JPS63151373A - 有機薄膜製造装置 - Google Patents

有機薄膜製造装置

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Publication number
JPS63151373A
JPS63151373A JP61297512A JP29751286A JPS63151373A JP S63151373 A JPS63151373 A JP S63151373A JP 61297512 A JP61297512 A JP 61297512A JP 29751286 A JP29751286 A JP 29751286A JP S63151373 A JPS63151373 A JP S63151373A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
water
organic membrane
monomolecular film
partition
substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP61297512A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsuyuki Naito
勝之 内藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JPS63151373A publication Critical patent/JPS63151373A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
  • Inorganic Insulating Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は有機薄膜製造装置に関する。
(従来の技術) 近年、ラングミュア・プロジェット膜に代表される有機
物の超薄膜を用いた各種の電子デバイスが盛んに登場し
てきている。例えば特開昭52−35587号公報「電
気素子または電子素子」、特開昭55−17505号公
報「電気材料」、特開昭57−196143号公報「感
湿素子」、特開昭60−237939@公報「記録媒体
」、特開昭61−37891号公報rEL素子」等があ
る。
これらの素子に用いられる有機薄膜はラングミュア・プ
ロジェット膜製造装置により製造されている。従来のラ
ングミュア・プロジェット膜製造装置では、水面上に広
がった単分子膜を基板を垂直に上下させて気−液界面を
往復させることにより基板上に移し取り累積膜を得る(
垂直浸漬)か、もしくは基板を水平にして水面上の単分
子膜に接触させた後、板状のしきりを基板に隣接して置
き、基板を水面からひき離すことによって累積膜を得て
いる(水平付着)。
しかし、従来の装置では製膜に時間がかかり、生産性の
点から非常に問題がおる。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明はこのような問題点を解決するためになされたも
のであり、製膜時間が短縮された有機薄膜製造装置を提
供することを目的とする。
〔発明の構成〕
(問題点を解決するための手段) 本発明は、水槽と表面積圧縮手段を有するラングミュア
・プロジェット膜を製造する有機薄膜製造装置において
、有機薄膜分割手段を設けたことを特徴とする有機薄膜
製造装置である。
(作 用) 本発明によれば、ラングミュア・プロジェット膜を水平
付着法で製膜する際、有機薄膜分割手段を設置する操作
が累積前の1回で済み、累積には基板のみの移動で済む
ことから、製膜時間を短縮できる。
(実施例) 以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第1図は本発明にかかる有機薄膜製造装置の斜視図であ
る。
本発明を図面にもとづいて説明すると、第1図において
1は幅9cm、長さ80cm、深さ177Z、ポリテト
ラフロロカーボンでコートされた水槽、2はポリテトラ
フロロカーボンでコー1〜されたバーであり表面圧縮手
段である。これはモーターで移動する。5は表面圧を測
定するための親水性のプレート、4はプレートの重さを
測定する電子天びんであり、重さから表面圧を求める。
本発明の有機薄膜製造装置に具備する有機薄膜分割手段
としては疎水性でおり、水につけることによって変質し
たり、水を汚染したりしないものであれば何んであって
も良いが、特にポリテトラフロロカーボンでコートされ
たステンレス製のしきりが好ましい。
しきりの厚さは水面上の単分子膜を破壊しないためにも
薄い方が望ましく、1m以下が良い。しきりでしきられ
る領域の面積や形は異なっていても、すべて同じであっ
てもかまわないが、自動化や製造された有機薄膜の品質
の点からすべて同じであった方が好ましい。第2図にし
きりの概略図を示す。本実施例で用いた単分子膜をしき
るためのしきり3は厚さ2#のポリテトラフロロカーボ
ンでコートされたステンレスであり、モーター6によっ
て上下動する。両親媒分子を展開するための水槽は、水
面上に展開された該分子を所望表面圧で凝縮膜化するた
めの表面圧検出系及び圧縮駆動系を有している。
表面圧検出系はたとえば電子天びん4を用いwi l 
le1my型の表面検出器により行っている。
基板ホルダー13は真空吸着によるタイプでおり、真空
ポンプへの配管12が伸びている。基板の上下、左右、
前後の動きは、XYZステージ16で制御される。この
内特に上下の動きはモーター10で制御される。他は手
動つまみ17.18で制御される。つまり、本実施例の
装置では、単分子膜に直接、接触する操作はすべてモー
ターにより、なめらかに処理される。以下、本装置を用
いた有機薄膜の製造例を説明する。
まず、ポリ(メチルメタクリレート)をクロロホルムに
溶解し、濃度1.09/Eの展開溶液を予め調製した。
この展開溶液を図の1に示した水槽の水面上に少量滴下
して、単分子膜を水面上に形成させた後、単分子膜面積
をバー2を移動させることによって減少させ、表面圧を
25 dyn/cmに設−5一 定した。次にしきり3を下方に移動させて、単分子膜を
8つの領域に分けた。次に疎水処理された基板を前記8
つの領域に分けられた単分子膜に次々と接触させてポリ
(メチルメタクリレート)単分子膜を8層累積した。8
層累積するのに12分間用した。
本実施例では、しきり及び基板の移動をモーターにより
制御したが、手動でおってもよい。
(発明の効果〕 本発明によれば、製膜時間が短縮化された有機薄膜製造
装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の有機簿膜製造装置の斜視図
、第2図はしきりを表わす図である。 1・・・水槽         2・・・バー3・・・
しきり        4・・・電子天びん5・・・表
面圧測定用ろ紙 6・・・しきり上下用モーター 7・・・圧縮駆動モーター 8・・・pH,温度センサー 9・・・pH1温度表示装置 10・・・基板上下動用モーター 11・・・連結器     12・・・真空ポンプへの
配管13・・・真空基板ホルダー   14.15・・
・回転軸16・・・X、Y、Zステージ 17・・・基板左右動つまみ 18・・・基板前後動つまみ 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同    竹 花 喜久男

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)水槽と表面積圧縮手段を有するラングミュア・プ
    ロジェット膜を製造する有機薄膜製造装置において、有
    機薄膜分割手段を設けたことを特徴とする有機薄膜製造
    装置。
  2. (2)前記有機薄膜分割手段に連結された駆動手段を設
    けたことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の有機
    薄膜製造装置。
JP61297512A 1986-12-16 1986-12-16 有機薄膜製造装置 Pending JPS63151373A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02180663A (ja) * 1988-06-25 1990-07-13 Nippon Mektron Ltd 積層体の製造方法およびその装置
CN111252732A (zh) * 2020-03-16 2020-06-09 苏州微之纳智能科技有限公司 高效率制备大面积单层致密纳米颗粒薄膜自组装装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02180663A (ja) * 1988-06-25 1990-07-13 Nippon Mektron Ltd 積層体の製造方法およびその装置
CN111252732A (zh) * 2020-03-16 2020-06-09 苏州微之纳智能科技有限公司 高效率制备大面积单层致密纳米颗粒薄膜自组装装置

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