JPS61268374A - 滴下含浸処理装置 - Google Patents
滴下含浸処理装置Info
- Publication number
- JPS61268374A JPS61268374A JP11092485A JP11092485A JPS61268374A JP S61268374 A JPS61268374 A JP S61268374A JP 11092485 A JP11092485 A JP 11092485A JP 11092485 A JP11092485 A JP 11092485A JP S61268374 A JPS61268374 A JP S61268374A
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- preheating
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- Coating Apparatus (AREA)
- Manufacture Of Motors, Generators (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、電気機器コイル等にワニスを滴下する滴下含
浸処理装置に関する。
浸処理装置に関する。
従来、電気機器コイル等のワニス含浸処理を短時間で行
い、生産性の向上及びコストの低減を達成するために滴
下含浸処理装置が使用されている。その理由は5滴下含
浸処理装置によるワニス含浸処理では、ワニスを付着さ
れてはいけない被処理体のシャフトや整流子部を避けて
正確かつ高品質のワニス含浸処理が可能だからである。
い、生産性の向上及びコストの低減を達成するために滴
下含浸処理装置が使用されている。その理由は5滴下含
浸処理装置によるワニス含浸処理では、ワニスを付着さ
れてはいけない被処理体のシャフトや整流子部を避けて
正確かつ高品質のワニス含浸処理が可能だからである。
而して、ワニス含浸処理に際しては予め被処理体の予熱
を行っている。被処理体の予熱は。
を行っている。被処理体の予熱は。
昇温時間を短縮させるために一部では誘導加熱システム
が採用されているが、大半は熱風炉により行われている
。被処理体の予熱温度が低すぎると後の行程で行う硬化
の際に未硬化が起きる。逆に予熱温度が高すぎると被処
理体の巻線部で滴下途中にワニスがグル化し、含浸不良
が発生する。著しい場合にはワニスが発泡して不良品と
なる。このため予熱後の被処理体の表面温度を正確に測
定する必要がある。
が採用されているが、大半は熱風炉により行われている
。被処理体の予熱温度が低すぎると後の行程で行う硬化
の際に未硬化が起きる。逆に予熱温度が高すぎると被処
理体の巻線部で滴下途中にワニスがグル化し、含浸不良
が発生する。著しい場合にはワニスが発泡して不良品と
なる。このため予熱後の被処理体の表面温度を正確に測
定する必要がある。
しかしながら、従来の含浸処理装置では大半が熱風炉に
よる予熱方式を採用しているため。
よる予熱方式を採用しているため。
予熱後の被処理体の表面温度の測定は、炉温管理の一環
として行う炉温測定にて得た炉内温度により行っている
。これは被処理体の温度が炉内温度以上にならないこと
を根拠に慣習的に行われているものである。また、予熱
方式が誘導加熱1システムの場合にも同様に炉内温度に
より間接的に被処理体の表面温度測定を行っていた。
として行う炉温測定にて得た炉内温度により行っている
。これは被処理体の温度が炉内温度以上にならないこと
を根拠に慣習的に行われているものである。また、予熱
方式が誘導加熱1システムの場合にも同様に炉内温度に
より間接的に被処理体の表面温度測定を行っていた。
これらの結果、予熱後の被処理体の温度を正確。
かつ、短時間に行うことができず1歩留りを著しく低下
する問題があった。
する問題があった。
本発明は5個々の被処理体の温度を正確、かつ短時間に
測定してワニス含浸処理の歩留りの向上を達成した滴下
含浸処理装置を提供することをその目的とするものであ
る。
測定してワニス含浸処理の歩留りの向上を達成した滴下
含浸処理装置を提供することをその目的とするものであ
る。
本発明は、個々の被処理体に接触して表面温度を測定す
る接触式温成センサを備えた温度測定部を設けたことに
よシ、個々の被処理体の温度を正確、かつ、短時間に測
定してワニス含浸処理を高歩留シで行うことができる滴
下含浸処理装置である。
る接触式温成センサを備えた温度測定部を設けたことに
よシ、個々の被処理体の温度を正確、かつ、短時間に測
定してワニス含浸処理を高歩留シで行うことができる滴
下含浸処理装置である。
以下1本発明の実施例について図面を参照して説明する
。第1図は、本発明の一実施例の概略構成を示す説明図
である。この滴下含浸処理装置Jθは、予熱部ノとこれ
に順次連接した温度測定部2.ワニス含浸部3を有して
いる。被処理体4であるローターコイル等は、図示しな
い搬送手段により予熱部1から温度測定部2゜ワニス含
浸部3に順次間欠的に供給されるようになっている。予
熱部1には高周波コイル等で形成された誘導予熱システ
ム(図示せず)が設けられている。温度測定部2には、
エアシリンダー5等からなる出入機構6に接続された接
触式温度センサ7が設けられている。接触式温度センサ
7は、出入機構6の駆動により被処理体4の表面に接触
ご非接触するように出入動作をするよう釦なっている。
。第1図は、本発明の一実施例の概略構成を示す説明図
である。この滴下含浸処理装置Jθは、予熱部ノとこれ
に順次連接した温度測定部2.ワニス含浸部3を有して
いる。被処理体4であるローターコイル等は、図示しな
い搬送手段により予熱部1から温度測定部2゜ワニス含
浸部3に順次間欠的に供給されるようになっている。予
熱部1には高周波コイル等で形成された誘導予熱システ
ム(図示せず)が設けられている。温度測定部2には、
エアシリンダー5等からなる出入機構6に接続された接
触式温度センサ7が設けられている。接触式温度センサ
7は、出入機構6の駆動により被処理体4の表面に接触
ご非接触するように出入動作をするよう釦なっている。
而して、被処理体4の表面に接触した状態で温度測定を
行うようになっている。出入機構6の駆動は、搬送手段
と同期して行われるようになっている。接触式温度セン
サ7は、 例、tばアルミル−クロメルCC,A、)セ
ンサ、クロメル−コンスタンタン(CRC)センサ、鉄
−コンスタンタン(工。C)センサで構成されているO
また。ワニス含浸部3では、被処理体4が自転しながら
供給され1図示しない滴下含浸器によりワニスの含浸処
理を行うようになっている。
行うようになっている。出入機構6の駆動は、搬送手段
と同期して行われるようになっている。接触式温度セン
サ7は、 例、tばアルミル−クロメルCC,A、)セ
ンサ、クロメル−コンスタンタン(CRC)センサ、鉄
−コンスタンタン(工。C)センサで構成されているO
また。ワニス含浸部3では、被処理体4が自転しながら
供給され1図示しない滴下含浸器によりワニスの含浸処
理を行うようになっている。
このように構成された滴下含浸処理装置1゜によれば、
予熱部1で誘導加熱システムにより極めて短時間に被処
理体4の予熱が行われる。
予熱部1で誘導加熱システムにより極めて短時間に被処
理体4の予熱が行われる。
次いで、予熱された被処理体4は、自転しない状態で搬
送手段により温度測定部2に供給される。次いで、出入
機構6が駆動し第2図に示す如く、エアシリンダー5に
より押し出された接触式温度センサ7が被処理体4の表
面に接触して表面温度を測定する。この測定温度が許容
値にあるときは、被処理体4をワニス含浸部3に搬出す
る。測定温度が許容値外にあるときは。
送手段により温度測定部2に供給される。次いで、出入
機構6が駆動し第2図に示す如く、エアシリンダー5に
より押し出された接触式温度センサ7が被処理体4の表
面に接触して表面温度を測定する。この測定温度が許容
値にあるときは、被処理体4をワニス含浸部3に搬出す
る。測定温度が許容値外にあるときは。
予熱部1の予熱条件を修正する。ワニス含浸部3に供給
された被処理体4は、シャフトや整流子部を避けて所定
領域にワニス含浸が施される。
された被処理体4は、シャフトや整流子部を避けて所定
領域にワニス含浸が施される。
このようにこの滴下含浸処理装置10は、温度測定部2
で個々の被処理体4の表面温度を接触式温度センサ7で
正確に測定してからワニス含浸を行うので、高品質のワ
ニス含浸処理を行うことができる。また、被処理体4の
表面温度の測定は、接触式で行うので極めて正確かつ。
で個々の被処理体4の表面温度を接触式温度センサ7で
正確に測定してからワニス含浸を行うので、高品質のワ
ニス含浸処理を行うことができる。また、被処理体4の
表面温度の測定は、接触式で行うので極めて正確かつ。
短時間で行うことができる。また、被処理体4の搬送、
予熱1表面温度測定が連動して自動的に行われると共に
、予熱に誘導加熱システムを採用しているので1作業時
間を短縮して生産性を著しく向上させることができる。
予熱1表面温度測定が連動して自動的に行われると共に
、予熱に誘導加熱システムを採用しているので1作業時
間を短縮して生産性を著しく向上させることができる。
これらの結果1歩留りの向上を達成できる。
以上説明した如く、本発明に係る滴下含浸処理装置によ
れば1個々の被処理体の温度を正確。
れば1個々の被処理体の温度を正確。
かつ、短時間に測定してワニス含浸処理の歩留りを向上
させることができるものである。
させることができるものである。
第1図は1本発明の一実施例の概略構成を示す説明図、
第2図は、同実施例の作用を示す説6一 明図である。 1・・・予熱部、2・・・温度測定部、3・・・ワニス
含浸部、4・・・被処理体、5・・・エアシリンダー、
6・・・出入機構、7・・・接触式温度センサ、10・
・・滴下含浸処理装置。 出願人代理人 弁理土鈴 江 武 彦第1図
第2図は、同実施例の作用を示す説6一 明図である。 1・・・予熱部、2・・・温度測定部、3・・・ワニス
含浸部、4・・・被処理体、5・・・エアシリンダー、
6・・・出入機構、7・・・接触式温度センサ、10・
・・滴下含浸処理装置。 出願人代理人 弁理土鈴 江 武 彦第1図
Claims (1)
- 予熱部に順次連接された温度測定部、ワニス含浸部と、
前記予熱部から前記温度測定部、ワニス含浸部に間欠的
に被処理体を搬送する搬送手段と、該搬送手段に同期し
て前記被処理体の表面に自在に接触するようにして前記
温度測定部に移動自在に設けられた接触式温度センサと
を具備することを特徴とする滴下含浸処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11092485A JPS61268374A (ja) | 1985-05-23 | 1985-05-23 | 滴下含浸処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11092485A JPS61268374A (ja) | 1985-05-23 | 1985-05-23 | 滴下含浸処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61268374A true JPS61268374A (ja) | 1986-11-27 |
JPH058064B2 JPH058064B2 (ja) | 1993-02-01 |
Family
ID=14548067
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11092485A Granted JPS61268374A (ja) | 1985-05-23 | 1985-05-23 | 滴下含浸処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61268374A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8153307B1 (en) | 2004-02-11 | 2012-04-10 | Quallion Llc | Battery including electrolyte with mixed solvent |
JP2018098904A (ja) * | 2016-12-13 | 2018-06-21 | 株式会社三井ハイテック | 積層鉄心の製造方法及び積層鉄心の製造装置 |
-
1985
- 1985-05-23 JP JP11092485A patent/JPS61268374A/ja active Granted
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8153307B1 (en) | 2004-02-11 | 2012-04-10 | Quallion Llc | Battery including electrolyte with mixed solvent |
JP2018098904A (ja) * | 2016-12-13 | 2018-06-21 | 株式会社三井ハイテック | 積層鉄心の製造方法及び積層鉄心の製造装置 |
CN108233649A (zh) * | 2016-12-13 | 2018-06-29 | 株式会社三井高科技 | 制造层叠铁芯的方法和装置 |
US11094457B2 (en) | 2016-12-13 | 2021-08-17 | Mitsui High-Tec, Inc. | Method for manufacturing laminated iron core |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH058064B2 (ja) | 1993-02-01 |
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