JPS61267913A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents

薄膜磁気ヘツド

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Publication number
JPS61267913A
JPS61267913A JP10870985A JP10870985A JPS61267913A JP S61267913 A JPS61267913 A JP S61267913A JP 10870985 A JP10870985 A JP 10870985A JP 10870985 A JP10870985 A JP 10870985A JP S61267913 A JPS61267913 A JP S61267913A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
depth
markers
thin film
marker
magnetic head
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10870985A
Other languages
English (en)
Inventor
Genichi Okawa
元一 大川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP10870985A priority Critical patent/JPS61267913A/ja
Publication of JPS61267913A publication Critical patent/JPS61267913A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/31Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
    • G11B5/3163Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
    • G11B5/3166Testing or indicating in relation thereto, e.g. before the fabrication is completed

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Magnetic Heads (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] この発明は例えばビデオテープレコーダ等の磁気記録再
生装置に用いられる薄膜磁気ヘッドに関する。
[発明の技術的背PI] 一般に、この種の薄膜磁気ヘッドは基板上に磁性体、導
体及び絶縁物質を薄膜状に形成して電磁あるいは磁電素
子を構成していることが知られている。ところで、この
薄膜磁気ヘッドにあっては、そのヘッド材質の機械的特
性及びヘッド構造上等により、磁気記録媒体に近接して
該磁気記録媒体からの磁力線をヘッド内に導入あるいは
ヘッドに電流を印加して生じた磁力線束を絞って上記磁
気記録媒体に供給するコアの長さくデプス)を高精度に
形成することが要求されている。このため、従来、デプ
スを形成する場合には、第3図に示すように上部ホルダ
1及び下部ホルダ2に挟装された基板3上にコア4を所
定の間隔に形成してこのコアを挟むように三角形状のマ
ーカ5を等デプス1i16上に薄膜形成し、ヘッド組立
て完了後、このマーカの幅Wをデプス端末を研磨しなが
ら計測してデプスdを所望の値に製作していた。すなわ
ち、上記デプスdはマーカ5の高さをL1マーカの底辺
をDとすると、 の関係式が成立するので、マーカ5の幅Wを計測するこ
とで求めることが可能なものである。
[背景技術の問題点コ ところが、上記のように製作される111m1気へラド
にあっては、マーカ5をill!ll上の形成工程にお
ける電極材料等と同一工程で形成しなければならないた
めに、その後の化学的あるいは電気化学的処理等の処理
工程により、上記マーカ5の寸法が微少に変化して幅W
にΔWの変位が生じるという問題を有していた。これに
よれば、マーカ5の寸法の変位に応じて(1)式が ti=L−(1−W十△W)  −−−−−−12)と
なる如く、デプスdにΔWの変位に応じた誤差が生じ、
所望のデプスdに製作することができないという欠点を
有している。
[発明の目的] この発明は上記の事情に鑑みてなされたもので、簡易な
構成で、かつ、可及的にヘッドのデプス精度を向上し得
るようにした薄膜磁気ヘッドを提供することを目的とす
る。
[発明の概要] すなわち、この発明は等デプス線に対して互いの頂点位
置を180°変位させて並設した一対の三角形状のマー
カを設けることによって、前記マーカの寸法の変位に伴
うデプス計測誤差を確実に防止するようにして所期の目
的を達成したものである。
「発明の実施例] 以下、この発明の実施例について、図面を参照して詳細
に説明する。
第1図はこの発明の一実施例に係るmix磁気ヘッドを
示すもので、図中10はコア11が所定の間隔で、形成
される基板である。この基板10には上記コア11を挟
むように略同様に構成されるマーカ部12が第2図に示
すように形成される。このマーカ部12は等デプス線1
3に対応させて三角形状の一対のマーカ14.15が互
いの頂点位置を18o°変位させて薄膜形成される。ま
た、上記基板10の両面部には上部ホルダ16及び下部
ホルダ17が挟装される。
すなわち、上記構成において、マーカ14゜15は各デ
プスd1及びd2が等デプス線13に対する幅をWl及
びW2、底辺をD、高さをLとすると、 WI       Wt d1=L・(1−−) 、 dz=L・−・・・・・・
(3)L)        IJ の式で表わされ、その平均値dが の式で求められる。そして、上記マーカ14゜15は薄
膜形成後の化学的あるいは電気化学的処理等の処理工程
にともなって、その幅WがそれぞれΔW1及びΔW2変
位したとすると、となり、その平均値dが の L       W2−〜v1 d = −(1+ −) 2        D の式が成立し、デプスdに誤差ΔW1及びΔW2の影響
を与えることがないものである。しかして、上記薄膜磁
気ヘッドはそのデプス端末を研磨する際、マーカ14.
15の誤差ΔW1及びΔW2に影響されることなく、高
精度に形成することができる。
ここで、上述したマーカ14.15はその形状として二
等辺三角形、直角三角形及び正三角形等の各種三角形状
に適用可能なもので、いずれのものにおいても略同様の
効果を期待できる。
このように、上記薄膜磁気ヘッドはデプス計測用のマー
カ14.15を等デプス線13上に互いの頂点位置を1
80°変位させて形成し、このマーカ14.15の幅W
l 、W2を計測しながらデプス端末を研磨するように
構成したので、上記マーカ4.15の寸法の変位に伴う
悪影響を受けることがないもので、デプス計測誤差が確
実に防止され、可及的にヘッドのデプス精度を向上し得
るものである。
尚、この発明は上記実施例に限ることなく、その外、こ
の発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変形を実施し得
ることはいうまでもないことである。
[発明の効果] 以上詳述したように、この発明によれば、簡易な構成で
、かつ、可及的にヘッドのデプス精度を向上し得るよう
にしたWIIl!磁気ヘッドを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例に係る薄S磁気ヘッドを示
す構成説明図、第2図は第1図のマーカの作用を説明す
るために示した図、第3図は従来のall磁気ヘッドを
示すIII成図である。 10・・・基板、11・・・コア、12・・・マーカ部
、13・・・等デプス線、14.15・・・マーカ、1
6・・・上部ホルダ、17・・・下部ホルダ。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第1図 第2vA

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. コアの等デプス線上に設けたマーカに対応してデプスを
    形成してなる薄膜磁気ヘッドにおいて、前記等デプス線
    に対応して互いの頂点位置を180°変位させて並設し
    た一対の三角形状のマーカを設けたことを特徴とする薄
    膜磁気ヘッド。
JP10870985A 1985-05-21 1985-05-21 薄膜磁気ヘツド Pending JPS61267913A (ja)

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JPS61267913A true JPS61267913A (ja) 1986-11-27

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0336395A2 (en) * 1988-04-06 1989-10-11 Sanyo Electric Co., Ltd. Marker for detecting amount of working and process for producing thin film magnetic head
US7610673B2 (en) 2004-04-05 2009-11-03 Tdk Corporation Method of manufacturing a vertical recording magnetic head
US7716814B2 (en) 2007-02-05 2010-05-18 Headway Technologies, Inc. Method of manufacturing magnetic head, and magnetic head substructure
JP2011060419A (ja) * 2005-08-22 2011-03-24 Headway Technologies Inc 磁気ヘッドおよびその製造方法ならびに磁気ヘッド用基礎構造物

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0336395A2 (en) * 1988-04-06 1989-10-11 Sanyo Electric Co., Ltd. Marker for detecting amount of working and process for producing thin film magnetic head
US5056353A (en) * 1988-04-06 1991-10-15 Sanyo Electric Co., Ltd. Marker for detecting amount of working and process for producing thin film magnetic head
US7610673B2 (en) 2004-04-05 2009-11-03 Tdk Corporation Method of manufacturing a vertical recording magnetic head
JP2011060419A (ja) * 2005-08-22 2011-03-24 Headway Technologies Inc 磁気ヘッドおよびその製造方法ならびに磁気ヘッド用基礎構造物
US7716814B2 (en) 2007-02-05 2010-05-18 Headway Technologies, Inc. Method of manufacturing magnetic head, and magnetic head substructure

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