JPS61294794A - 高周波加熱装置 - Google Patents

高周波加熱装置

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Publication number
JPS61294794A
JPS61294794A JP13732385A JP13732385A JPS61294794A JP S61294794 A JPS61294794 A JP S61294794A JP 13732385 A JP13732385 A JP 13732385A JP 13732385 A JP13732385 A JP 13732385A JP S61294794 A JPS61294794 A JP S61294794A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heating chamber
opening
waveguide
rotating waveguide
side excitation
Prior art date
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Pending
Application number
JP13732385A
Other languages
English (en)
Inventor
五十嵐 隆次
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP13732385A priority Critical patent/JPS61294794A/ja
Publication of JPS61294794A publication Critical patent/JPS61294794A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
  • Electric Ovens (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は高周波加熱装置にかかり、特に加熱室内に回
転導波管を設けた高周波加熱装置の改善に関する。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
電子レンジ(高周波加熱装置)にあっては、加熱室内に
回転導波管を設置し、回転導波管から、加熱室内にマイ
クロ波(高周波)を照射して、調理物(被加熱物)を効
果的に加熱するようにしたものがある。
こうした、マイクロ波の照射技術には、従来、第3図お
よび第4図に示すようなものが用いられていた。すなわ
ち、加熱室aの壁部に、導波管すに゛連通する加熱室側
励振口Cを設け、この加熱室側   ′励振開口C1,
:臨ませて、器状に構成した回転導波管dを設け、この
回転導波管dを加熱室aの外部に配したモータe′に連
結した構造を用い、マグネトロンfから発振されたマイ
クロ波(高周波)を加熱室側励振開口C1回転する回転
導波管dを通じ、回転導波管dの励振開口Qから加熱室
a内へ照射していた。
ところで、こうした器状の回転導波管dを用いてマイク
ロ波(高周波)を照射する構造は、回転導波管dを回転
させる上で、どうしても加熱yaの壁部と回転導波管d
の開口端との間に隙間ができる事情にある。このため、
加熱室側励振開口すが隙間に臨み、加熱室側励振開口3
から出射されたマイクロ波が、隙間から、かなりリーク
する問題をもつ。こうした電波リークは、回転導波管d
の励振開口Qからの照射が充分でなくなるために調理物
(被加熱物)hの加熱むらが生じやすい不具合をもち、
改善が要望されている。
〔発明の目的〕
この発明はこのような問題点に着目してなされることが
できる高周波加熱装置を提供することにある。
〔発明の概要〕
すなわち、この発明は加熱室の壁部に設けた加熱室側励
振開口の開口端部を回転導波管内に臨ませることにより
、高周波を回転導波管の内部へ積極的に導いて、加熱室
側励振開口から隙間へ漏れる高周波を少なくすることに
ある。
〔発明の実施例〕
以下、この発明を第1図および第2図に示す一実施例に
もとづいて説明する。第2図はこの発明を適用した高周
波加熱装置、たとえば電子レンジを示し、1は本体、2
はその本体1内に配設された加熱室、3はその加熱室2
の上部壁に設けた加熱室側励振開口、4は、一端側にマ
グネトロン5を連結した導波管である。そして、加熱室
2の上部壁に導波管4が設置される他、導波管4の出口
側が加熱室側励振開口3に連通接続され、マグネトロン
5から発振されるマイクロ波(高周波)を加熱室2へ供
給することができるようにしている。
一方、6は回転導波管である。この回転導波管6は、ア
ルミ板などの導電性部材あるいは樹脂成形を使って角形
の器状に構成されている。但し、樹脂成形の場合は表面
に金属メッキが施される。
なお、7は回転導波管6の底壁上、中心から偏心した一
端側に設けられた励振開口である。そして、この回転導
波管6は、開口部が上記加熱室側励振開口3に臨むよう
加熱室2内の上部側に配置されている。もちろん、回転
導波管6の開口部は加熱側励振開口3の全体を許容でき
る大きさになっていることはいうまでもない。
他方、8は導波管4の上部壁の外面に、加熱室側励振開
口3の直上に位置して設置されたモータである。このモ
ータ8のシャフト8aの先端は導波管4を通じて加熱室
側励振開口3の真下まで延出している。そして、シャフ
ト8aの先端に上記回転導波管6の底壁の他端側が固定
ねじ9を使って固定され、モータ8で回転導波管6を偏
心回転させることができるようにしている。
そして、こうして構成された電子レンジの加熱室側励振
開口3にこの発明が適用されていて、その構造が第1図
に示されている。ここで、その構造について説明すれば
、これは加熱室側励振開口3の開口部の下端に口体部1
0を一体に突設して、その先端部を回転導波管6の内部
に臨ませてなる。
詳しくは、口体部1’Oには、全長が加熱室2の上部壁
と回転導波管6の開口端との距離(隙間)より長いもの
が用いられ、その先端部をへ寸法だけ開口部から回転導
波管6の内部に臨ませている。
そして、この構造にて、加熱室側励振開口3の開口端部
を回転導波管6内に臨ませて、加熱室側励振開口3から
出射されるマイクロ波を回転導波管6へ積極的に導くよ
うにしている。
なお、第2図おいて、11は回転導波管6の周囲を覆う
ように設けた、回転導波管6を保護するための、電波透
過性に優れる材料、たとえ、ば耐熱樹脂等から構成され
た仕切板である。
つぎに、このように構成された電子レンジの作用につい
て説明する。今、加熱室2内に調理物(被加熱物)12
を収容し、図示しない電子レンジの操作部を操作する。
これにより、モータ8が作動して、回転導波管6が回転
する。一方、操作が発振される。そして、発振されたマ
イクロ波が導波管4.加熱室側励振開口3を通じ回転導
波管6に導かれるが、ここで、従来、加熱室側励振開口
3から出射されたマイクロ波が、回転導波管6と加熱室
2の上部壁との隙間へかなりリークすることが指摘され
る。
しかしながら、この発明によると先に述べたように加熱
室側励振開口3の開口端部を回転導波管6内に臨ませて
いる。このことは、従来、加熱室側励振開口3が隙間に
臨むがために、加熱室側励振開口3から隙間へ流れよう
とするマイクロ波は、その隙間に至らずに臼体部10(
開口端部)を案内として回転導波管6内に導かれること
になる。
これにより、隙間からの電波リークは少なくなることが
わかる。
そして、こうして回転導波管6に導かれた充分なマイク
ロ波が、シャフト8aを中心に回転する励振間ロアから
加熱室2内へ照射され、調理物12を加熱することにな
る。
したがって、良好な照射のもとで調理物12を加熱むら
なく加熱することができることとなる。
しかも、加熱室側励振開口3の開口端部を回転導波管6
内に臨ませる構造は、強度が弱く、組立時などで変形が
発生しやすい加熱室側励振開口3の剛性強度を高めるこ
とができる利点をもち、加熱室側励振開口3の変形を抑
制して常に一定の給電を行なうことができる効果をもた
らす。つまり、電子レンジの加熱性能のばらつきなくす
ことができる利点をもつ。
〔発明の効果〕
以上説明したようにこの発明によれば、加熱室の壁部と
回転導波管との間からの電波リークを減少させることが
でき、良好な照射のもとて被加熱物を加熱することがで
きる。この結果、加熱むらなく被加熱物を加熱すること
ができる。
しかも、加熱室側励振開口の開口端部を回転導波管内に
臨ませる構造は、強度が弱く、組立時などで変形が発生
しやすい加熱室側励振開口の剛性強度を高めることもで
き、加熱室側励振開口の変形を抑制して常に一定の給電
を行なうことができる利点がある。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図はこの発明の一実施例を示し、第1
図は加熱室側励振開口を、回転導波管廻りの構造と共に
示す正断面図、第2図はその加熱室側励振開口を適用し
た高周波加熱装置を示す正断面図、第3図は従来の回転
導波管を採用した高周波加熱装置を示す正断面図、第4
図はその加熱室側励振開口廻りの構造を示す正断面図で
ある。 2・・・加熱室、3・・・加熱室側励振開口、5・・・
マグネトロン、6・・・回転導波管、10・・・臼体部

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 加熱室の壁部に高周波が出射される加熱室側励振開口を
    設け、この加熱室側励振開口に開口部を臨ませて器状の
    回転導波管を設け、前記加熱室側励振開口を通じ出射さ
    れる高周波を回転する回転導波管を通し加熱室内に照射
    するようにした高周波加熱装置において、前記加熱室側
    励振口の開口端部を前記回転導波管内に臨ませたことを
    特徴とする高周波加熱装置。
JP13732385A 1985-06-24 1985-06-24 高周波加熱装置 Pending JPS61294794A (ja)

Priority Applications (1)

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JP13732385A JPS61294794A (ja) 1985-06-24 1985-06-24 高周波加熱装置

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JP13732385A JPS61294794A (ja) 1985-06-24 1985-06-24 高周波加熱装置

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JPS61294794A true JPS61294794A (ja) 1986-12-25

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ID=15195991

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JP13732385A Pending JPS61294794A (ja) 1985-06-24 1985-06-24 高周波加熱装置

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