JPS61262700A - 極めて効率的で極めて均質で調整開口角をもつ線束を特に点源又は擬点源から生成する放射線投射器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 放！３１１１１反射器として従来から一般に使用されて
いるものは、放物面鏡、楕円鏡、円筒−放物面鏡又は円
筒−楕円鏡と同様の反射面である。このため、投射され
る放射線束はしばしば、極めて不均質な分布をもちまた
は不正確な開口角をもつ。これが重大な効率低下の原因
となり、また所要の間口より大きいときの眩しさの原因
にもなる。

これらのミラーの表面を粗面にするか又は拡散面にする
と均質性の欠如はある程度是正される。

しかし乍ら効率はいっそう低下し、開口角はいっそう不
均一・になる。キセノンアークランプ及びハロゲン化金
属ランプの如き点光源又は原点光源の場合、均質性の欠
如は極めて重大であり効率と開口角のコントロールとを
許容範囲内に維持することはできない。

出願人は、特にフランス特許第１　、６０２　、２０３
号、第２．２２４．７６９号及び第２，２２４，７７０
号に於いて、従来の放射源を使用して、すぐれた均質性
と高い効率とをもち比較的正確な開口角以内で投射され
る放射線束を得るために、最適化された円錐状又はピラ
ミッド状のミラーを使用することを提案した。

円錐状及びピラミッド状ミラーなる用語は、互いに平行
で異なる面積をもつ放射線透過性の２つの底面によって
限定された幾何学立体の側面の形状をもつミラーを意味
する。この立体の底面に平行な断面の面積は、線東入割
部として機能する小庇面から線束出射部として機能する
大底面に向つて漸増する。両底面は反射性側面によって
連続的又は連続的でなく連結されており、この幾何学立
体は底面に垂直な少なくとも２つの対称面をもつ。

これら対称面の交点が円錐状又はピラミッド状のミラー
の平均光軸を構成する。最も簡単なコノイド又は円錐は
直円錐である。しかし乍ら反射器を源の幾何学形とビー
ムの所望幾何学形とに適応させるためにいかなる変形コ
ノイドを使用してもよい。また、ピラミッド状ミラーな
る用語は、底面が実質的に多角形であり連続又は不連続
の反射性側面が平面又は軽度の凹面もしくは凸面である
ようなこの種のミラーを意味する。

放射源及び／又はこの源の像は円錐状又はピラミッド状
のミラーの小さい方の断面内に配置される。円錐状又は
ピラミッド状ミラーの後方に発射された放射線を回収す
るために協！Ｉ！スる集光ミラーが使用される。

放射源が点光源又は原点光源のとき、普及した公知型の
円錐状又はピラミッド状ミラーを用いて均質性に関する
欠陥を是正することはできない。

割部から発せられる束ができるだけランバート分布に近
い分布をもつように、適当な補正が必要である。このよ
うな場合、点光源又は原点光源は使用できない。このよ
うな源を使用する束の投射を受けた面上で輝度の高い領
域と低い領域とが生じ、妨害効果（ｎｕｉｓａｎｃｅ　
ｖａｌｕｅ）が大きい。

本発明によればこれらの欠点は実質的に検出できない程
度までかなり軽減され、開口角のコントロールが改良さ
れ、効率増加と放射線投射器のかなりの小型化とが達成
され、ある場合には実施用技術も簡単になる。

このために本発明の目的は、 放射源を内蔵しており、投射された放射線の強度が最大
値と最大値の１／２のオーダの値との間で変化する所定
の所謂開口角の値をもつ線束を所与の平均使用面一しで
生じさせる光学的放射線投射デバイスを提供することで
ある。本発明のデバイスは反！）！器を含んでおり、該
反射器が協働する光源に関して使用面側に位置する前部
と後部とを有する。デバイスの特徴は前記開口角内部で
放射線をできるだけ均質にするために、反射器の前部が
円錐状又はピラミッド状のミラーからなり、該ミラーは
少なくとも２つの対向反射面をもち該反射面の寸法と空
間位置とは実質的に、次元関係式％式％ を満足させるように選択されており、式中のＹは円錐状
又はピラミッド状のミラーの対向反射面のプロフィルの
平均半角であってデバイスの所謂開口角の０．４８倍の
オーダの値を有しており、式中のａは円錐状又はピラミ
ッド状のミラーの小さい方断面の内部に配置された前記
放射源の外側寸法に対して所定の値（好ましくは最小の
値）であり、式中のｂは円錐状又はピラミッド状のミラ
ーの大きい方の断面内での対向反射面の各プロフィルか
らミラーの１′哨軸までの距離であり、式中のｈは前記
９ｍ軸に於ける円錐状又はピラミッド状のミラーの小さ
い方の断面と大きい方の断面との間の距離であり、βは
三角関数、即ち、円錐状又はピラミッド状のミラーの大
きい方の断面内の前記反射面の１つのプロフィルの縁端
に位置する１点から始まる前記守哨軸に平行な１つの線
と放射源から発射され反射面上の前記点で反射された光
線とによって限定される反時計回り方向の角度であって
、この角度は所定の値を有しており、正符号のときは前
記次元関係式と前記距１ｂ、ｈの実用可能な許容最大値
とによって与えられる制約を配慮すべくデバイスの所謂
開口角の１／２にできるだけ近い値に設定され、負符号
のとぎは式％式％ によって決定され、式中のｄは前記平均使用面と前記円
錐状又はピラミッド状のミラーの大きい方の断面との間
の距離であること、及び、前記反射器の後部の少なくと
も一部が反射性であり源の軸方向前方に中心をもつ円弧
状子午的断面を少なくとも１つ有しており、反射された
放射線が源の最も外側の部分の前方に位置する収束点を
有しており、この反射された放射線は、最終的に得られ
る全部の線束が所要の値をもつデバイスのダ所謂開本発
明は更に以下の特徴を有する。

配向角度が正の値である場合、対向反射面のプロフィル
の平均半角の値がデバイスの所謂開口角に対して、式　
　　　　　　　　　　　　　　　　　１％式％ で示される関係を有する。

つの近傍に弯曲部を有しており、該弯曲部の凸面側が前
記ミラーの中−１軸の方向に向けられている。

対向反射面の少なくとも１／２に相当する部分全体が、
円錐状又はピラミッド状のミラーのｖ間軸の方向を指向
する凸面を有する。

円錐状又はピラミッド状のミラーの反射面が市間軸に垂
直な源面に到達しない程度まで後方に伸びており、該延
長部は、源から発した光線が入射角零で反射面のプロフ
ィルに到達するような反射面上の一点まで延びていても
よい。

放射源が、子午的断面に非ランバート強度分布を有し、
強度が最大値と零値との間で変化する／（８０度未満の
総反射角度と強度が最大値とその１／２１に等しい値と
の範囲内で変化する所謂開口角とを有するタイプの源で
あり、上竿的断面に垂直な４子午内断面ではランバート
の強度分布が実質的に維持されており、デバイスの所謂
開口角と源固有の所謂開口角とは互いに適合すべく構成
されており、円錐状又はピラミッド状のミラーが２つの
対向反射面のみを有しており、該反射面のプロフィルの
幾何学的特性がミラーの断面内で、非ランバート強度分
布をもつ子午的断面に垂直な対称面によって限定される
。

デバイスが、非ランバート強度分布をもつ子午的断面に
垂直な２つの反射面を含んでおり、該反射面は、放射源
によって前方に発射さｔｔた線束のうちで全線束の縁端
光線と源固有の所謂開口角に対応する光線との間に含ま
れる線束部分を捕捉するように構成されており、これら
２つの反射面は、デバイスの所謂開口角内オーダの値を
もつ角度以内で前記線束部分を平均使用面に反射する。

円弧状の反射性後部の部分が放射源に組込まれている。

デバイスが、前部構造と後部構造との双方を含むタイプ
のデバイスであり、後部が２つの反射面を有しており、
該反射面と連続的又は非！ｊｌ続的に該反射面に隣接す
る部分が反射面の夫々の側に１つずつ角度をつけて配置
されており、放射源、１：に中心をもつ円弧状の子午的
断面を有する。

円錐状又はピラミッド状のミラーの反射面の後部に向っ
て延長部が設けられているので、隣接する２つの反射面
に於いて源から放射線を受容しない部分が全く存在しな
い。

デバイスが、前部構造と後部構造との双方を含むタイプ
のデバイスであり、後部が２つの反射面を有しており、
該反射面は夫々の側に１つずつ角度をつけて配置された
部分と隣接しており、源か内部と外部との双方を介して
使用面に反射される。

円錐状又はピラミッド状ミラーの内部で、放射源によっ
て発射された光線がミラーの所謂開口角内に存在せず対
向反射面によって反射された光線も存在せず１つ以上の
反射性後部によって反射された光線も存在しない領域内
で、前記源が占めるスペースの外部にミラーが配置され
ており、該ミラーは、反ｔ１４ｍの中間軸に対する角度
がデバイスの間の角度になるような方向で放射源から前
方に発射される線束を捕捉しこれら線束を輝度の低下し
た使用面上の領域に反射する。

放射源が、子午的断面に非ランバート分布をもつ線束を
使用し総光射角１８０度未満のタイプの放射源であり、
円錐状又はピラミッド状ミラーが、この線束の対称軸の
回りの回転体たる楕円ミラーと協働しており、１つの焦
点が源と一致し、別の、ｊ　１１オ９ 焦点が円錐状又はピラミッド状ミラーの１不ｊ「１′の
実質的に中心に配置されている。

円錐状又はピラミッド状のミラーの対向反射面は、円錐
状又はピラミッド状のミラーの平均頂点半角の値を維持
しつつ相互間の間隔を変更できるように、デバイスのＭ
ｌ軸に垂直に平行移動し得る。

第１図及び第２図に、公知の種類の円錐状あるいはピラ
ミッド状ミラーの、二つの異なる光学的状態における子
午的断面を概略的に示す。それぞれ符号１または２を付
された上記ミラーは放射Ｗ源３と関連し、この放１８１
ＩＩ源３の放射体４はここでは点型あるいは成魚型であ
る。

第１図の場合、円錐状あるいはピラミッド状ミラー１は
互いに対向する反射面５及び６を有する。

円錐状あるいはピラミッド状ミラー１の母面である上記
反射面５及び６のプロフィダルは対称軸Δに対して角度
γだけ傾斜しており、この角度γはこの子午的断面にお
ける、円錐状あるいはピラミッド状ミラー１の頂点Ｓで
の平均半角である。放１）１ｔ／ｄ源３の放射体４はこ
こではミラー１の小さい方の断面７の中心０に配置され
ている。円錐状あるいはピラミッド状ミラー１０寸法は
この子牛的断面において、小さい方の断面７の中心Ｏか
ら縁Ａまでの距１１ｆｌＯＡ＝ａ、大きい方の断面８の
中心Ｈから縁Ｂまでの距離ＨＢ＝ｂ、並びに該ミラー１
自身の軸Δ上での高さ０Ｈ−ｈによって決定される。上
記諸寸法γ、ａ、ｂ、ｈは総て、本願出上記ミラー１は
、放射が源３の放射体４によって、例えば方向ＯＡ及び
０ＢｆｌＪにおいてミラー１の母面６に対して放射され
た放射線束を受け、かつ前記放射線束を互いに対して角
度λをなす方向ＡＸ及びＢｙへ反射する。母面５が受け
、かつ反射する放射線束の場合も同様のことが軸Δに関
して対称に生起する。

円錐状あるいはピラミッド状ミラー１の大きい方の断面
８の縁Ｂで反射された光線Ｂｙは、軸Δに平行な方向Ｂ
ｚに対し角度βだけ傾斜している。

小さい方の断面７の縁Ａで反射された光線ＡＸは、軸Δ
の方向に関して角度δをなす。角度β及びδを軸Δの方
向に関するものとすると、第１図の場合、これらの角度
β及びδは共に三角関数的な、即ち反時計回りの方向に
おいて負号（−）を付される。

第２図の円錐状あるいはピラミッド状ミラー２は、第１
図のミラー１の場合と同様に規定され得る特性を有する
が、角度β及びδの点ではミラー１に異なる。角度δは
やはり符号−を付されるが、角度βはこの例では符号上
を付される。

上記２つの事例は、円錐状あるいはピラミッド状ミラー
１乃至２によって反射された放射線束と、互いに対して
角度μをなす極限方向ＯＶ及びＯＷ（第１図及び第２図
参照）間に放射体４によって直接、即ち反射によらずに
発せられた放射線束とが重なり合う際の放射線強度分布
の、著しく異なる２態様に対応する。第３図は、第１図
のミラー１の場合における、上記様々な放Ｉ）ｌ線束の
限界を規定する極限光線の光路を示す。第４図は、第２
図のミラー２の場合の上記光路を示す。放射ｄ源と関連
する円錐状あるいはピラミッド状ミラーを含むデバイス
のいわゆる開口角αも図示されており、この角度α内で
放射線強度は、その最大値から該最大値の１７２に等し
い値まで変化する。角度αはここでは、問題の２事例に
おいて同一・の値を有するものとする。

放ｔＪ４線束は、平均使用面８に当たる（第３図及び第
４図）。

第３図の子午的断面において、互いに対して角度λをな
す極限方向ＡＸ及びＢｙ間に反射された放１ｍ１束は点
Ｃ及び０間において平均使用面８に達し、またこの放射
線束と対称に反射された放射線束は前記面８の、点Ｃ′
及び０２間に達する。

互に対して角度μをなす極限方向０■及びｏｗ閤に放射
ｐ源によって直接発せられた放射線束は、点Ｅ及びＦ間
において面８に達する。いわゆる開口角αは、面８と点
Ｐ及びＲで交わる２方向によって規定される。点り及び
０２間の領域には、円錐状あるいはピラミッド状ミラー
１によって反射された光線は一切当たらない。上記領域
は、放射４源３の放射体４から直接発せられてくる光線
しか受けない。その結果り及び０２間に低輝度領域９が
現出し、この現象は放射体４が点型放射源に近似するほ
ど、従ってビームの限界が明瞭に規定されるほど著しい
。

角度βが正号（＋）を付される第２図の例に対応する第
４図の事例では、極限方向ＡＸ及びＢｙ間に反射された
放射線束は点Ｇ及び０間において平均使用面８に達し、
またこの放射線束に対称な放射線束は前記面８の点Ｇ′
及び８１間に達する。

極限方向ＯＶ及びＯＷ間に放射線源によって直接発せら
れた放射線束は、点Ｋ及びＬ間において面８に達する。

点Ｊ及びＪ′簡の領域には、放射線源３によって直接発
せられたｆ＆射線束に加え、互いに対称な反射放射線束
同士が重なり合って入射する。その結果点Ｊ及び８１間
に高輝度領域１０が現出し、この現象も放射体４が点型
放射源に近似するほど著しい。公知の寸法関係によって
βが正号を有する場合βの値は通常きわめて小さく、数
度のオーダであり、このβは狭い、従って特に目障りで
煩わしい高１１［１ｍ領域をもたらす。

第５図及び第６図は、第１図及び第３図の場合並びに第
２図及び第４図の場合それぞれにおける、平均使用面８
ｆ：Ｊに配置された白色面上での典型的輝度分布を示す
。輝度は、明るさのコントラストの視覚による識別を直
接支配するパラメータである。

輝度は放射線の強度に比例して変化する。第５図及び第
６図において、水平軸には使用面８の第３図及び第４図
に規定された各照射領域の限界が記され、−万乗直軸は
輝度を示す。最大輝度をｌ１ａＸで示し、またいわゆる
開口角αの限界に対応する輝度をｌ　ｌ１ａＸ／２で示
す。第５図の場合、点り及びＤ′間に輝度の低下が知見
される。第６図では、点Ｊ及び８１間に高ｌｉ廉のスパ
イクが認められる。

軸Δを含み、かつ第１図〜第６図に係わる子午的平面に
対して垂直である子午的平面の場合も上述と同様のこと
が述べられ得ると理解されるべきである。

従って、本発明は特に均質性に関する上述のような欠点
を除去するか、あるいは少なくとも視感上煩わしくない
程度に減じるべく、上記のような円錐状あるいはピラミ
ッド状ミラーの寸法を最適化する新規な方法の提供を目
的とする。

本発明による新規な最適化法では、上述のように低輝度
あるいはｔ１輝度領域形成の！重要因子である角度βが
副酌される。角度βの値は、本発明によれば、必要な結
果を保証するように予め決定される。

角度βの決定方法を、第７図及び第８図を参照しつつ以
下に説明する。

角度βが正号を有する、第２図、第４図及び第６図に関
して説明した状況において、上述のように規定されたパ
ラメータγ、ａ、ｂ及びｈ並びに角度βに関する寸法方
程式を立てることができる（第７図参照）。

直角三角形ＯＨＢにおいて、 ｈｌｂ−ｔｇ　０Ｂ１１ である。

また、（Ｂに発する、軸Δに平行な）Ｂｚの延長部を３
　ｚ　Ｉで示し、円錐状あるいはピラミッド状ミラーの
反射面のプロフィ入ルＡＢの延長部をａｔで示すと、 ハ△△ ｙＢｔ−ＺＢｔ−２Ｂｙ＝シーβ（βハ正）０８＾−シ
ーβ Ａ　　　／＼　　△ である。今、ＯＢＺ’　＝ＯＢ＾＋ＡＢＺ’−シ÷シー
βがめ晶の余角なので ｈｌｂ−ｃｏｔｇ（２シー　β） となる。

角度βが負号を有する、第１図、第３図及び第５図に関
して説明した例では（第８図参照）、ｈｌｂ−ｔｇ　０
Ｂ１１ △　　／＼ ０ＢＡ−ｖＢＴ ＺＢＴ−ν △　　△ ＶＢｔ−ν）ＺＢＹ である。

しかし、Ｚ８ｙ−βでかつβは負であるので、ｙａｔ＝
ν　−β と書かなければならない。

最後に、得られた式を先の場合と同じ方程式に当嵌める
と、 ｈ／ｂ＝ｃｏｔｇ（２ν　−β） となる。

このように、角度βの値は予め本発明によって、βの符
号が正負何れに選択されるかに従い二様に決定される。

βが正号を有する場合（第９図参照）、いわゆる開口角
αを形成し得る。このように、平均使用面Ｂ上の点Ｊ′
及びＪｎ！Ｉの１ｉｉｉ＊＊領域は主照射領域と合致す
る傾向にある。光線入射角度の余弦の三乗に比例する、
上記主照射領域の照度は、照射領域の中心と点Ｊ′及び
Ｊとの間で急速に漸減し、その結果、前記入射角度が相
対的に大きくなると余弦の三乗のこの因数は、高まった
輝度が漸次有効に減衰することを可能にする。このこと
は、領域Ｊ’　Ｊが狭いと生起しない。いわゆる開口角
αの値が大きいほど、βの値をαの値の槙成に利用する
ことは困難であり、なぜならその結果、極端な場合には
、ｂ及びｈの値を甚だしく増大させなければならなくな
る恐れがあるからである。従って、妥協点を捜す必要が
ある。幸い、投射器から例えば２メートルのところに位
置する使用面上でＪ’　Ｊが０．７０メートルであれば
、通常の使用条件下に許容可能な均質性が保証されると
いうことが経験上明らかである。上記推定は、角度βの
値として優か約１０度に対応する。従って、デバイスの
著しい小型化を可能にする操作マージンが得られる。

第６図に示された同様な非最適化の場合の平均使用面８
の輝度分布に代って、第１０図のダイヤグラムの中に今
回の最適化の分布の一般的形が示されている。

もしβを負とすると（第１１図参照）、それは円１１、
Ａにまたは角錐、ｌ＜の大ぎい方の断面の端から反射さ
れる限界の状態を規定し、Ｂｙおよび軸線Δに対して対
称な線とは該軸線と平均使用面８との交点Ｈ′で結びつ
く。この結果として、第３図との関連で定義されたＤと
Ｄ′点はＨ′に合致し、輝度の減衰した領域９は消失す
る。

円錐状または角錐状の大きい方の断面から平均使用面８
までの距離ト１Ｈ′をｄとすると、角度βをｄと距離ｂ
−Ｈａの関数として定義すれば次のようになる。

Ｔａｎβ＝ｂ／ａ 第５図に示された同様な非最適化の場合の平均使用面８
の強度分布に代って、第１２図のダイヤグラムにより今
回の最適化の分布の一般形が示されている。

これらの新しい最適化は、特に配向角が正の値を有する
場合は、円錐状または角錐状のミラー面の対面反射面の
平均半角γの採用を導き、それは本出願人の従来のフラ
ンス特許ｆ’Ｒ−Ａ−２，−２２４，７６９号およびＦ
Ｒ−Ａ−２，２２７，７７０で最適化された値よりも僅
かに大である。このγの値をα、いわゆる開口角の関数
として表わすと、前記の特許おいては次の関係が得られ
る。

ν〜０．４８α 本発明によると、新しい最適化の関係は次のようになる
。

シタ０．５２α 本発明の別の特徴は次の点、即ち角度βが正値を有する
場合、第１３図および第１４図中ＡＢのような円錐状ま
たは角錐状の対向反射面の各々は、好都合にも対称軸線
Δに対面して凸になる曲率の特性を有する。それらの曲
率は小または大な方の断面の近くでのみ現われる（第１
３図）こともあれば、この曲率は反射面のＡＢプロフィ
ルの中央の近傍へ伸延し、かつ端部Δ、Ｂから中央部近
傍へと向ってその曲率が順次減少していく場合（第１４
図）がある。

この両者での結果は、限界反ＩｊＩ線Ｂｙ′とＡ　Ｘ　
＋　は軸線Δに対して各々傾斜β′とδ′とを有し、プ
ロフィルＡＢが厳密に直線状である場合の表面での反射
（点線で示す）ＢｙとＡＸ線の傾斜δとβよりも大きい
。

第１５図に図示された結果は、平均使用面８の上では、
増加輝度の中央領域を規定する１点とｊ′とは通称開口
角度αと云われるものを画定する各々の点ＰとＲに接近
する。このことは、αの値が高くかつβ値をαの値へ近
接せしめるのに困難な場合に有利である。

同様にして、軸線Δに角度δ′で傾斜する光線に相応す
るｑとｑ′点が平均照明平面８上の中央点１１′から遠
ざかる。これは、角度αにおける増加に該当する被照射
面の拡大となる。この結果は特に、いわゆる大きな開口
角が望まれ、従ってその実現の容易でない場合に有効で
ある。一方においてもし角度δの増加が望まれずただ角
度βの増加だけが所望の際は、反射面は点Ｂの近傍にお
いてのみ曲面であり得るか、または円錐状または角錐状
ミラーの大ぎい方の断面の端部Ｂ側での半分だけ曲面で
あってよい。

曲率が点Ｂ側での中間部分の近傍、および／または点Ａ
側での中間帯での近傍で所望な場合は、この曲率は反射
表面を裁断することで得られ、往々欠点と考えられてい
るものを利用している。

平面８の上で得られる輝度の分布は、第１６図では実線
で示したような−・般的形を有している。

第１０図のダイヤグラムの非湾曲表面に対応するものは
、第１６図では点線で示される。これから均質性が曲率
と共に著しく改善され、特にＢのような縁端で表われて
いる。

また成る場合においては、円ｔｌへまたは角ｔｌ、ＩＮ
の対向射面が、中間軸Δ上に垂直なある光源の放射体の
平面より優品でかつその平面に達しないように延伸して
いると都合がよい。第１７図はこのような種類の具体例
を示す。反射面６のプロフィルＢＡはＡ′点まで延伸可
能で、従って光″ＩＯＡ’の投射角はπ／２に等しい。

これを越えると光は中 後方に反射して、平均使用面に指向されることはない。

この実施例は二つの点で特徴がある。第一・は光源によ
り放射される比率、および円錐ダまたは角１走ミラーに
捕捉される部分が大きく、かつ結合状であり、従って装
置の後方への放射光束即ち前方へ戻すべき部分は減少す
る。そのような歩留りに固有な損失分は、往々にして円
錐Ａにまたは角錐Ａ大ミラーの反射表面での反射に固有
な損失分より大である。第二には、このようにして捕捉
される補充光束、Ｉち光１ｍ０Ａと光線ＯＡ’の間にあ
り、それから光線ＡＸ沿った反射およびＡ′での反射法
にＡ”点によるＡ’Ａ”による第２の反射によるＯＡ’
のＡ’　ｕの反射は角度この範囲に入り、ＡとＡ２間で
既にその量に言及した他の光束の合計を均質化するのに
役立つ。プロフィルＢＡの延伸の終点の位置はどの場合
でも、αとβが与えられておれば角度この中に含有され
る光束の最も効果的な断面形状を付与する。例えば延伸
の終点がＭであったとすると該光線はＯＭで、最初はＭ
Ｍ’　で反射し、次にＭ’　Ｕ’　に沿う。延伸反射表
面６のＡとＭとの間で捕捉された光束は、２回の反射の
侵ある角度の範囲で使用平面に指向し、最後に増加輝度
の領域Ｊ’　Ｊの限界範囲の平面８（第９図参照）か、
またはそれを越えていわゆる開口角αに対応する点Ｐ１
Ｒへ向っていく。点Ｍのこのような事前設定は、点Ｊ′
やＪの隣接領域の強化を可能にし更に輝度の不規則性を
軽減せしめる。

前述までの説明においては、点または擬似点状放射体４
を有する光源３は、ランバートの強度分布に拠る子午面
に特色づけられると仮定している。

第１８図はそのような分布の極線図を示していて、それ
は円形である。ベクトルの原点は強度がゼロ円の中心を
通る。

光源のいわゆる開口角はベクトルＯｆとＯｆ’との間に
含まれ、そのベクトル長は夫々ベクトルである。従って
開口角はＯｅを半対称面と軸にして１２００となってい
る。

同一の条件はキセノンまたは金属ハロゲン化物を用いた
短かいアークを、点状または擬似点状と考えるものにつ
いては該当しない。この種のアークはく第１９図参照）
、空Ｉ４１４中に配置し゛た電極１２．１３間で、不透
明壁面１５と１６が放射光線を限定するようにして製造
される。強度分布を示す第１７図の極線図はこの場合代
表的には第１９図のように表わされる。最大強度１　ｔ
ａａｘはベクトルＱｅで示されｍ−う　　ｍ−う る。いわゆる開口角αはベクトルＯｍとＯｍ′によって
規定される。図示例ではαは子午質的断面で６５度であ
る。

効果的な通称“ワイド・ビーム”プロジェクタ装置は、
通常開口角の所望大きさは約５５〜７５度である。この
意味においては、上記の子午的断面でいわゆるワイド・
ビーム・プロジェクタの同口角Ａく 慶ミラーの二つの対向反射表面を除き得ることが面でラ
ンバートの分布に従い、装ぼは第２０図に示すごとく２
つの対向反射表面２１と２２になってしまう。

点状または擬似点状の放射体４の光源は、例えば金属ハ
ロゲナイド雰囲気中の短かいアークであり、放射体４を
通る縦方向軸ｌ１１１８を持つ。光ｍ３は放射体４を通
る対称的な１９と２０の二つの平面を有し相互に垂直で
ある。光源の軸［１１Ｂを含む平面１９においては、強
度分布は実質的に第１９図で示すようなものである。平
面２ｏに平行でがっ放射体４を通る平面（図示せず）で
は、ランバートの強度分布は実質的に第１８図に示した
ようなものである。

状 本発明による装置はここでは角錐オミラーの中にあって
、該ミラーは平面２０に対称的に平行でかつ放射体４を
通る平面において断面を有する２つの平面反射表面２１
と２２に還元され、該装置は本発明平面１９（第２０図
の）に垂直な２つの平面反射面は、平面１９の中に直線
状のプロフィル２５と２６を有し、該プロフィルは、放
射源より前面に向けて放射された光束を捕捉するように
分かれており、２つの平面反射面は、全光束の最端部の
光１ｉ１２７．２８と光源に固有ないわゆる開口角αに
相応する最端部の光１１！２９．３０との間にある。こ
れらの光束は第１９図に示すごとく、一方では光線Ｏｒ
とＯＦ２との間に含まれ、また他方ではＯｍとＱ　ｍ　
Ｉ　との間に含まれ、立体角の範囲で子牛面１９の中の
切断面は角ｒｏｍと角ｒ’　ｏｍ’である。これらは、
−・般的に最も関心が持たれるいわゆる開口角αの範囲
では、平均使用平面を照明するのに貢献していない。

従って、多くの場合はこれらの光束を捕捉しかつ角πの
間にそれらを反射するのが便利であり、望ましくはそれ
らを明るさの弱い領域または異なる輝度の遷移部分に向
けるとよい。

内反射面の反射面とは全体的に違った設計である。

プロフィル２１．２２の反射表面とプロフィル２５．２
６の反射表面との組合わせは、そのためここで述べ埒だ た型の角錐！ミラーを構成することはない。

本発明による放射線投射光学■は、円ｉまｔ たは角！Ｉｚのミラーのように照明を用いる使用平面に
向かった前方部分を有し、ここで述べた改善は、円弧状
の子午線の少なくとも１つが特徴である少なくとも１つ
の反射用後方部分を有する。

第２２図は本発明による投射装置の反射性の後方部分の
一部の光学的概略を子午的断面上に示すもので、点状ま
たは擬似点状の放射体４の光源３と、その断面が円弧状
の後方部分の一部３１とを含み、その中心３２は投射装
置の軸線Δ、ｌ：の放射体４の方に向かって位置してお
り、従って反射光は光源３の外部部位において位置する
収束点３３を有している。ミラー３１（球形または円筒
形）の断面は円形であり、従ってアブラナ光学のグルー
プに属し、反射光束は非点収差の無い光学のグループに
だけをして主要な役目を充足させているところで、それ
らの間のコントラストを除いていることである。

て角度δの範囲で伸びており、装置の断面３１と他の光
学素子を用いた本発明の任意の組合わせによって、最終
的に得られる光束は、各々の場合で所定の値のαを持つ
いわゆる開口角の範囲で分布するものとなる。

第２３図は前述の３１の如く、後部の−・部分が既知の
形状の既存の反射器３４と組み合わされた本発明に従う
装置の概略説明図である。部分３１で反射された実質的
に均質な光束の組み合せは、すでに述べた如く、反射器
３４への本来的な増加された明るさ及び減少された明る
さの部位との間のコントラストを減少し、最終的に得ら
れる光束の均質性を減少させるものである。又、角δと
反射器３４を規定するいわゆる開口角σの値は、いわゆ
る開口角が全体として装置に対して所定の値αを有する
合法 成光束をｐ成すべく定められる。このことは、αより小
さいσとαより大きいδを選択するかあるいはαより大
きいσとαより小さいδを選択するかによって達成され
うる。それ故、両者において、前者が後者を補償する。

３１の如く、いかなる形状の反射器でも本発明による反
射する後部部分の組み合せは本発明の簡単な具体例であ
る。

のべられたように所定のいわゆる開口角αで投射される
光の放射に絶大な均質性を与える。

本発明による反射する後ＰＩＳｍ分が用いられるあらゆ
る場合に３１のような部分は第２４図にみられる辷肚金
量中に短い弧を有し、例えば、通常石英バーナ３５と石
英の外部エンベロープ３６からなる。第２４図に示す如
く、反射部分３１は外側エンベ０−１３６の部分を構成
し、そのプロフィルは３２を中心とした円弧である。部
分３１は反射処理をおこなう。

部分３１はバーナ３５自体のエンベロープ３７の一部（
図示しない）を構成する。又部分３１は光源３に組み込
まれた３１の如くプロフィルを有するミラーからなる。

第２５図は、光源によって放出される放射強度の分布が
ランバートである子牛的断面において、点火 ２は疑似点の放射体４で放射する光源３と対象軸Δを通
る子午的断面（図の平面）のプロフィル３９４ｆ″ められる光束が光源３の最も外側の部分３７の前方であ
る軸Δ上の点４３において反射後収束するように、プロ
フィル４１が軸Δ上の点４２を中心とする円弧状の後部
ミラ一部分とからなる装置が示されている。放射体４を
中心とする円弧プロフィル４４及び４５を有する２つの
反射面はプロフィル部分４１を結合し、円弧はこの部分
のそれぞれの側に斜めに配置されている。これら２つの
反射面は図面に示される例の如く、中央部分に隣接され
るか又は隣接されえない。この場合曲面の半径は具体例
に示されるものよりも小さいか大きい。

これらの２つの反射面は中央プロフィル部分４１によっ
て捕えられない後部に向って光源から放出される光束を
捕捉する。反射面は、これら光束を放射体４へ向って反
射し、（通常放射体を構成す４０へ向って放射線の如く
直接放出する。これらの光束が放射体のプラズマを再び
通過するという事実は、いかなる不利益を有するもので
はなく、（現在の場合よりもより大きい比率である）光
束の半分が半球ミラーによって弧へ戻される像オーブン
の事実から認められる。排除されるべきことはバーナと
ランプの石英エンベロープ上の点で放射の焦点を合わせ
ることである。

第１７図を参照して述べられた本発明の具体例に４ガ 関連してすでに見られた如く、円錐Ｉ又はビラミ間軸Δ
と直交する光源の放射体の平面へは及ばない。この場合
前記伸長によってもはや光源からの放射を受けない部分
である後部反射面プロフィル４４及び４５（第２５図）
を減少することは可能である。

もし必要ならば、中央部分４１の角δの値を増加するこ
とによって消滅され得る。

プロフィルが直線状である反射面（図示しない）を有し
て円雇うロフィル４４及び４５にこれらの反射面を置き
換えることは可能である。これらの表面さい断面及び／
又はこの小さい断面の外側を介して光源からの放射を利
用面へ反射し得る。比較的広角度で投射された光束を強
化するかあるいはこのような直線状のプロフィル表面に
よって反射された光束を輝度の減少した部位に向けて又
は異なるｉｔｓの部位の間の変化している部位へ向ける
かいずれか焦点を合わせることを避けることは可能であ
る。

点４３で収束後、中央プロフィル部分４１で反射された
光束は実質的に角度６以内で、均質に分布される。装置
のいわゆる開口角αの値は、全体としｓｆ： て予め決められており、単一の円錐！又はビラミロ角の
値を調整することが必要である。この角度反射された光
束が、反射表面プロフィル４４及び４５によって後部か
ら反射された光束によって強化さをもｐδがαよりより
大であればαより少ない角度、又は（たいていは）角は
もしもδがαより小ならばαより大である角度に選択す
る。

第２６図に本発明による装置の例を示す。本装置は放射
体４が疑似１型である光源３と、すでに第２０図に関連
して述べられており、ｆ二つの反射面２１及び２２に減
少されるピラミッドミラーと、平面２０に平行であり光
源を通る子午的面のブＯフィル（図示しない）が４１の
如き円弧状を有（第２５図参照）するシリンダ形の後部
反射面部分４もと、第２５図に関連して述べられたプロ
フィル４４及び４５をｄイ゛ ラーがシリンダタイプである。４４ハログナイド光源の
長手方向の軸１８を通り子午的平面１９において放出さ
れた光束の背復からの回復は光束の小部分のみに関連し
、これらが作動しうる条件下にお扶゛ いて製作がたやすいシリンダＺのミラーによる回復は十
分に表われる。回復した光束は再びバーナと後者を囲む
光源の部分を通る。

用の点４２とミラー４７及び４８の放射体４の中心であ
る。

−は研磨されｍ製されたアルミシートから製造されるの
が有利である。

本発明による装置の寸法は、非限定の例によってのみこ
こに示される。

例えば第２６図に関して述べられた装置は子午面１９及
び面２０に平行な子午面において６０度くらいのいわゆ
る開口角が得るべく規定されている。後部る開口角は大
体６３度３０分に選択される。その結果ν〜０．５２　
Ｘ６３°３０′〜３３＠高度に満足な均質性を得ると共
に実質的に小型にすべく角βに定める値は１２度である
。この例における光源は２０．の外径を有する７０ワツ
トのメタルハロゲンランプである。（第１図の）ａとし
ての値は、２６７２履＝１３閣である。

このように、本発明に従って寸法関係を適用する。

（ｂ−ａ）／ｈ　＝　ｔａｎ　３３°〜０．６５ｈ／ｂ
　　−ｃｏｔ（６６−１２°）二〇、７３故に、ｂ　＝
　２４．５Ｍ、ｈ＝１８゜後部ミラーの寸法は次の通り
である。

プロフィル４１（第２５図）の半径＝３１履光源の前９
馴に位置する中心４２を有する。

円形プロフィル４４及び４５の半径：２５Ｍ光源の弧上
に中心がある。

ミラー４１．４４及び軸１８（第２６図）に平行な４５
の幅は約３０ａｍである。

全体としての装置はｊ平行六面体５Ｘ５Ｘ４α以内に適
合する。

円錐形又はピラミッド形のミラーのいわゆる開口角を半
分に近い値とすべくβをもしも１２度以上の値とすれば
、この例では３０度ぐらいであるが次の寸法が得られる
。例えば、 βＪ２０度及びν＝３３度： 旦＝ｔ３．．．　　　ｂ＝３５ＮＲ，ｈ＝３４１ｗｎ２
ａ　＝２６ｍｓ＋、　　２ｂ＝７０ａｍ、　　　ｈ＝３
４ｍβ＝２０度及びν＝３３度： 旦＝１３ａｗｓ　　　回＝５１履、　　　　　ｈ−５８
，５゜２旦＝２６ｓ１２　ｂ　＝　１０２ｍｇ＋、　　
ｈ　＝５８．５ａｍβ＝３０度及びν＝３３度： 角度βの値を大体２０［１ｉから２５度とすると均等の
成果が顕著に得られる。しかし、小型化は伸展しない。

これらの例は、いわゆる“ワイド・ビーム”照明に関す
る。αが大体４０度、ガンマが約２１度である「適度な
」光束の場合には次の値が得られる。

β−１２度： ａ　−１３６，ｂ−３９ｓｗ、　　　　ｈ＝６７゜２旦
＝＝２６ａｍ、　　　２２ｂ−７８ａ＋、　　　ｈ　＝
　６７ａ＊β＝１６度： 旦＝１３１１１１．　　　回＝　１２２ａＩＩｌｌ、　
　　ｈ＝　１２５履２旦−２６ａｍ、　　　２　ｂ　＝
　　２４４ｍ５＋１ｈ　−１２５ａｍこの種の「適度な
」光栄の場合において、４０度の程度のいわゆる開口角
を有する短いアーク源は、現在は利用されていない。源
のいわゆる開口角の構成及び本発明による固有の装置の
構成の結果、し１ このような源が得られる。吉水換えると、本発明による
装置は、例えば第２７図において高度に図式的に表わさ
れた四面を有したピラミッド状ミラーを有している。こ
れら対向する一対の面２１及び２２は、最も後の例にお
いて丁度示されているような寸法を有した源の軸に関し
て平行である。対向する而４９及び５０は、軸１８（第
２６図では１９）を通過する頂点からの対称の面上にあ
り、直線あるいは実質的な直線外形５１及び５２の寸法
は本発明によって規定される。νの値を与える計算、こ
れらのプロフィルの対称の軸に対する平均角Δ（第２８
図参照）の根拠は以前の寸法とは異なる。軸１８を通過
する子午面において、アーク４によって放射された５３
及び５４の如き最端の光線及びピラミッド状ミラーの小
さい方の新面の端部を経た進入は、軸Δに対する角度θ
において、代わりに軸１８に対して垂直な子午面におい
て一般的に約５５度の値であり、θに類似する角度（第
１図、０ΔとΔとの間の角度を参照）はπ／２の値をと
る。出願人の先の特許Ｆ　Ｒ−Ａ　−２，２２４，７６
９及びＦ　Ｒ−Ａ　−２，２２４，７７０はこの場合に
おけるνの値を設定するのに用いられるところの寸法の
関係を与えている。

このνの値を固定すると、寸法は既に述べられたように
割り当てられる。

本発明による装置群に基く一例によって、既に述べられ
た総ての１法は、関連角βが正である。

［１１１連角βが負である装置は、角度βが固定された
ものにおいて、式１０β＝　ｂ／ｄによるものとは最初
から異なる。そして、ｂの値はまずａの値よりも先に固
定されなければならない。ｂの初ｌ１ｌ（＋１１は、ａ
の要求された値に連続して近似すること令 により修正されるであろう。−例をｌげろと、いわゆる
開口角αの装置は６０度の程度であり、出願人の先の特
許Ｆ　Ｒ−Ａ−２，２２４，６６９とＦ　Ｒ、−Ａ　−
２，２２４，７７０の場合はνの値を０．４８　ｘ６０
度ご２９度の程度に規定している。ｂに関して、２雇に
位置する利用する中央の面は２５朧の程度において、ｔ
ｇβ＝　０．０１２５ β−０，７１６度 ν＝２９度を伴い、続く寸法は１ 、　　ｂ　＝２５ａｍ、　　　旦＝１３ａｍ、　　　ｈ
＝２１．６５　ｍ２回−５０顛、　　２身−２６ａｍ、
　　肛＝２１．６５　ａｍ本発明の他の特徴によると、
（第２９図参照）他の円錐状又はピラミッド状ミラーは
第２５図のリファレンスで表わされた円錐状又はピラミ
ッド状ミラ−３８に加えられる。第２９図においては、
円錐状又はピラミッド状ミラー３８のいわゆる開口角α
あるいはプロフィル３９及び４０の反射性表面に面する
反射された光線あるいは後部反射面４１．４４そして４
５の環状外形から反射された光線を伴った源によって放
射された光線が無い領域があるように見える。

このような放射はこのような自由な領域はいわゆる開口
角αの範囲を定める光線５５によって、円錐状あるいは
ピラミッド状３８のより大きい領域の端部に接する光線
５６によって、一方においては、小さい方の領域の端部
におけるプロフィルによって反射される光線５７によっ
て、他方においては、軸Δに相対する光Ｉｉ！５５，５
６．５７ＩＣ対称的な光線５８．　！１９゜６０によっ
て図の水平面上で範囲を定められる。これらの領域は、
図において白く示されており、他の領域は、源３によっ
て占められた空間を含んでおり、影で示される。総ての
このような放射のこれらの自由領域記において、図面の
水平面における６１及び６２のようなプロフィルを有し
た反射表面が配置されている。これらの外形部は、源に
よって放射された放射量を捕獲し、利用平面に向う角度
φ及びφ′内でこれを反射する。プロフィル６１及び６
２は、第４図における領域ＲＧ’及びＪ’　Ｐにおける
如く、光度の急激な減少あるいは第３図の領域ＤＤ’の
如く輝度を減少させる領域における平均利用平面８　（
第３図及び第４図を参照）に達する光線φ及びφ′の如
き軸Δに対して傾斜している。平均利用平面８における
輝度の均質化はこのようにしてより改善される。反射面
のプロフィルは６１及び６２に示すように、みがかれき
れいにされたアルミニウムにおける回転のピラミッド状
の領域あるいは円錐状領域により改善されるであろう。

第２０図のリファレンスで述べられたピラミッド状の場
合、面１９に直角な円錐領域の２つの面は第２１図のリ
ファレンスに述べられた反射表面２５及び２Ｇの如き動
作を番する。本発明の他の実質例は、源３の長手方向軸
１８（第３０図参照）に向う方向における放射光線の投
射に対応する。図面の水平面は第２０図における水平面
１９である。この水平面において、放射体４により放射
された非ランバート分布状態の光線は、固定角６３内に
含まれる。

放射体を通過する図面の水平面に直交する水平面におい
て、放射された光線はランバート分布に従１総での放射
された光線は、放射体４に−・致する。

一つの焦点Ｆ１の軸１８にｍ　する楕円形ミラーの回転
により捕獲される。中間軸である軸１８を有した円錐状
又はピラミッド状ミラー６５は、楕円状ミラー６４の第
２の焦点Ｆ２に一致する中心を有するよづいて選ばれた
寸法の最大投射角θの放射光線を捕獲する。

現在では、多くの点又はおおよその点源放射体は、金属
ハロゲン化雰囲気における短いアークランプであり、水
平に近い位置において使用されねばならず、垂直に使用
されない。現在におけるこの要素は、水平に対してごく
わずかに傾斜しなければならないであろう光束を発する
放射光線投射器が、丁度述べられた実施例の使用を制限
する。

このことは、ある投射器における場合に有り得、通常は
映画フィルム投射器に伴う場合である。

最後に、一つの特定された本発明の実施例は、装置の中
間軸に対して直交して並進移動する円錐状又はピラミッ
ド状ミラーの反射面に面しており、このようにして、こ
れらの間の距離を、円錐状又はピラミッド状ミラーの頂
上で半角νの値を−・定に維持し乍ら、変化させる。こ
の実施例は、熟練技術の力に含まれ且つ知られた手段の
すべてのやり方によって達成される単純な機械アセンブ
リのために図示されていない。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は、２つの異なる光の場合における円
錐状又はピラミッド状ミラーの子午的断面図、第３図及
び第４図は、２つの異なる光の場合に平均利用面に達す
る放射量の分布状態図、第５図及び第６図は、２つの異
なる光の場合に利用する平均利用面上における輝度の分
布状態図、第７図及び第８図は、２つの異なる光の場合
における本発明による円錐状又はピラミッド状ミラーの
寸法の関係を示す幾何学的な線図、第９図及び第１０図
は、第１の寸法配列に対応する光束の分布状態図及び輝
度縮図、第１１図及び第１２図は、第２の寸法配列に対
応する光束の分布状態図及び輝度線図、第１３図及び第
１４図は、湾曲した反射面プロフィル及びその光学的効
果を示す図、第１５図及び第１６図は、第１３図及び第
１４図の曲面形状によって得られた輝度線図及び光束の
分布状態図、第１７図は、１９図は、ランバート源及び
非ランバート源に関する夫々の強度分布状態の極図、第
２０図はデバイス（装置）をピラミッドの二つの側面に
まで縮小させた一具体例図、第２１図は、放射線の放出
がランバート分布でない区域における補助のミラーを追
加して改良したものを示す図、第２２図は、環状の形を
有した後部反射表面の−・部分図、第２３図は、前記一
部分と任意の反射体との結合を示す図、第２４図は、放
射源自体へ前記一部分を結合させた図、第２５図は、円
錐状又はピラミッド状ミラー及び３つの後部ミラーの両
方を有した装置を示す図、第２６図は、いわゆる６０度
の開口半角度の場合における本装置の一例を透視的に示
１図、第２７図は、いわゆ６４０度の開口半角度の場合
における本装置の年内断面を示す一例図、第２９図は、
既に説明したミラーの中に第２の円錐状又はピラミッド
状ミラーの頂点の区域を追加したものを示す図、第３０
図は、生じた光束を放射線源の長手方向値軸の方向に向
けた具体例を示す図である １・・・・・・ミラー、３・・・・・・放射源、５，６
・・・・・・反射面、１９、２０・・・・・・面、３２
・・自・・中心。

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. （１）放射源を内蔵しており、投射された放射線の強度
   が最大値と最大値の１／２のオーダの値との間で変化す
   る所定の所謂開口角の値をもつ線束を所与の平均使用面
   上で生じさせる光学的放射線投射デバイスであつて、デ
   バイスが反射器を含んでおり、該反射器が協働する光源
   に関して使用面側に位置する前部と後部とを有しており
   、前記開口角内部で放射線をできるだけ均質にするため
   に、反射器の前部が円錐状又はピラミッド状のミラーか
   らなり、該ミラーは少なくとも２つの対向反射面をもち
   該反射面の寸法と空間位置とは実質的に、次元関係式 （ｂ−ａ）／ｈ＝ｔｇν ｈ／ｂ＝ｃｏｔｇ（２ν−β） を満足させるように選択されており、式中のΥは円錐状
   又はピラミッド状のミラーの対向反射面のプロフィルの
   平均半角であつてデバイスの所謂開口角の０．４８倍の
   オーダの値を有しており、式中のａは円錐状又はピラミ
   ッド状のミラーの小さい方の断面内での対向反射面の各
   プロフィルからミラーの中間軸までの距離であつてその
   値はほぼ該小さい方の断面の内部に配置された前記放射
   源の外側寸法に対して所定の値（好ましくは最小の値）
   であり、式中のｂは円錐状又はピラミッド状のミラーの
   大きい方の断面内での対向反射面の各プロフィルからミ
   ラーの中間軸までの距離であり、式中のｈは前記中間軸
   に於ける円錐状又はピラミッド状のミラーの小さい方の
   断面と大きい方の断面との間の距離であり、βは三角関
   数、即ち、円錐状又はピラミッド状のミラーの大きい方
   の断面内の前記反射面の１つのプロフィルの縁端に位置
   する１点から始まる前記中間軸に平行な１つの線と放射
   源から発射され反射面上の前記点で反射された光線とに
   よつて限定される反時計回り方向の角度であつて、この
   角度は所定の値を有しており、正符号のときは前記次元
   関係式と前記距離ｂ、ｈの実用可能な許容最大値とによ
   つて与えられる制約を配慮すべくデバイスの所謂開口角
   の１／２にできるだけ近い値に設定され、負符号のとき
   は 式　ｔｇβ＝ｂ／ｄ によつて決定され、式中のｄは前記平均使用面と前記円
   錐状又はピラミッド状のミラーの大きい方の断面との間
   の距離であること、及び、前記反射器の後部の少なくと
   も一部が反射性であり源の軸方向前方に中心をもつ円弧
   状子午的断面を少なくとも１つ有しており、反射された
   放射線が源の最も外側の部分の前方に位置する収束点を
   有しており、この反射された放射線は、最終的に得られ
   る全部の線束が所要の値をもつデバイスの所謂開口角の
   範囲内に分布するような角度で、実質的に均質分布に従
   つて前記収束点から伸びることを特徴とする光学放射線
   投射デバイス。
2. （２）配向角度が正の値である場合、対向反射面のプロ
   フィルの平均半角の値がデバイスの所謂開口角に対して
   、式 ν≒０．５２α で示される関係を有することを特徴とする特許請求の範
   囲第１項に記載のデバイス。
3. （３）対向反射面が、円錐状又はピラミッド状のミラー
   の小さい方の断面端と大きい方の断面端とのうちの少な
   くとも１つの近傍に弯曲部を有しており、該弯曲部の凸
   面側が前記ミラーの中間軸の方向に向けられていること
   を特徴とする特許請求の範囲第１項に記載のデバイス。
4. （４）対向反射面の少なくとも１／２に相当する部分全
   体が、円錐状又はピラミッド状のミラーの中間軸の方向
   を指向する凸面を有することを特徴とする特許請求の範
   囲第３項に記載のデバイス。
5. （５）円錐状又はピラミッド状のミラーの反射面が中間
   軸に垂直な源面に到達しない程度まで後方に伸びており
   、該延長部は、源から発した光線が入射角零で反射面の
   プロフィルに到達するような反射面上の一点まで延びて
   いてもよいことを特徴とする特許請求の範囲第１項に記
   載のデバイス。
6. （６）放射源が、子午的断面に非ランバート強度分布を
   有し、強度が最大値と零値との間で変化する１８０度未
   満の総発射角度と強度が最大値とその１／２に等しい値
   との範囲内で変化する所謂開口角とを有するタイプの源
   であり、上午的断面に垂直な子午的断面ではランバート
   の強度分布が実質的に維持されており、デバイスの所謂
   開口角と源固有の所謂開口角とは互いに適合すべく構成
   されており、円錐状又はピラミッド状のミラーが２つの
   対向反射面のみを有しており、該反射面のプロフィルの
   幾何学的特性がミラーの断面内で、非ランバート強度分
   布をもつ子午的断面に垂直な対称面によつて限定される
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載のデバイ
   ス。
7. （７）デバイスが、非ランバート強度分布をもつ子午的
   断面に垂直な２つの反射面を含んでおり、該反射面は、
   放射源によつて前方に発射された線束のうちで全線束の
   縁端光線と源固有の所謂開口角に対応する光線との間に
   含まれる線束部分を捕捉するように構成されており、こ
   れら２つの反射面は、デバイスの所謂開口角のオーダの
   値をもつ角度以内で前記線束部分を平均使用面に反射す
   ることを特徴とする特許請求の範囲第６項に記載のデバ
   イス。
8. （８）円弧状の反射性後部の部分が放射源に組込まれて
   いることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載のデ
   バイス。
9. （９）デバイスが、前部構造と後部構造との双方を含む
   タイプのデバイスであり、後部が２つの反射面を有して
   おり、該反射面と連続的又は非連続的に該反射面に隣接
   する部分が反射面の夫々の側に１つずつ角度をつけて配
   置されており、放射源上に中心をもつ円弧状の子午的断
   面を有することを特徴とする特許請求の範囲第１項に記
   載のデバイス。
10. （１０）円錐状又はピラミッド状のミラーの反射面の後
    部に向つて延長部が設けられているので、隣接する２つ
    の反射面に於いて源から放射線を受容しない部分が全く
    存在しないことを特徴とする特許請求の範囲第５項又は
    第９項に記載のデバイス。
11. （１１）デバイスが、前部構造と後部構造との双方を含
    むタイプのデバイスであり、後部が２つの反射面を有し
    ており、該反射面は夫々の側に１つずつ角度をつけて配
    置された部分と隣接しており、源から出た放射源は円錐
    状もしくはピラミッド状ミラーの小さい方の断面の内部
    又は小さい方の断面の外部又は小さい方の断面の内部と
    外部との双方を介して使用面に反射されることを特徴と
    する特許請求の範囲第１項に記載のデバイス。
12. （１２）円錐状又はピラミッド状ミラーの内部で、放射
    源によつて発射された光線がミラーの所謂開口角内に存
    在せず対向反射面によつて反射された光線も存在せず１
    つ以上の反射性後部によつて反射された光線も存在しな
    い領域内で、前記源が占めるスペースの外部にミラーが
    配置されており、該ミラーは、反射器の中間軸に対する
    角度がデバイスの所謂開口角の１／２と円錐状又はピラ
    ミッド状ミラーの大きい方の断面の縁端での正接光線の
    最大角度との間の角度になるような方向で放射源から前
    方に発射される線束を捕捉しこれら線束を輝度の低下し
    た使用面上の領域に反射することを特徴とする特許請求
    の範囲第１項に記載のデバイス。
13. （１３）放射源が、子午的断面に非ランバート分布をも
    つ線束を使用し総発射角１８０度未満のタイプの放射源
    であり、円錐状又はピラミッド状ミラーが、この線束の
    対称軸の回りの回転体たる楕円ミラーと協働しており、
    １つの焦点が源と一致し、別の焦点が円錐状又はピラミ
    ッド状ミラーの小さい方の断面の実質的に中心に配置さ
    れていることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載
    のデバイス。
14. （１４）円錐状又はピラミッド状のミラーの対向反射面
    は、円錐状又はピラミッド状のミラーの平均頂点半角の
    値を維持しつつ相互間の間隔を変更できるように、デバ
    イスの中間軸に垂直に平行移動し得ることを特徴とする
    特許請求の範囲第１項に記載のデバイス。