JPS61278374A - Ｌｂ膜作成方法 - Google Patents
Ｌｂ膜作成方法Info
- Publication number
- JPS61278374A JPS61278374A JP60120470A JP12047085A JPS61278374A JP S61278374 A JPS61278374 A JP S61278374A JP 60120470 A JP60120470 A JP 60120470A JP 12047085 A JP12047085 A JP 12047085A JP S61278374 A JPS61278374 A JP S61278374A
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- JP
- Japan
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- film
- water
- monomolecular film
- tank
- float
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、基板表面上に単分子膜を移し取り。
薄膜を作成するＬＢ膜（ラングミュア・プロジェット膜
）作成方法に関するものである。
）作成方法に関するものである。
単分子膜を固体表面に移し取り薄膜を作成する単分子累
積法はラングミュア法（ＬＢ法と称す）と呼ばれる。「
ラングミュア膜」応用物理第５２巻７号（１９８３）
Ｐ ５６７〜５７４、「ラングミュア膜研究の最近の展
開」固体物理Ｖｄ１７．Ｎα１２゜（１９８２） Ｐ
７４４〜７５２に示される採水面上に表面圧を充分かけ
て固体状態に保持する単分子膜に水面を横切る様に基板
を上下して単分子膜を移し取る。この時１両文献によれ
ば、表面圧を一定に保持する為、基板表面へ移った単分
子膜に相当する水面面積を縮少する様、浮子の位置を制
御している。表面圧が一定となる様浮子をコントロール
しなければ、基板上の膜の不均一が発生し、希望する均
一な所定の膜を得ることはできない、また浮子の移動は
、水面を振動させない様静粛に行なう必要がある。
積法はラングミュア法（ＬＢ法と称す）と呼ばれる。「
ラングミュア膜」応用物理第５２巻７号（１９８３）
Ｐ ５６７〜５７４、「ラングミュア膜研究の最近の展
開」固体物理Ｖｄ１７．Ｎα１２゜（１９８２） Ｐ
７４４〜７５２に示される採水面上に表面圧を充分かけ
て固体状態に保持する単分子膜に水面を横切る様に基板
を上下して単分子膜を移し取る。この時１両文献によれ
ば、表面圧を一定に保持する為、基板表面へ移った単分
子膜に相当する水面面積を縮少する様、浮子の位置を制
御している。表面圧が一定となる様浮子をコントロール
しなければ、基板上の膜の不均一が発生し、希望する均
一な所定の膜を得ることはできない、また浮子の移動は
、水面を振動させない様静粛に行なう必要がある。
これらの文献に示されるＬＢ膜作成方法では、均一な表
面圧を得る為、浮子の制御が非常に複雑なものとなって
おり、均一性の良い単分子膜を得ることの大きな障害と
なっている。 ゛また、浮子を制御する方法として、
ＬＢ膜作成時、表面圧を常に表面圧針でモニタ（常にこ
の値が所定の値となる様、モータで浮子位置を制御する
方式も知られている。
面圧を得る為、浮子の制御が非常に複雑なものとなって
おり、均一性の良い単分子膜を得ることの大きな障害と
なっている。 ゛また、浮子を制御する方法として、
ＬＢ膜作成時、表面圧を常に表面圧針でモニタ（常にこ
の値が所定の値となる様、モータで浮子位置を制御する
方式も知られている。
本発明は、この点に注目してなされたものであり、上述
の如きＬＢ膜作成方法に於いて、浮子位置を機構的に複
雑に制御する必要がなくて１表面圧一定で均質な単分子
膜を得るＬＢ膜作成方法を提供するものである。
の如きＬＢ膜作成方法に於いて、浮子位置を機構的に複
雑に制御する必要がなくて１表面圧一定で均質な単分子
膜を得るＬＢ膜作成方法を提供するものである。
上記の目的を達成する為、本発明では、槽内の水中に基
板を固定し、単分子膜を保った水面を下げることにより
、基板表面にこの膜を移し取る方法とした。さらに表面
圧を一定にコントロールする為、槽の壁面を傾斜構造と
し基板に移った単分子層の面積に見合った下降水面の表
面積が減少する方法とした。また、壁面は、単分子層が
付かない様、表面エネルギーの小さいＰＴＦＥ （弗素
樹脂）等の材料で構成した。傾斜面に沿って水面と同時
に下降する浮子を槽内に配置して、表面圧を一定に保つ
方法も合せて行ない、表面圧を水面の下降と同期をとっ
て容易に制御して、均一性の良い単分子膜を基板上に移
し取るＬＢ膜作成方法とした。
板を固定し、単分子膜を保った水面を下げることにより
、基板表面にこの膜を移し取る方法とした。さらに表面
圧を一定にコントロールする為、槽の壁面を傾斜構造と
し基板に移った単分子層の面積に見合った下降水面の表
面積が減少する方法とした。また、壁面は、単分子層が
付かない様、表面エネルギーの小さいＰＴＦＥ （弗素
樹脂）等の材料で構成した。傾斜面に沿って水面と同時
に下降する浮子を槽内に配置して、表面圧を一定に保つ
方法も合せて行ない、表面圧を水面の下降と同期をとっ
て容易に制御して、均一性の良い単分子膜を基板上に移
し取るＬＢ膜作成方法とした。
以下本発明を実施例を参照して詳細に説明する。
第１図は、本発明によるＬＢ膜作成方法を示す図である
。水面１上に単分子膜２が、親水基３、疎水基４を持っ
て、表面圧がかかった状態で保持されている。水中５に
基板６が保持台７の上で固定配置されている。ここで、
槽８の内壁９は斜面となっている。槽８の下部にバルブ
１０が配置されておりここから水が槽外に排出される構
造となっている。槽８の下方には、水を槽外へ排出する
際、水面が振動しない様、多孔質板１１が固定されてい
る。
。水面１上に単分子膜２が、親水基３、疎水基４を持っ
て、表面圧がかかった状態で保持されている。水中５に
基板６が保持台７の上で固定配置されている。ここで、
槽８の内壁９は斜面となっている。槽８の下部にバルブ
１０が配置されておりここから水が槽外に排出される構
造となっている。槽８の下方には、水を槽外へ排出する
際、水面が振動しない様、多孔質板１１が固定されてい
る。
第１図を単分子膜２を基板６表面へ移し取りの開始状態
とする。この時、バルブ１０を開は図２に示す様に水面
１が、矢印１２方向へ下降するに従い単分子膜２が基板
６の表面に付着するわけである。斜面９の傾斜は、単分
子１ＩｌＪ２の表面圧が常に一定圧となる様に基板６の
表面積分だけ水面１の下降に従い当木面１の面積が小さ
くなる構造である。ここで、槽８内の壁面９の材質は、
水面１の下降時、単分子層２が付着しない様に表面エネ
ルギーの小さいＰＴＨＥ等で作られている。
とする。この時、バルブ１０を開は図２に示す様に水面
１が、矢印１２方向へ下降するに従い単分子膜２が基板
６の表面に付着するわけである。斜面９の傾斜は、単分
子１ＩｌＪ２の表面圧が常に一定圧となる様に基板６の
表面積分だけ水面１の下降に従い当木面１の面積が小さ
くなる構造である。ここで、槽８内の壁面９の材質は、
水面１の下降時、単分子層２が付着しない様に表面エネ
ルギーの小さいＰＴＨＥ等で作られている。
続いて、本発明による他の実施例を第３図に示す。水面
２１上に単分子膜２２が表面圧を適度に印加された状態
で保持されている。水中２３に基板２４が固定されてい
る。壁面２５は、前記の実施例に示す様に表面圧を一定
とする様傾斜構造となっている。ａ面２５に浮子２６が
沿って、水面２１と同時に下降する構造となっている。
２１上に単分子膜２２が表面圧を適度に印加された状態
で保持されている。水中２３に基板２４が固定されてい
る。壁面２５は、前記の実施例に示す様に表面圧を一定
とする様傾斜構造となっている。ａ面２５に浮子２６が
沿って、水面２１と同時に下降する構造となっている。
すなわち、水面２１が下降した時、浮子２６も同時１巳
下降し、常に同じ浮子２６の位置が、水面２１と接する
構造となっている。また表面圧は、浮子２６が、壁面２
５に沿って下降することで一定に制御される。この実施
例は前記の実施例と同様に槽２７の下部にバルブ２８が
取り付いており、ここから槽外へ水が排出される構造と
なっている。槽２７の下方には、多孔質板２９が配置さ
れており、水の排出時、水面２１に振動が生じない構造
となっている。
下降し、常に同じ浮子２６の位置が、水面２１と接する
構造となっている。また表面圧は、浮子２６が、壁面２
５に沿って下降することで一定に制御される。この実施
例は前記の実施例と同様に槽２７の下部にバルブ２８が
取り付いており、ここから槽外へ水が排出される構造と
なっている。槽２７の下方には、多孔質板２９が配置さ
れており、水の排出時、水面２１に振動が生じない構造
となっている。
また槽外への水の排出方法として、排出口に流量可変制
御バルブ、流量計を配置して、排出流量を自動的に制御
して、より高品質の膜を得ることも可能である。重力排
出の他にポンプで強制排水を行なう方法も有効である。
御バルブ、流量計を配置して、排出流量を自動的に制御
して、より高品質の膜を得ることも可能である。重力排
出の他にポンプで強制排水を行なう方法も有効である。
以上の様な構造とした為、次に示す効果が得られた。
− （１）表面圧を一定とする為の浮子の機械的な制御が不
必要となった。
− （１）表面圧を一定とする為の浮子の機械的な制御が不
必要となった。
（２）形状の異なる基板に対しては、壁面の構造をそれ
に見合って変化させ表面圧を一定とすることが容易に出
来る。すなわち形状の変化にも充分対応が出来る。
に見合って変化させ表面圧を一定とすることが容易に出
来る。すなわち形状の変化にも充分対応が出来る。
この様な効果が得られた結果、本方式では、均一な単分
子膜が容易に得られる様になった。
子膜が容易に得られる様になった。
本ＬＢ膜作成方式は、特に基板の表面積が、常に一定で
ある量産品に適した方式であることは言うまでもない。
ある量産品に適した方式であることは言うまでもない。
第１図、第２図および第３図はそ九ぞれ本発明による実
施例の断面図を示す。 １・・・水面、２・・・単分子膜、５・・・水中、６・
・・基板、８・・・槽、９・・・内壁、１０・・・バル
ブ、１１・・・多孔質板、１２・・・矢印、２６・・・
浮子。 ＩＺ２
施例の断面図を示す。 １・・・水面、２・・・単分子膜、５・・・水中、６・
・・基板、８・・・槽、９・・・内壁、１０・・・バル
ブ、１１・・・多孔質板、１２・・・矢印、２６・・・
浮子。 ＩＺ２
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、槽内の水面上に単分子膜を保ち、この水面を下げる
ことにより、水中に固定した基板表面上に当該単分子膜
を移し取ることを特徴とするＬＢ膜作成方法。 ２、特許請求の範囲第１項に於いて、前記単分子膜を前
記基板表面上に移す際、前記単分子膜の表面圧が一定と
なる様、槽を傾斜構造とすることを特徴とするＬＢ膜作
成方法。 ３、前記単分子膜と接する槽の壁面の材質を表面エネル
ギーの小さい材料とすることを特徴とする特許請求の範
囲第２項記載のＬＢ膜作成方法。 ４、前記槽内に浮き子を配置し前記浮き子が、水面と共
に槽壁面に沿つて下降することを特徴とする特許請求の
範囲第２項記載のＬＢ膜作成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60120470A JPS61278374A (ja) | 1985-06-05 | 1985-06-05 | Ｌｂ膜作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60120470A JPS61278374A (ja) | 1985-06-05 | 1985-06-05 | Ｌｂ膜作成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61278374A true JPS61278374A (ja) | 1986-12-09 |
Family
ID=14786965
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60120470A Pending JPS61278374A (ja) | 1985-06-05 | 1985-06-05 | Ｌｂ膜作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61278374A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63252212A (ja) * | 1987-03-11 | 1988-10-19 | Shigeo Okahata | Ｌｂ型累積膜形成用圧電素子センサ− |
| JPH0394857A (ja) * | 1989-09-04 | 1991-04-19 | Sendai Denpa Kogyo Koutou Senmon Gatsukouchiyou | 有機分子超薄膜の製造方法、その製造装置、及び表面圧力計 |
| JP4944010B2 (ja) * | 2004-03-10 | 2012-05-30 | サイル テクノロジー ゲーエムベーハー | コーティングされたインプラント、その製造および使用 |
-
1985
- 1985-06-05 JP JP60120470A patent/JPS61278374A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63252212A (ja) * | 1987-03-11 | 1988-10-19 | Shigeo Okahata | Ｌｂ型累積膜形成用圧電素子センサ− |
| JPH0394857A (ja) * | 1989-09-04 | 1991-04-19 | Sendai Denpa Kogyo Koutou Senmon Gatsukouchiyou | 有機分子超薄膜の製造方法、その製造装置、及び表面圧力計 |
| JP4944010B2 (ja) * | 2004-03-10 | 2012-05-30 | サイル テクノロジー ゲーエムベーハー | コーティングされたインプラント、その製造および使用 |
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