JPS61288421A - 自動焦点合せ装置 - Google Patents

自動焦点合せ装置

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JPS61288421A
JPS61288421A JP60130009A JP13000985A JPS61288421A JP S61288421 A JPS61288421 A JP S61288421A JP 60130009 A JP60130009 A JP 60130009A JP 13000985 A JP13000985 A JP 13000985A JP S61288421 A JPS61288421 A JP S61288421A
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JP
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displacement
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drive
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JP60130009A
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English (en)
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Takahiro Akamatsu
赤松 孝弘
Takasumi Yui
敬清 由井
Akihiro Nakamura
彰浩 中村
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Canon Inc
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Canon Inc
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7003Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
    • G03F9/7023Aligning or positioning in direction perpendicular to substrate surface
    • G03F9/7026Focusing
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] 本発明は、IC,LSI、超LSI等の半導体回路素子
製造用の投影焼付装置等に適用される自動焦点合せ装置
に関し、特にマスクの一部の像または全体の像をウェハ
上に形成する結像光学系に対し、マスクとウェハを所定
の位置に、精度良く位置合せする自動焦点合せ装置に関
する。
[従来技術の説明] 半導体回路素子はその算出パターンの最小寸法が微細化
しており、この′ため投影焼付装置においても高い分解
能が必要とされる。高い分解能を得るためには、マスク
およびウェハを結像光学系の互に共役な光学基準面位置
に、正確に位置合せしなければならない。
この位置合せのためには、ウェハまでの距離の測定系と
してエアマイクロセンサ等が、また、駆動系としてモー
タ、ピエゾ素子(圧電素子)等が使用される。特に駆動
系は、駆動量の大きい粗動系と駆動mは少ないが駆動精
度の高い微動系とを備える場合がある。
第6図は、従来例であり本発明の適用対象例でもある投
影焼付装置の要部断面を示す。同図の従来例においては
、粗動系にステッピングモータ33を、微動系にピエゾ
素子23を、それぞれ用いている。エアマイクロセンサ
ノズル34および35はウェハ4の上方に位置し、ウェ
ハ4と縮小投影レンズ3との距離を計測することが可能
である。この計測値を基にウェハ4のレンズ光軸方向の
駆動量を算出し、その量を粗動系としてのステッピング
モータ33および微動系としてのピエゾ素子23に振り
分けて、それぞれを駆動する。駆動力伝達機構21はス
テッピングモータ33の駆動力をZ方向(紙面上下方向
)の駆動力に変換し、ウェハチャックベース21に伝達
する。ピエゾ素子23はウェハチャック20に取付けで
ある。ピエゾ素子23の伸縮によりウェハチャック20
はウェハチャックベース21に対し上下に移動すること
が可能である。22はウェハチャックベース21に取付
けられた渦電流型位置検知器であり、ウェハチャックベ
ース21とウェハチャック20との距離を測定すること
により、ピエゾ素子23の駆動量を検知することができ
る。
第7図は、上記従来形の投影焼付装置における駆動制御
機構のブロック回路図である。同図において、工゛アマ
イクロセンサノズル34〜37によって検出された空気
流量の変化は、電圧変換回路50により縮小投影レンズ
3からウェハ4の表面までの距離に対応した電圧出力に
変換される。この電圧出力はアナログ・デジタル変換器
(ADC)49によりデジタル信号に変換され、マイク
ロプロセッサ40に送られる。前述のように、マイクロ
プロセッサ40は、この計測値を基にレンズ光軸方向の
駆動量を算出し、その量を粗動系としてのパルスモータ
33および微動系としてのピエゾ素子23に振り分ける
。振り分けられた粗動系および微動系の駆動量は、それ
ぞれレジスタ41およびレジスタ43に格納される。
レジスタ41に格納された粗動系の駆動量は、ステッピ
ングモータ制御回路42に入力される。ステッピングモ
ータ制御回路42は与えられた駆動量でステッピングモ
ータ33を開ループ制御し駆動する。
一方、レジスタ43に格納された微動系の駆動量は、デ
ジタル・アナログ変換器(DAC)44によりアナログ
指令値に変換される。
ここで、ピエゾ素子23の駆動電圧と変位量との関係は
非線形であるため、指令値に基づいた開ループ制御では
ピエゾ素子を精度良く駆動することができない。そこで
、ピエゾ素子23の駆動においては閉ループ制御を行な
い微動系としての精度を高めている。この−ループ制御
は以下のように行なう。まず、ピエゾ素子′23を前記
の駆動指令値で実際に駆動した後、その変位量を位置検
知器22により計測する。計測した変位量を変位電圧変
換回路48によって電圧値に変換し、この実際の変位量
と前記の駆動指令値とを差動増幅器45により逐次比較
する。その差分はピエゾ駆動電圧発生回路46に入力さ
れ、差分が所定の誤差範囲内に納まるまでピエゾ素子は
駆動される。47はアナログ・デジタル変換器(ADC
)であり、位置検知器22により検知したピエゾ素子2
3の変位量をデジタル量に変換してマイクロプロセッサ
40に伝送する。        ・ところで、上述の
ピエゾ素子23の駆動量を計測している位置検知器22
は、電源投入時より出力が定常値になるまでにかなり変
動し、また温度変化によっても出力値は変動する。そこ
で、マイクロプロセッサ40は初期状態における位置検
知器22の出力値を零点として予め取込んでおき、実際
にピエゾ素子23を駆動し位置検知器22で変位量を検
知する際は、この零点を基準として正しい変位量を算出
している。即ち、まず、零点の測定は、ピエゾ素子23
を放電させた初期状態における位置検知器22の出力値
をADC47によりデジタル値に変換し、一定間隔でマ
イクロプロセッサ40に取込む。
マイクロプロセッサ40は、この零点電圧データを、図
示しないメモリに記憶しておく。実際に焦点合せを行な
う際、マイクロプロセッサ40は、ピエゾ素子駆動後、
位置検知器22により検知したピエゾ素子23の変位検
知量を変位電圧変換回路48およびADC47を介しデ
ジタルデータとして取り込む。
その変位検知量データから予め記憶してあった零点電圧
値を引きピエゾ素子23の実際の変位量を得る。
ところで、以上のような微動系の駆動制御においては、
時として、位置検知器22の出力変動幅が大きいために
、その出力がADC47の入力許容範囲外となり、計測
不能となってしまう不具合があった。
第8図は、上述の零点設定の動作を説明するためのフロ
ーチャートである。同図において、位置検知器22の出
力値がAOC4γの入力許容範囲に入るまではループか
ら抜けられない。即ち、電源投入後または温度変化等の
状況によって位置検知器22の出力値がADC47の入
力許容範囲外にあるときは、位置検知器が定常状態に近
付き、その出力が自然に許容範囲内に入ってくるまで待
つしかなく、比較的長時間、焦点合せができないという
欠点があった。
さらに、ADC47の入力許容範囲の内から、位置検知
器22の零点変動幅を引いた残りの部分がピエゾ素子2
3の駆動可能量となるため、ピエゾ素子の可動範囲の有
効利用が妨げられていた。
[発明の目的] 本発明は、上述従来形の問題点に鑑み、投影焼付装置等
に適用される自動焦点合せ装置において、前記微動系の
駆動制御を行なうための位置検知器の出力変動があって
も微動系の駆動を可能とし、さらに微動系の駆動範囲を
有効利用することを目的とする。
[実施例の説明] 以下、図面に従って本発明の詳細な説明する。
第1図は、本発明の一実施例に係る自動焦点合せ装置の
駆動制御機構の算出を示すブロック回路図である。なお
、従来例と同一または対応するものについては同一の番
号で示す。この機構は、第7図のものに対し、位置検知
器22の出力変動を自動的に補正する回路である付番5
1〜53の部分を付加したものである。第1図において
、51は位置検知器22および変位電圧変換回路48の
出力変動に対する補正値を格納するレジスタ、52はレ
ジスタ51に格納された出力変動補正値をアナログ量に
変換するデジタル・アナログ変換器(DAC)、53は
位置検知器22および変位電圧変換回路48の出力値か
らDAC52の出力する出力変動補正値を引き、位置検
知器22の出力変動分を打消すための差動増幅器である
第2図は、第1図の回路における零点設定の動作を説明
するためのフローチャートである。
次に、第1図および第2図を参照して、本実施例に係る
上記出力変動補正回路の動作を説明する。
まず、零点の設定においては、ピエゾ素子を放電させ(
ステップS1)、次にレジスタ51に初期補正値を設定
する(ステップ82)。初期補正値としては、Oを設定
してもよいが、レジスタ51に設定する補正値は、最終
的には、差動層幅器53の出力がADC47の入力許容
範囲の中心点に近い値となるのが好ましい。従って、初
期補正値も安定状態に達した後、検出器22の出力値を
基に算出した最適補正値(設計値)を用いるのが好まし
い。
次に、変位電圧変換回路48の出力電圧をDAC52の
初期補正値によって、差動増幅器53で補正し、その値
をADC47を介しマイクロプロセッサ40に取り込む
(ステップ83)。取込まれた値がADC47に対して
設定された入力電圧許容値内に入っているときは(ステ
ップS4)、ステップS10に分岐する。もし、入力電
圧許容値外であれば(ステップ$4)、上述のADC4
7によってマイクロプロセッサ40に取込まれた値が、
ADC47に設定されている入力電圧許容値内に入るよ
うな値を次の出力変動補正値として、レジスタ51に格
納する(ステップ35)。具体的には、ADC47の入
力電圧許容範囲内に近付いていくように、レジスタ51
内の値に所定の値を加算または減算する。 ・このレジ
スタ51に格納された値により、変位電正変換回路48
の出力変動は、差動増幅器53において打消され、AD
C47の入力電圧許容値内に入ることとなる。もし、1
回の出力変動補正値の出力では変位電圧変換回路48の
出力変動値を補正しきれない場合は、以下のステップ8
6〜S8を経由してステップS3に戻り、上述した一連
の補正手順を差動増幅器53の出力値がADC47の入
力電圧許容値内に入るまで繰り返して行なう。
ステップS6では、ステップS5でレジスタ51に格納
した補正値が、許容範囲内に入っているかどうかをチェ
ックする。補正値の絶対値が大きいとき、即ち、出力変
動補正を強度に行なっている場合に、そのままウェハの
露光処理を開始すると、1枚のウェハの露光中に徐々に
位置検知器22の出力が変動し、差動増幅器53の出力
電圧がADC47の入力電圧許容値外となる可能性が考
えられる。
ステップS6では、これを間接的にチェックする。
補正値が許容範囲外のときはステップS1で警報を発生
した後ステップS8に進む。ステップS6で補正値が許
容範囲内であれば、ステップS3に戻る。
ステップS8では、上述の補正手順の繰り返し回数が予
め設定されたループ回数に達したかどうかチェックする
。ループ回数が上記所定回数をオーバしたときは、位置
検知器22または変位電圧変換回路48の不具合とみな
し計測を停止する(ステップ89)。所定回数内であれ
ばステップS3に戻る。
ステップS4の判定で、ADC47の入力電圧が許容値
内であれば、ステップS3でマイクロプロセッサ40に
取込まれた値を位置検知器22および変位電圧変換回路
48の零点として、マイクロプロセッサ40のメモリに
記憶する(ステップ510)。マイクロプロセッサ40
は、上述の手順で決定された零点を基準として、ピエゾ
素子23の所要駆動量を計算し、それをレジスタ43に
格納してピエゾ素子23を駆動する。(ステップ511
)。
上述の補正動作は、第3図に示すように、1枚のウェハ
の露光が終了し、次のウェハが搬入される間に1回だけ
行なわれるため、スルーブツトへの影響は少ない。同図
中、Δ印が出力変動補正実行点である。
ところで、エアマイクロセンサノズル34〜37により
計測されたウェハ4と縮小投影レンズ3との距離を基に
レンズ光軸方向の駆動量を算出し、その量を粗動系とし
てのステッピングモータ33および微動系としてのとニ
ジ素子23に振り分けているが、この振り分けの際の制
限として、ピエゾ素子23の最大駆動量は従来±3μm
に設定していた。
これは、位置検知器22および位置電圧変換回路48の
出力変動量とピエゾ素子23が駆動されることによる位
置電圧変換回路48の変化量を加えたものが、ADC4
7の入力電圧変換許容値内に入らなければならないため
、決められた値であった。しかし、本発明の出力変動補
正回路によると、上記位置検知器22および変位電圧変
換回路48の出力変動量を小さく見積れるようになった
ので、ピエゾ素子の最大駆動量を±4μmに拡大するこ
とができた。
第4図に、位置検知器の出力変動許容値が拡大された様
子を図示する。上述のようにして得られた位置検知器の
補正出力により、ピエゾ素子は精度良く閉ループ制御さ
れる。
なお、上記実施例では、位置検知器22の出力変動をA
DC47を介しマイクロプロセッサ40に取込み、出力
変動補正値を計算して、DAC52を介し出力している
が、この補正をすべてハードウェアのみで実行させるこ
とも、もちろん可能である。
第5図は、補正をすべてハードウェアで実行させる場合
のブロック図を示す。同図において、差動増幅器53の
出力電圧が基準電圧発生回路57の出力電圧より大きい
間は、差動増幅器58の出力は正であり、アンド回路5
9が導通してクロック発生回路56で発生されるパルス
はカウンタ55に送られ、カウンタ55がカウントアツ
プしていく。ここで、基準電圧発生回路57は、零点電
圧、即ち、ADC47の入力許容範囲の中心付近の電圧
値を設定する。
また、カウンタ55の計数値は出力変動補正値として用
いる。即ち、カウンタ55は、第1図におけるレジスタ
51に対応する。カウンタ55の値は、デジタル・アナ
ログ変換器54(DAC54)を介し、差動増幅器53
に入力される。カウンタ55の計数値が増加していくと
、それにつれて、変位電圧変換回路48の出力電圧値と
DAC54の出力電圧値である差動増幅器53の出力電
圧値が徐々に低下する。そして、この差動増幅器53の
出力電圧が基準電圧発生回路57の出力以下になると、
差動増幅器58の出力が零または負となり、アンド回路
59がオフする。
これにより、カウンタ55はクロック発生回路56から
のクロックパルス入力が停止しカウントアツプを停止す
る。そのときのカウンタ55の値が求める出力変動補正
値である。第5図の回路においては、マイクロプロセッ
サ40は出力変動補正動作スタート信号(カウンタ55
のリセットまたはクリア信号)のみを出力すれば良く、
出力変動補正値の計算を実行する必要がないため、マイ
クロプロセッサ40の仕事量が多い場合に有効である。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明によれば、位置検知器の出
力変動を自動的に補正する回路を備えているため、位置
検知器の出力変動が従来の2倍以上許容されるようにな
った。従って、電源投入時における位置検知器の出力変
動による焦点合せ装置の動作停止や長時間の待機という
ことがなくなり、短時間内に正常な動作を開始し得ると
いう効果がある。また、温度変化による位置検知器の出
力変動も補正されるため、使用温度範囲が拡大するとい
う効果がある。
さらに、出力変動補正回路によって、ピエゾ素子の最大
駆動量を拡大することができる。光軸方向の移動につい
て、粗動はステッピングモータ1、微動はピエゾ素子で
駆動しているが、ステッピングモータを駆動した場合、
機械的な要因により所望した変位量を正確に駆動するこ
とがむずかしい。
従って、ピエゾ素子の駆動量の拡大により、精度の悪い
粗動系は駆動せず、精度の良いピエゾ素子のみを駆動す
ることで対処できる場合が多くなり、最良の焦点位置に
より高精度で合せられるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例に係る自動焦点合せ装置の
駆動制御機構の算出を示すブロック回路図、 第2図は、第1図の機構における零点設定の動作を説明
するためのフローチャート、 第3図は、零点設定のタイミングを示すタイミングチャ
ート、 第4図は、第1図の機構において位置検知器の出力変動
許容値が拡大した様子を示す説明図、第5図は、本発明
の第2の実施例に係る自動焦点合せ装置の駆動制御機構
の算出を示すブロック回路図、 第6図は、従来例であり、本発明の適用対象例でもある
投影焼付装置の要部断面図、 第7図は、従来の投影焼付装置における駆動制御機構の
算出を示すブロック図、 第8図は、第7図の機構における零点設定の動作を説明
するためのフローチャートである。 22:渦電流型位置検知器、23:ピエゾ素子、40:
マイクロプロセッサ、 43:微動駆動量を格納するレジスタ、45、53.5
8:差動増幅器、 46:ピエゾ駆動電圧発生回路、 47:アナログ・デジタル変換器、 48:変位電圧変換回路、 51:出力変動補正値を格納するレジスタ、52、54
:デジタル・アナログ変換器、55:カウンタ、5G=
りOツク発生回路、57:基準電圧発生回路。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.平板状物体を水平方向にステップ移動させる移動手
    段と、投影光学系の結像面と上記物体面との距離を測定
    する位置検知手段と、該位置検知手段の測定値出力から
    算出される位置情報を設定駆動量として上記物体および
    投影光学系を光軸方向に相対的に駆動する駆動手段とを
    備え、各ステップ移動後、該物体面の各領域を順次投影
    光学系の結像面に一致することを可能とする自動焦点合
    せ装置であって、 上記駆動手段が、上記物体または投影光学系を相対的に
    粗略に駆動する粗動手段と、上記物体または投影光学系
    を相対的に微細に駆動する微動手段と、該微動手段によ
    る上記物体または投影光学系の変位量を検知する変位量
    検知手段と、該検知手段の出力に基づいて上記微動手段
    の駆動量を閉ループ制御する制御手段と、上記変位量検
    知手段の出力変動を自動的に補正する手段とを具備する
    ことを特徴とする自動焦点合せ装置。
  2. 2.前記補正手段が、前記変位量検知手段の電圧出力を
    偏倚させる手段と、前記微動手段の消勢時に上記偏倚さ
    せた電圧値が所定範囲内となるように上記偏倚量を選択
    する手段とを有する特許請求の範囲第1項記載の自動焦
    点合せ装置。
JP60130009A 1985-06-17 1985-06-17 自動焦点合せ装置 Pending JPS61288421A (ja)

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