関する。さらに詳し
くは、光ビームがある所定の基準部材に対して特定の位
置を通過しているか否かあるいはその特定の位置に入射
しているか否かを確認するための装置に関する。
くは、光ビームがある所定の基準部材に対して特定の位
置を通過しているか否かあるいはその特定の位置に入射
しているか否かを確認するための装置に関する。
(発明の技術的背景および従来技術)
ある種の螢光体に放射線(X線、α線、β線、γ線、紫
外線等)を照射すると、この放射線エネルギーの一部が
螢光体中に蓄積され、この螢光体に可視光等の励起光を
照射すると、蓄積されたエネルギーに応じて螢光体が輝
尽発光を示すことが知られており、このような性質を示
す螢光体は蓄積性螢光体と呼ばれる。
外線等)を照射すると、この放射線エネルギーの一部が
螢光体中に蓄積され、この螢光体に可視光等の励起光を
照射すると、蓄積されたエネルギーに応じて螢光体が輝
尽発光を示すことが知られており、このような性質を示
す螢光体は蓄積性螢光体と呼ばれる。
この蓄積性螢光体を利用して、人体等の被写体の放射線
画像情報を−Hシート上に設けられた蓄積性螢光体に記
録し、この蓄積性螢光体シートをレーザ光等の励起光で
走査して輝尽発光光を生ぜしめ、得られた輝尽発光光を
光電的に読み取って画像信号を得、この画像信号に基づ
き被写体の放。
画像情報を−Hシート上に設けられた蓄積性螢光体に記
録し、この蓄積性螢光体シートをレーザ光等の励起光で
走査して輝尽発光光を生ぜしめ、得られた輝尽発光光を
光電的に読み取って画像信号を得、この画像信号に基づ
き被写体の放。
射線画像を写真感光材料等の記録材料、C,RT等に可
視像として出力させる放射線画像情報記録再生システム
が本出願人によりすでに提案されている。(特開昭55
−12429号、同56−11395号など。) この様な放射線画像情報記録再生システムにおいては、
放射線画像情報が蓄積記録された蓄積性螢光体シートを
レーザ光等の励起光で走査して輝尽発光光を生ぜしめ、
得られた輝尽発光光を光電的に読み取るのに、たとえば
第5図に示す様な読取装置が使用されている。
視像として出力させる放射線画像情報記録再生システム
が本出願人によりすでに提案されている。(特開昭55
−12429号、同56−11395号など。) この様な放射線画像情報記録再生システムにおいては、
放射線画像情報が蓄積記録された蓄積性螢光体シートを
レーザ光等の励起光で走査して輝尽発光光を生ぜしめ、
得られた輝尽発光光を光電的に読み取るのに、たとえば
第5図に示す様な読取装置が使用されている。
図示の装置においては、励起光源1から励起光2が発せ
られ、この励起光2はビーム・エクスパンダ−3により
ど一ム径の大きさが厳密に調整され、ガルバノミラ−等
の光偏向器4によって平面反射鏡5を介して蓄積性螢光
体シート10上に、矢印へ方向に直線的に偏向せしめら
れて入射する。
られ、この励起光2はビーム・エクスパンダ−3により
ど一ム径の大きさが厳密に調整され、ガルバノミラ−等
の光偏向器4によって平面反射鏡5を介して蓄積性螢光
体シート10上に、矢印へ方向に直線的に偏向せしめら
れて入射する。
光偏向器4と平面反射鏡5との間にはfθレンズ6が配
され、これによりシート10上を励起光2が均一なビー
ム径を有して等速走査されるようになっている。シート
10は例えば矢印Bの方向に移送せしめられて副走査が
なされ、その結果シート10の全面にわたって励起光が
照射せしめられる。かように励起光2が照射せしめられ
ると、シート10は蓄積記録されている放射線エネルギ
ーに比例する光量の輝尽発光光を発し、この発光光
′は集光ガイド(導光性シート)8に入射し、集
光ガイド8の内部を全反射しながら光検出器9に向かっ
て導かれ、該検出器9によって光電的に読み取られる。
され、これによりシート10上を励起光2が均一なビー
ム径を有して等速走査されるようになっている。シート
10は例えば矢印Bの方向に移送せしめられて副走査が
なされ、その結果シート10の全面にわたって励起光が
照射せしめられる。かように励起光2が照射せしめられ
ると、シート10は蓄積記録されている放射線エネルギ
ーに比例する光量の輝尽発光光を発し、この発光光
′は集光ガイド(導光性シート)8に入射し、集
光ガイド8の内部を全反射しながら光検出器9に向かっ
て導かれ、該検出器9によって光電的に読み取られる。
上記の如き読取装置には、一般に、励起光走査によりシ
ート10から発せられる輝尽発光光の集光効率を向上さ
せて良質な画像を得るため、図示の如き集光ミラー16
が設けられている。この集光ミラー16は、シート10
上の励起光の走査線に対して集光ガイド8とは反対側に
配設され、励起光走査により発せられる輝尽発光光のう
ち集光ガイド8とは反対側に向かう光を集光ガイド8に
向けて反射させるものであり、集光ミラーの反射面16
aは第5図を矢印C方向から見た第6図に示す様に、反
射面16aに対しである特定の位置から発せられる輝尽
発光光20を集光ガイドの端面8aに向けて反射させる
ような形状に設計されている。
ート10から発せられる輝尽発光光の集光効率を向上さ
せて良質な画像を得るため、図示の如き集光ミラー16
が設けられている。この集光ミラー16は、シート10
上の励起光の走査線に対して集光ガイド8とは反対側に
配設され、励起光走査により発せられる輝尽発光光のう
ち集光ガイド8とは反対側に向かう光を集光ガイド8に
向けて反射させるものであり、集光ミラーの反射面16
aは第5図を矢印C方向から見た第6図に示す様に、反
射面16aに対しである特定の位置から発せられる輝尽
発光光20を集光ガイドの端面8aに向けて反射させる
ような形状に設計されている。
従って、輝尽発光光20は集光ミラー16に対しである
特定の位置から発せられる必要があり、そのためには励
起光ご一ム2を集光ミラー16に対して上記特定の位置
に入射させあるいはそこに入射させるために集光ミラー
16に対しである特定の位置を通過させる必要がある。
特定の位置から発せられる必要があり、そのためには励
起光ご一ム2を集光ミラー16に対して上記特定の位置
に入射させあるいはそこに入射させるために集光ミラー
16に対しである特定の位置を通過させる必要がある。
従って、この様な読取装置の組立調整およびメンテナン
ス時には励起光ビームが集光ミラー16に対しである特
定の位置を通過あるいはある特定の位置に入射している
か否かを確認し、通過あるいは入射していない場合は読
取装置の調整を行なう必要がある。
ス時には励起光ビームが集光ミラー16に対しである特
定の位置を通過あるいはある特定の位置に入射している
か否かを確認し、通過あるいは入射していない場合は読
取装置の調整を行なう必要がある。
(発明の目的)
本発明の目的は、上記事情に鑑み、光ビームが前述の集
光ミラーの如きある所定の基準部材に対して特定の位置
を通過しているあるいは特定の位置に入射しているか否
かを極めて簡単に確認することのできる光ビーム位置確
認装置を提供することにある。
光ミラーの如きある所定の基準部材に対して特定の位置
を通過しているあるいは特定の位置に入射しているか否
かを極めて簡単に確認することのできる光ビーム位置確
認装置を提供することにある。
(発明の構成)
本発明に係る光ビーム位置確認装置は、上記目的を達成
するため、遮光性マスクを備えた装置本体と、その遮光
性マスクに形成した光ビームが通過可能なスリットと、
このスリットを光ビームが通過した場合その通過光ビー
ムを検出する光検出手段とを備えて成り、上記装置本体
には例えば上記集光ミラーの如き所定の基準部材に当接
させる当接基準面を形成し、この当接基準面を所定基準
部材に当接させることによってスリットを所定基準部材
に対して特定の位置に位置決めし、上記光検出手段によ
って光を検出することができたか否かによって、上記光
ビームが上記所定基準部材に対して特定の位置(上記ス
リットの位置)を通過しているかあるいはその特定の位
置に入射しているか否かを確認することができるように
したことを特徴とする。
するため、遮光性マスクを備えた装置本体と、その遮光
性マスクに形成した光ビームが通過可能なスリットと、
このスリットを光ビームが通過した場合その通過光ビー
ムを検出する光検出手段とを備えて成り、上記装置本体
には例えば上記集光ミラーの如き所定の基準部材に当接
させる当接基準面を形成し、この当接基準面を所定基準
部材に当接させることによってスリットを所定基準部材
に対して特定の位置に位置決めし、上記光検出手段によ
って光を検出することができたか否かによって、上記光
ビームが上記所定基準部材に対して特定の位置(上記ス
リットの位置)を通過しているかあるいはその特定の位
置に入射しているか否かを確認することができるように
したことを特徴とする。
(実施態様)
以下、図面に示す実施態様を参照しながら、本発明の詳
細な説明する。
細な説明する。
第1図は本発明に係る装置の一実施態様であって、前述
の走査用励起光ビームの位置確認用として構成したもの
を示す斜視図、第2図は第1図に示す装置の■−■線断
面図であって、装置本体の当接基準面を所定基準部材で
ある集光ミラーに当接させた状態を示す図である。
の走査用励起光ビームの位置確認用として構成したもの
を示す斜視図、第2図は第1図に示す装置の■−■線断
面図であって、装置本体の当接基準面を所定基準部材で
ある集光ミラーに当接させた状態を示す図である。
図示の如く、本発明に係る装置は、遮光性マスク11を
備えた装置本体12と、遮光性マスク11に形成された
光ビーム13を通過させるスリット14と、該スリット
14を通過した上記光ビーム13を検出する光検出手段
15とを備えて成り、上記装置本体12には、上記スリ
ット14を所定基準部材16としての集光ミラーに対し
て特定の位置に位置決めするためにその所定基準部材1
6に当接させる当接基準面12aが形成されている。
備えた装置本体12と、遮光性マスク11に形成された
光ビーム13を通過させるスリット14と、該スリット
14を通過した上記光ビーム13を検出する光検出手段
15とを備えて成り、上記装置本体12には、上記スリ
ット14を所定基準部材16としての集光ミラーに対し
て特定の位置に位置決めするためにその所定基準部材1
6に当接させる当接基準面12aが形成されている。
上記遮光性マスク11を備えた装置本体12(ま、通常
遮光性マスク11と該マスク11を支持する支持体11
aとで構成される。遮光性マスク11は光ビームを遮ぎ
ることができるものであれば良く、以下に述べるスリッ
ト14の周辺を遮光し、光ビームがスリット14を通過
した時のみ光検出手段15が光を検出するようにするた
めのものである。本実施態様では、支持体11aを直方
体形状の透明ガラス体により構成し、遮光性マスク11
を、このガラス体の上面に不透明塗料等を塗布して形成
した遮光層により形成しである。
遮光性マスク11と該マスク11を支持する支持体11
aとで構成される。遮光性マスク11は光ビームを遮ぎ
ることができるものであれば良く、以下に述べるスリッ
ト14の周辺を遮光し、光ビームがスリット14を通過
した時のみ光検出手段15が光を検出するようにするた
めのものである。本実施態様では、支持体11aを直方
体形状の透明ガラス体により構成し、遮光性マスク11
を、このガラス体の上面に不透明塗料等を塗布して形成
した遮光層により形成しである。
上記スリット14は、光ビームを通過させることができ
るものであれば良く、当接基準面12aとの関係におい
て光ビームが通過あるいは入射すべき特定位置に形成さ
れ、従ってスリット14は確認しようとする光ビームの
移動軌跡に対応した形状を有する。また、スリット14
の大きさく幅)は光ビームの大きさと光ビーム位置の誤
差許容範囲等に基づいて定められる。本実施態様では、
光ビームはガルバノメータミラーによって直線的に振ら
れるので、スリット14は直線形状をなし、かつ光ビー
ムの径が約100μであることに対応してスリット幅t
は20’Oμになっている。このスリット14は、例え
ば上記遮光層をエツチング処理することにより形成され
る。
るものであれば良く、当接基準面12aとの関係におい
て光ビームが通過あるいは入射すべき特定位置に形成さ
れ、従ってスリット14は確認しようとする光ビームの
移動軌跡に対応した形状を有する。また、スリット14
の大きさく幅)は光ビームの大きさと光ビーム位置の誤
差許容範囲等に基づいて定められる。本実施態様では、
光ビームはガルバノメータミラーによって直線的に振ら
れるので、スリット14は直線形状をなし、かつ光ビー
ムの径が約100μであることに対応してスリット幅t
は20’Oμになっている。このスリット14は、例え
ば上記遮光層をエツチング処理することにより形成され
る。
上記光検出手段15は、上記スリット14を光ど一ム1
3が通過した場合その光ビームをあるいはその光ビーム
の反射光を検出するものであり、光ビーム13がスリッ
ト14の位置からずれている場合は上記遮光性マスク1
4によって光ビーム13は遮ぎられ、本光検出手段15
によって光を検出することができないように構成されて
いる。
3が通過した場合その光ビームをあるいはその光ビーム
の反射光を検出するものであり、光ビーム13がスリッ
ト14の位置からずれている場合は上記遮光性マスク1
4によって光ビーム13は遮ぎられ、本光検出手段15
によって光を検出することができないように構成されて
いる。
本実施態様においては、光検出手段15はガラス体11
aの下面に配設した散乱板16と遮光性マスクに形成し
たのぞき用光透過スリット17とで構成されている。光
ビーム13がスリット14を通過した場合は、光ビーム
13がガラス体11aを通って散乱板16により乱反射
するので、こののぞき用スリット17をのぞき込むとガ
ラス体11a内が明るく見え、それによって光ビーム1
3がスリット14を通過したことを確認することができ
る。もちろん、通過しない場合は内部が暗くみえるので
それにより通過していないことを確認できる。また、光
ビーム13がスリット14に沿って移動して途中からス
リット14を通過しなくなった場合はその途中からガラ
ス体り1a内部が暗くなり、その旨を確認できる。上記
のぞき用スリット17は人間の眼を介して判断するもの
であるが、こののぞき用スリット17の代わりにフォト
ダイオード等の受光素子18により電気信号を介して検
出するようにしても良い。
aの下面に配設した散乱板16と遮光性マスクに形成し
たのぞき用光透過スリット17とで構成されている。光
ビーム13がスリット14を通過した場合は、光ビーム
13がガラス体11aを通って散乱板16により乱反射
するので、こののぞき用スリット17をのぞき込むとガ
ラス体11a内が明るく見え、それによって光ビーム1
3がスリット14を通過したことを確認することができ
る。もちろん、通過しない場合は内部が暗くみえるので
それにより通過していないことを確認できる。また、光
ビーム13がスリット14に沿って移動して途中からス
リット14を通過しなくなった場合はその途中からガラ
ス体り1a内部が暗くなり、その旨を確認できる。上記
のぞき用スリット17は人間の眼を介して判断するもの
であるが、こののぞき用スリット17の代わりにフォト
ダイオード等の受光素子18により電気信号を介して検
出するようにしても良い。
上記当接基準面12aは、スリット14を所定基準部材
16に対して特定の位置に位置決めするためにその所定
基準部材に当接させるものであり、上記装置本体12に
形成される。この当接基準面12aを所定基準部材16
に当接させると必然的にスリット14の位置が所定基準
部材16に対して特定の位置に位置決めされる。従って
、この当接基準面12aとスリット14との位置関係は
、所定基準部材16と所望の光ビーム通過位置との関係
に対応して、極めて厳格に規定されるものである。本実
1MM様においては、この当接基準面12aを、図示の
如く遮光性マスク支持体としてのガラス体1iaの長手
方向側面の全長域にわたって形成し、これを所定基準部
材としての集光ミラー16の先端面に当接させである。
16に対して特定の位置に位置決めするためにその所定
基準部材に当接させるものであり、上記装置本体12に
形成される。この当接基準面12aを所定基準部材16
に当接させると必然的にスリット14の位置が所定基準
部材16に対して特定の位置に位置決めされる。従って
、この当接基準面12aとスリット14との位置関係は
、所定基準部材16と所望の光ビーム通過位置との関係
に対応して、極めて厳格に規定されるものである。本実
1MM様においては、この当接基準面12aを、図示の
如く遮光性マスク支持体としてのガラス体1iaの長手
方向側面の全長域にわたって形成し、これを所定基準部
材としての集光ミラー16の先端面に当接させである。
第3図は他の実施態様の断面図である。図示のものは、
遮光性マスク11として薄い透明基板の表面に遮光層を
塗布形成し、この遮光層にスリットを形成したものを用
い、この遮光性マスクを内部が空胴の上面開口箱体から
成る支持体11aで支持して成るものであり、光検出手
段15を箱体の底面に形成した光散乱層16とのぞき用
スリット17とで構成し、人間の目で検出するようにし
たものである。なお、この光検出手段15はスリット1
4の下面に直接配設したフォトダイオード等の受光素子
18であっても良く、あるいは前述の散乱層16と、の
ぞき用スリット17と、のぞき用スリット17の上面に
配設した受光素子18とで構成されたものでも良い。受
光素子を用いれば、通過光量を電気的に゛かつ定量的に
検出することができる。
遮光性マスク11として薄い透明基板の表面に遮光層を
塗布形成し、この遮光層にスリットを形成したものを用
い、この遮光性マスクを内部が空胴の上面開口箱体から
成る支持体11aで支持して成るものであり、光検出手
段15を箱体の底面に形成した光散乱層16とのぞき用
スリット17とで構成し、人間の目で検出するようにし
たものである。なお、この光検出手段15はスリット1
4の下面に直接配設したフォトダイオード等の受光素子
18であっても良く、あるいは前述の散乱層16と、の
ぞき用スリット17と、のぞき用スリット17の上面に
配設した受光素子18とで構成されたものでも良い。受
光素子を用いれば、通過光量を電気的に゛かつ定量的に
検出することができる。
第4図はさらに他の実施態様を示す断面図であり、図示
のものは第3図と同様に形成された遮光性マスク11を
有し、この遮光性マスク11を断面り字形の支持体11
aで支持し、遮光性マ、スフ11に形成されたスリット
14の下側に受光素子18を配設したものである。
のものは第3図と同様に形成された遮光性マスク11を
有し、この遮光性マスク11を断面り字形の支持体11
aで支持し、遮光性マ、スフ11に形成されたスリット
14の下側に受光素子18を配設したものである。
なお、第2図あるいは第3図の実施態様においては、光
散乱層16の代りに光反1)IBや螢光体層を使用する
ことも可能である。
散乱層16の代りに光反1)IBや螢光体層を使用する
ことも可能である。
また、上記実施態様においては所定基準部材16として
集光ミラーが選定されているが、光ビーム入射位置は集
光ガイド端面8aに対してもある特定の位置にあること
が望ましいので、それを確認する場合は当然に所定基準
部材16として集光ガイド端面8aを選定し、これに当
接基準面12aを当接させるように構成すれば良い。
集光ミラーが選定されているが、光ビーム入射位置は集
光ガイド端面8aに対してもある特定の位置にあること
が望ましいので、それを確認する場合は当然に所定基準
部材16として集光ガイド端面8aを選定し、これに当
接基準面12aを当接させるように構成すれば良い。
(発明の効果)
本発明に係る光ビーム位置確認装置は、上述の様に、遮
光性マスクに光ビームを通過させるスリットを形成し、
当接基準面を所定の基準部材に当接させることによって
上記スリットを上記所定基準部材に対して特定の位置に
位置させ、このスリットを光ビームが通過した場合はそ
の通過光ビームを光検出手段によって検出し得る様に構
成されている。
光性マスクに光ビームを通過させるスリットを形成し、
当接基準面を所定の基準部材に当接させることによって
上記スリットを上記所定基準部材に対して特定の位置に
位置させ、このスリットを光ビームが通過した場合はそ
の通過光ビームを光検出手段によって検出し得る様に構
成されている。
従って、本発明に係る装置によれば、光ビームが上記ス
リットを通過したか否かを光検出手段によって検知する
ことができ、それにより光ビームが上記スリットの存在
する位置、即ち所定基準部材に対しである特定の位置を
通過又はその特定の位置に入射しているか否かを容易に
確認することができる。
リットを通過したか否かを光検出手段によって検知する
ことができ、それにより光ビームが上記スリットの存在
する位置、即ち所定基準部材に対しである特定の位置を
通過又はその特定の位置に入射しているか否かを容易に
確認することができる。
また、この確認作業は装置の当接基準面を所定基準部材
に当接させて光検出手段により光が検出されたか否かを
判断するだけである。従って、本装置を用いれば誰でも
極めて簡単に、かつ正確に確認作業を行なうことができ
る。
に当接させて光検出手段により光が検出されたか否かを
判断するだけである。従って、本装置を用いれば誰でも
極めて簡単に、かつ正確に確認作業を行なうことができ
る。
また、本発明に係る確認装置は、前述の如き蓄積性螢光
体シートを走査する励起光ビームの位置確認に用いた場
合、走査線の位置出しや直線性を極めて簡単に確認でき
、放射線画像情報記録再生装置が病院等納入されている
場合等においてもその納入先で簡単に使用できるのでメ
ンテナンス時等に極めて便利である等の効果を奏する。
体シートを走査する励起光ビームの位置確認に用いた場
合、走査線の位置出しや直線性を極めて簡単に確認でき
、放射線画像情報記録再生装置が病院等納入されている
場合等においてもその納入先で簡単に使用できるのでメ
ンテナンス時等に極めて便利である等の効果を奏する。
なお、本装置により光ビームが所定基準部材に対して特
定の位置を通過あるいは特定の位置に入射していないこ
とが確認されたときは、本装置によってスリット通過光
ビームを検出することができる様に所定基準部材や光ビ
ームの位置を調整することにより、光ビームと所定基準
部材とを特定の位置関係にあるように調整することがで
きる。
定の位置を通過あるいは特定の位置に入射していないこ
とが確認されたときは、本装置によってスリット通過光
ビームを検出することができる様に所定基準部材や光ビ
ームの位置を調整することにより、光ビームと所定基準
部材とを特定の位置関係にあるように調整することがで
きる。
第1図は本発明に係る装置の一実M態様を示す斜視図、
第2図は第1図におけるIr−IT線断面図、第3図は
他の実施態様を示す第2図と同様の断面図、第4図はさ
らに他の実施態様を示す第2図と同様の断面図、第5図
は本発明に係る装置の使用対象の一つである走査用光ビ
ームを示す斜視図、第6図は第5図の一部を矢印0方向
から見た図である。 11・・・遮光性マスク 12・・・装置本体12
a・・・当接基準面 13・・・光ど−ム14・・
・スリット 15・・・光検出手段16・・・
所定基準部材 第1図 ■0 第2図
第2図は第1図におけるIr−IT線断面図、第3図は
他の実施態様を示す第2図と同様の断面図、第4図はさ
らに他の実施態様を示す第2図と同様の断面図、第5図
は本発明に係る装置の使用対象の一つである走査用光ビ
ームを示す斜視図、第6図は第5図の一部を矢印0方向
から見た図である。 11・・・遮光性マスク 12・・・装置本体12
a・・・当接基準面 13・・・光ど−ム14・・
・スリット 15・・・光検出手段16・・・
所定基準部材 第1図 ■0 第2図
Claims (1)
- 遮光性マスクを備えた装置本体と、上記遮光性マスクに
形成された光ビームを通過させるスリットと、該スリッ
トを通過した上記光ビームを検出する光検出手段とを備
えて成り、上記装置本体には、上記スリットを所定基準
部材に対して特定の位置に位置決めするために上記所定
基準部材に当接させる当接基準面が形成されていること
を特徴とする光ビーム位置確認装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15356084A JPS6130706A (ja) | 1984-07-24 | 1984-07-24 | 光ビ−ム位置確認装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15356084A JPS6130706A (ja) | 1984-07-24 | 1984-07-24 | 光ビ−ム位置確認装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6130706A true JPS6130706A (ja) | 1986-02-13 |
Family
ID=15565162
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15356084A Pending JPS6130706A (ja) | 1984-07-24 | 1984-07-24 | 光ビ−ム位置確認装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6130706A (ja) |
-
1984
- 1984-07-24 JP JP15356084A patent/JPS6130706A/ja active Pending
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