JPS61293641A - 真空溶解による連続鋳造設備のレベル測定装置 - Google Patents
真空溶解による連続鋳造設備のレベル測定装置Info
- Publication number
- JPS61293641A JPS61293641A JP13661585A JP13661585A JPS61293641A JP S61293641 A JPS61293641 A JP S61293641A JP 13661585 A JP13661585 A JP 13661585A JP 13661585 A JP13661585 A JP 13661585A JP S61293641 A JPS61293641 A JP S61293641A
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- JP
- Japan
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- vacuum melting
- molten metal
- melting furnace
- mold
- level
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22D—CASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
- B22D11/00—Continuous casting of metals, i.e. casting in indefinite lengths
- B22D11/16—Controlling or regulating processes or operations
- B22D11/20—Controlling or regulating processes or operations for removing cast stock
- B22D11/201—Controlling or regulating processes or operations for removing cast stock responsive to molten metal level or slag level
- B22D11/204—Controlling or regulating processes or operations for removing cast stock responsive to molten metal level or slag level by using optical means
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Continuous Casting (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野１
この発明は真空溶解炉における鋳型の溶湯レベルを測定
する装置に関する。
する装置に関する。
［従来技術とその問題点］
連続鋳造を行なう設備においては、鋳型に注湯される溶
湯レベルを自動検出する必要があり、鋳鋼のように溶湯
の温度が高く発光する場合、その溶湯表面と鋳型との明
暗を利用して溶湯レベルが測定されている。原理として
は、所定位置に備えられ明暗を識別する光センサー等を
用いて、この鋳型を走査し、溶湯による明部の走査時間
により、溶湯レベルを間接的に検出している。この溶湯
レベルの検出は真空溶解炉による連続鋳造設備において
も必要となり、この場合、前記センサーは真空溶解炉の
外側に設けられるため、この真空溶解炉に設けられたの
ぞき窓を介して行なわれることになるが、こののぞき窓
のガラスに金属の蒸気が付着しないように、こののぞき
窓内部でスリットを有する円板がのぞき窓のガラスと対
向するようにして回転している。従って上述の測定方法
ではスリットのない部分がセンサーと対面すると円板に
より、光学的にその経路がしゃ断され溶湯レベルを測定
することができなかった。このためには、上記走査とス
リットの回転とを同期させなければならず、この場合、
測定装置が複雑化するという欠点があった。
湯レベルを自動検出する必要があり、鋳鋼のように溶湯
の温度が高く発光する場合、その溶湯表面と鋳型との明
暗を利用して溶湯レベルが測定されている。原理として
は、所定位置に備えられ明暗を識別する光センサー等を
用いて、この鋳型を走査し、溶湯による明部の走査時間
により、溶湯レベルを間接的に検出している。この溶湯
レベルの検出は真空溶解炉による連続鋳造設備において
も必要となり、この場合、前記センサーは真空溶解炉の
外側に設けられるため、この真空溶解炉に設けられたの
ぞき窓を介して行なわれることになるが、こののぞき窓
のガラスに金属の蒸気が付着しないように、こののぞき
窓内部でスリットを有する円板がのぞき窓のガラスと対
向するようにして回転している。従って上述の測定方法
ではスリットのない部分がセンサーと対面すると円板に
より、光学的にその経路がしゃ断され溶湯レベルを測定
することができなかった。このためには、上記走査とス
リットの回転とを同期させなければならず、この場合、
測定装置が複雑化するという欠点があった。
［発明の目的１
この発明は上述の問題点をなくすためになされたもので
あり、従来の真空炉に用いることのできるレベル測定装
置を提供することを目的とする。
あり、従来の真空炉に用いることのできるレベル測定装
置を提供することを目的とする。
［発明の構ｆ＆１
この発明の真空溶解炉による連続鋳造設備のレベル測定
装置は、真空溶解炉内に備えられた鋳型内の溶湯レベル
をこの真空溶解炉に設けられたのぞ外窓と、こののぞき
窓の内側にスリットを有する回転板とを介して測定する
装置であって、直線状に並べられた複数の受光素子を有
し、各受光素子の走査により炉内部の鋳型上面の溶湯部
と鋳型部との明暗部を検出するセンサーとを備え、前記
センサーの各受光素子の１ビットあたりの走査時間を前
記スリットの回転周期より長くしたことを特徴とする。
装置は、真空溶解炉内に備えられた鋳型内の溶湯レベル
をこの真空溶解炉に設けられたのぞ外窓と、こののぞき
窓の内側にスリットを有する回転板とを介して測定する
装置であって、直線状に並べられた複数の受光素子を有
し、各受光素子の走査により炉内部の鋳型上面の溶湯部
と鋳型部との明暗部を検出するセンサーとを備え、前記
センサーの各受光素子の１ビットあたりの走査時間を前
記スリットの回転周期より長くしたことを特徴とする。
［実施例１
第１図はこの発明による１実施例を示している。
１は真空溶解炉であり、２はこの真空溶解炉１内に備え
られる鋳型である。１ａは真空溶解炉１の側壁の上部に
設けられた内部確認用のぞ外窓であり、３はのぞき窓１
ａのガラスに金属蒸気が付着しないように設けられてい
る回転円板で、この円板３上には直径方向に長く、かつ
中心に対して対称となるスリン）３ａが設けられている
。円板３はのぞき窓１ａのプラス面とほぼ平行に位置す
るとともに、円板３の上半分がのぞき窓１ａと対向する
ように設けられており、円板３の回転によって、２つの
スリン）３ａが交互にのぞき窓１ａを通過し、溶湯や鋳
型の光像がこのスリン）３ａを介してのぞき窓１ａから
間欠的に見えるようになっている。４は円板３を回転さ
せるモータである。
られる鋳型である。１ａは真空溶解炉１の側壁の上部に
設けられた内部確認用のぞ外窓であり、３はのぞき窓１
ａのガラスに金属蒸気が付着しないように設けられてい
る回転円板で、この円板３上には直径方向に長く、かつ
中心に対して対称となるスリン）３ａが設けられている
。円板３はのぞき窓１ａのプラス面とほぼ平行に位置す
るとともに、円板３の上半分がのぞき窓１ａと対向する
ように設けられており、円板３の回転によって、２つの
スリン）３ａが交互にのぞき窓１ａを通過し、溶湯や鋳
型の光像がこのスリン）３ａを介してのぞき窓１ａから
間欠的に見えるようになっている。４は円板３を回転さ
せるモータである。
５は走査機能を有する光検出用のリニアセンサーであり
、多数の受光素子を直線状に並べて各受光素子が受光し
た光量を表わす電圧を出力するものであり、のぞき窓１
ａを介して鋳型２及び鋳型２内の溶湯の明暗状態がこの
リニアセンサー５のレンズ５ａによりセンサーアレイ５
ｂに像として投影される。この明部と暗部は走査に！り
検出され、明暗に対応して“Ｈ″、“Ｌ”の信号が出力
され、レベルｉ寅算回路６に入力される。７はリニアセ
ンサー５の各受光素子を順次走査するための走査制御回
路である。
、多数の受光素子を直線状に並べて各受光素子が受光し
た光量を表わす電圧を出力するものであり、のぞき窓１
ａを介して鋳型２及び鋳型２内の溶湯の明暗状態がこの
リニアセンサー５のレンズ５ａによりセンサーアレイ５
ｂに像として投影される。この明部と暗部は走査に！り
検出され、明暗に対応して“Ｈ″、“Ｌ”の信号が出力
され、レベルｉ寅算回路６に入力される。７はリニアセ
ンサー５の各受光素子を順次走査するための走査制御回
路である。
次に上述した構成による装置の機能について説明する。
通常、スリン）３ａの回転周期は１２図（Ａ）で示すよ
うに１／６０秒程度であり、のぞき窓１ａにはスリン）
３ａがこの周期で次々に現われることになる。リニアセ
ンサー５の１回の走査時間は前記スリン）３ａの周期と
比較して十分に長く、１．５秒程度とし、１回の走査で
受光素子５０ビット分の信号検出をするとすれば第２図
（Ｂ）で示すように１ピツ） ／ ３０ ｍ秒となる。
うに１／６０秒程度であり、のぞき窓１ａにはスリン）
３ａがこの周期で次々に現われることになる。リニアセ
ンサー５の１回の走査時間は前記スリン）３ａの周期と
比較して十分に長く、１．５秒程度とし、１回の走査で
受光素子５０ビット分の信号検出をするとすれば第２図
（Ｂ）で示すように１ピツ） ／ ３０ ｍ秒となる。
従って上記の条件では、センサー７レイ５ｂには１／６
０秒の間隔で断続的に投影されることになる。１ビット
に要する走査時間が３０ｍ秒なので、各ビットにおける
走査で少なくとも１回は鋳型２と溶湯部とが投影されて
いるので各ビットにおける走査で投影された像の明ｅｄ
ｋ力！か掩、屯十７１ごとｙでλスーセンサーアレイ２
ｂ上に第２図（Ｃ）で示すような明暗状態の像が人力さ
れているとき、リニアセンサー５からは第２図（Ｄ）で
示すように、入力レベルが高いときのみ所定のパルスが
出力され、この出力パルスはレベル演算回路６に入力さ
れる。このレベル演算回路６からはパルスが入力された
箇所のビットに対応して＠２図（Ｅ）で示すように、“
Ｈ”の信号が出力される。このビット数が鋳型２におけ
る溶湯部の長さに対応していて、が゛っ、のぞ外窓１ａ
から見ることのできる溶湯部の良さであるので、このビ
ット数は溶湯レベルＩ］に対応することになる。
０秒の間隔で断続的に投影されることになる。１ビット
に要する走査時間が３０ｍ秒なので、各ビットにおける
走査で少なくとも１回は鋳型２と溶湯部とが投影されて
いるので各ビットにおける走査で投影された像の明ｅｄ
ｋ力！か掩、屯十７１ごとｙでλスーセンサーアレイ２
ｂ上に第２図（Ｃ）で示すような明暗状態の像が人力さ
れているとき、リニアセンサー５からは第２図（Ｄ）で
示すように、入力レベルが高いときのみ所定のパルスが
出力され、この出力パルスはレベル演算回路６に入力さ
れる。このレベル演算回路６からはパルスが入力された
箇所のビットに対応して＠２図（Ｅ）で示すように、“
Ｈ”の信号が出力される。このビット数が鋳型２におけ
る溶湯部の長さに対応していて、が゛っ、のぞ外窓１ａ
から見ることのできる溶湯部の良さであるので、このビ
ット数は溶湯レベルＩ］に対応することになる。
尚、１回の走査時間は １．５秒であるが、溶湯レベル
の測定としてはこの程度の応答で十分であり、レベル演
算時間ら長くとれることから演算のためのソフトウェア
の設計も容易になる。レベル演算回路６においてＨにな
ったビット数を計数するかわりにリニアセンサー５から
出力されるビットの数を計数してもよい。ただし、回転
円板３の回転速度やスリン）３ａの個数によってその計
数値は異なるので補正が必要となる。又、第２図（Ｆ）
で示すようにリニアセンサー５からパルスが出力される
と、その時点から遅延回路でスリット周期より少し長め
にパルスを延ばすようにして、このパルス幅を測定して
もよい。
の測定としてはこの程度の応答で十分であり、レベル演
算時間ら長くとれることから演算のためのソフトウェア
の設計も容易になる。レベル演算回路６においてＨにな
ったビット数を計数するかわりにリニアセンサー５から
出力されるビットの数を計数してもよい。ただし、回転
円板３の回転速度やスリン）３ａの個数によってその計
数値は異なるので補正が必要となる。又、第２図（Ｆ）
で示すようにリニアセンサー５からパルスが出力される
と、その時点から遅延回路でスリット周期より少し長め
にパルスを延ばすようにして、このパルス幅を測定して
もよい。
［発明の効果１
以上詳述したように、この発明は真空溶解炉ののぞき窓
部とこののぞき窓部に設けられたスリットを有する回転
板とを介して行なう溶湯レベルの測定において、この測
定に用いられるセンサーの１ビットあたりの走査時間を
前記入りントの回転周期よりも長くして、各ビットの走
査でスリットを介して必ず入光されるようにしたので、
回転板により入光経路がしゃ断されても溶湯レベルを正
確に測定することができる。
部とこののぞき窓部に設けられたスリットを有する回転
板とを介して行なう溶湯レベルの測定において、この測
定に用いられるセンサーの１ビットあたりの走査時間を
前記入りントの回転周期よりも長くして、各ビットの走
査でスリットを介して必ず入光されるようにしたので、
回転板により入光経路がしゃ断されても溶湯レベルを正
確に測定することができる。
第１図はこの発明の１実施例を示すブロック図、第２図
は第１図における各動作を示すタイミングチャートであ
る。 ５・・・リニアセンサー、 ６・・・レベル演算回路
、７・・・走査制御回路。
は第１図における各動作を示すタイミングチャートであ
る。 ５・・・リニアセンサー、 ６・・・レベル演算回路
、７・・・走査制御回路。
Claims (1)
- （１）真空溶解炉内に備えられた鋳型内の溶湯レベルを
この真空溶解炉に設けられたのぞき窓と、こののぞき窓
の内側にスリットを有する回転板とを介して測定する装
置であって、 直線状に並べられた複数の受光素子を有し、各受光素子
の走査により炉内部の鋳型上面の溶湯部と鋳型部との明
暗部を検出するセンサーとを備え、前記センサーの各受
光素子の１ビットあたりの走査時間を前記スリットの回
転周期より長くしたことを特徴とする真空溶解による連
続鋳造設備。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13661585A JPS61293641A (ja) | 1985-06-21 | 1985-06-21 | 真空溶解による連続鋳造設備のレベル測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13661585A JPS61293641A (ja) | 1985-06-21 | 1985-06-21 | 真空溶解による連続鋳造設備のレベル測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61293641A true JPS61293641A (ja) | 1986-12-24 |
Family
ID=15179443
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13661585A Pending JPS61293641A (ja) | 1985-06-21 | 1985-06-21 | 真空溶解による連続鋳造設備のレベル測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61293641A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102921913A (zh) * | 2012-11-26 | 2013-02-13 | 湖南镭目科技有限公司 | 连铸机结晶器保护渣的测控方法和装置 |
| CN111408709A (zh) * | 2020-03-16 | 2020-07-14 | 江苏理工学院 | 一种铸造炉塞引口装置 |
-
1985
- 1985-06-21 JP JP13661585A patent/JPS61293641A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102921913A (zh) * | 2012-11-26 | 2013-02-13 | 湖南镭目科技有限公司 | 连铸机结晶器保护渣的测控方法和装置 |
| CN111408709A (zh) * | 2020-03-16 | 2020-07-14 | 江苏理工学院 | 一种铸造炉塞引口装置 |
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