JPS61258401A - ベ−スメタル抵抗塗料 - Google Patents
ベ−スメタル抵抗塗料Info
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- JPS61258401A JPS61258401A JP61040126A JP4012686A JPS61258401A JP S61258401 A JPS61258401 A JP S61258401A JP 61040126 A JP61040126 A JP 61040126A JP 4012686 A JP4012686 A JP 4012686A JP S61258401 A JPS61258401 A JP S61258401A
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- tin oxide
- tantalum
- screening agent
- paint
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/02—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C17/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
- H01C17/06—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for coating resistive material on a base
- H01C17/065—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for coating resistive material on a base by thick film techniques, e.g. serigraphy
- H01C17/06506—Precursor compositions therefor, e.g. pastes, inks, glass frits
- H01C17/06513—Precursor compositions therefor, e.g. pastes, inks, glass frits characterised by the resistive component
- H01C17/06533—Precursor compositions therefor, e.g. pastes, inks, glass frits characterised by the resistive component composed of oxides
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- H01C—RESISTORS
- H01C7/00—Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material
- H01C7/06—Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material including means to minimise changes in resistance with changes in temperature
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はベースメタル（ｂａｓｅ ｍｅｔａｌ）抵抗塗
料、抵抗塗料でつくった抵抗体、および抵抗塗料の製法
に関る、。さらに詳しく述ぺると、本発明は、２０〜２
５％のタンタルガラスフリットと７５〜８０％の酸化錫
を２５〜３５％のスクリーニング剤とよく混合したもの
からなり、不活性雰囲気中、最高温度約９００℃での焼
付は用のベースメタル抵抗塗料を形成る、。タンタルガ
ラスフリットは５〜２５％の酸化タンタルからなるのが
好ましい。酸化錫は、りメタルガラスフリットと混合る
、前に、還元ガスの存在下、４５０〜６００℃で予熱る
、のが好ましい。
料、抵抗塗料でつくった抵抗体、および抵抗塗料の製法
に関る、。さらに詳しく述ぺると、本発明は、２０〜２
５％のタンタルガラスフリットと７５〜８０％の酸化錫
を２５〜３５％のスクリーニング剤とよく混合したもの
からなり、不活性雰囲気中、最高温度約９００℃での焼
付は用のベースメタル抵抗塗料を形成る、。タンタルガ
ラスフリットは５〜２５％の酸化タンタルからなるのが
好ましい。酸化錫は、りメタルガラスフリットと混合る
、前に、還元ガスの存在下、４５０〜６００℃で予熱る
、のが好ましい。
スクリーニング剤は、不活性雰囲気中での熱分解で、炭
素非含有残留物を形成る、ものが好ましい。
素非含有残留物を形成る、ものが好ましい。
酸化錫化合物は抵抗体の主な導電性材料として長年使用
されてきた。酸化錫膜は塩化錫溶液の噴霧および加熱に
よって：蒸発またはスパッター法によって、薬品蒸着に
よって、または厚膜法によってつくりつる。
されてきた。酸化錫膜は塩化錫溶液の噴霧および加熱に
よって：蒸発またはスパッター法によって、薬品蒸着に
よって、または厚膜法によってつくりつる。
厚膜法は２５年以上の間電子工業において使用されてき
た。厚膜法では、適当な基板上に抵抗塗料を所望のパタ
ーンに印刷し焼付ける。厚膜法で使用される抵抗塗料に
は一般に導電性材料、ガラスフリットおよびスクリーニ
ング剤が含まれる。
た。厚膜法では、適当な基板上に抵抗塗料を所望のパタ
ーンに印刷し焼付ける。厚膜法で使用される抵抗塗料に
は一般に導電性材料、ガラスフリットおよびスクリーニ
ング剤が含まれる。
初期の厚膜抵抗塗料パターンは導電性材料の組成のみが
異なっていた。ガラスフリットは溶融後、導電性材料を
基板に結合る、結合剤として主に使用された。ガラスフ
リットの化学組成は、その融点が使用る、導電性材料の
融点より低いことが必要であるという点のみが重要であ
ると考えられた。
異なっていた。ガラスフリットは溶融後、導電性材料を
基板に結合る、結合剤として主に使用された。ガラスフ
リットの化学組成は、その融点が使用る、導電性材料の
融点より低いことが必要であるという点のみが重要であ
ると考えられた。
スクリーニング剤は均質性と印刷の容易さの点において
選択された。商業的に入手可能なガラスフリットおよび
スクリーニング剤が一般に使用された。
選択された。商業的に入手可能なガラスフリットおよび
スクリーニング剤が一般に使用された。
特定の材料は、所望の広範囲な抵抗率および低いＴＣＲ
（抵抗の温度係数）を得るために、一般的には酸化錫粉
末と混合された。
（抵抗の温度係数）を得るために、一般的には酸化錫粉
末と混合された。
１９６７年３月、Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｃｏｍｐｏｎ
ｅｎｔｓ Ｍａｇａｚｉｎｅに“旧ｇｈ Ｖａｌｕｅ、
Ｈｉｇｈ Ｖｏｌｔａｇｅ Ｒｅ５ｉｓｔｏｒｓ″と
題して発表された論文の中で、Ｄｅａｒｄｅｎは酸化錫
と共にドープした酸化アンチモンを使用して二成分抵抗
塗料をつくることを示しているが、得られた最良のＴＣ
Ｒは一１５００ｐｐｍ ／’Ｃであった。
ｅｎｔｓ Ｍａｇａｚｉｎｅに“旧ｇｈ Ｖａｌｕｅ、
Ｈｉｇｈ Ｖｏｌｔａｇｅ Ｒｅ５ｉｓｔｏｒｓ″と
題して発表された論文の中で、Ｄｅａｒｄｅｎは酸化錫
と共にドープした酸化アンチモンを使用して二成分抵抗
塗料をつくることを示しているが、得られた最良のＴＣ
Ｒは一１５００ｐｐｍ ／’Ｃであった。
にａｇ＋ｉｇａｉｔｏ （米国特許第３，９１５，７２
１号）は２％の酸化タンタル、酸化アンチモンおよび酸
化錫の粉末を含有る、三成分導電塗料の特許権を得た。
１号）は２％の酸化タンタル、酸化アンチモンおよび酸
化錫の粉末を含有る、三成分導電塗料の特許権を得た。
にｕｄｅｎ等（米国特許第３，９２８，２４２号）は酸
化ルテニウム抵抗体と共に使用る、た、めのタンタルガ
ラスフリットの使用を説明している。ｕｏｒｉｇｕｃｈ
ｔ等（米国特許第３，９００，３３０号）は表面電荷密
度を改良る、ため０．１〜２５％のＴａ ２０ｓを含有
る、亜鉛−シールガラスの特許権を得た。−ａｈｌｅｒ
ｓ等（米国特許第４，０６５．７４３号）は標準化ガラ
スフリットと共に使用る、ための酸化錫および酸化タン
タルの二成分導電材料の使用の特許権を得た。
化ルテニウム抵抗体と共に使用る、た、めのタンタルガ
ラスフリットの使用を説明している。ｕｏｒｉｇｕｃｈ
ｔ等（米国特許第３，９００，３３０号）は表面電荷密
度を改良る、ため０．１〜２５％のＴａ ２０ｓを含有
る、亜鉛−シールガラスの特許権を得た。−ａｈｌｅｒ
ｓ等（米国特許第４，０６５．７４３号）は標準化ガラ
スフリットと共に使用る、ための酸化錫および酸化タン
タルの二成分導電材料の使用の特許権を得た。
Ｗａｈｌｅｒｓ等（米国特許第４，２１５，０２０号）
はまた酸化錫抵抗体と共に使用る、ための三成分導電材
料の特許権を得た。最近ではＷａｈｌｅｒＳ等（米国特
許第４，３７８，４０９号および第４，３９７，９１５
号）は３０〜４０％の酸化バリウムガラスフリットと共
に使用る、ための酸化錫材料、および２０％以上の酸化
珪素を有る、ガラスフリットを特許請求した。
はまた酸化錫抵抗体と共に使用る、ための三成分導電材
料の特許権を得た。最近ではＷａｈｌｅｒＳ等（米国特
許第４，３７８，４０９号および第４，３９７，９１５
号）は３０〜４０％の酸化バリウムガラスフリットと共
に使用る、ための酸化錫材料、および２０％以上の酸化
珪素を有る、ガラスフリットを特許請求した。
一般的なガラスフリットに見られる化合物は鉱物と無機
物である。これらの化学物質は多くの好ましくない性質
、たとえば高いＴＣＰ ；広範囲に変化る、熱安定性；
不十分な短時間過負荷特性；不均一な混合による不定の
抵抗値；および目に見える亀裂等を示す。ベースメタル
抵抗塗料は組成に貴金属を含有しない抵抗塗料である。
物である。これらの化学物質は多くの好ましくない性質
、たとえば高いＴＣＰ ；広範囲に変化る、熱安定性；
不十分な短時間過負荷特性；不均一な混合による不定の
抵抗値；および目に見える亀裂等を示す。ベースメタル
抵抗塗料は組成に貴金属を含有しない抵抗塗料である。
本発明は、酸化錫およびスクリーニング剤、好ましくは
炭素非含有残留物を形成る、有機化合物スクリーニング
剤、と共に混合して、その後の不活性雰囲気中最高温度
約９００℃での焼付けのための基板のスクリーニング用
のベースメタル抵抗塗料をつくるのに使用る、タンタル
ガラスフリット、好ましくはタンタルストロンチウムガ
ラスフリットについて明らかにる、。タンタルガラスフ
リットおよび酸化錫は、混合前に、１０ミクロン以下の
粒子サイズに粉砕る、のが好ましい。
炭素非含有残留物を形成る、有機化合物スクリーニング
剤、と共に混合して、その後の不活性雰囲気中最高温度
約９００℃での焼付けのための基板のスクリーニング用
のベースメタル抵抗塗料をつくるのに使用る、タンタル
ガラスフリット、好ましくはタンタルストロンチウムガ
ラスフリットについて明らかにる、。タンタルガラスフ
リットおよび酸化錫は、混合前に、１０ミクロン以下の
粒子サイズに粉砕る、のが好ましい。
タンタルガラスフリット粉末は２０〜２５％対酸化錫粉
末７５〜８０％の割合でよく混合る、。２５〜３５％の
割合でスクリーニング剤をタンタルガラスフリットおよ
び酸化錫粉末へ加え、よく混合して、その後のスクリー
ニングおよび不活性雰囲気中、最高濃度９００℃±２０
℃での焼付けのためのベースメタル抵抗塗料をつくり、
±３００１）Ｅ１ｍ／ ’Ｃ内のＴＣＲを有る、基板上
の抵抗パターンを形成る、。
末７５〜８０％の割合でよく混合る、。２５〜３５％の
割合でスクリーニング剤をタンタルガラスフリットおよ
び酸化錫粉末へ加え、よく混合して、その後のスクリー
ニングおよび不活性雰囲気中、最高濃度９００℃±２０
℃での焼付けのためのベースメタル抵抗塗料をつくり、
±３００１）Ｅ１ｍ／ ’Ｃ内のＴＣＲを有る、基板上
の抵抗パターンを形成る、。
ここに述べた抵抗塗料は改良された熱安定性および短時
間過負荷を示し：化合物の均質混合の改良によりきちっ
とした抵抗値を維持し；そして適当な基板上ヘスクリー
ニングした焼付は抵抗塗料の目に見える亀裂および裂離
を減少させて物理的外観を改良る、。さらに、多くの酸
化錫抵抗塗料の焼付けに対して一般的に行なわれている
最高温度１０００℃〜１１００℃での焼付けに較べて、
最高Ｉｆｔ・９００℃で焼付けることによって、エネル
ギー、炉の寿命および維持における費用が節約されるこ
とになる。
間過負荷を示し：化合物の均質混合の改良によりきちっ
とした抵抗値を維持し；そして適当な基板上ヘスクリー
ニングした焼付は抵抗塗料の目に見える亀裂および裂離
を減少させて物理的外観を改良る、。さらに、多くの酸
化錫抵抗塗料の焼付けに対して一般的に行なわれている
最高温度１０００℃〜１１００℃での焼付けに較べて、
最高Ｉｆｔ・９００℃で焼付けることによって、エネル
ギー、炉の寿命および維持における費用が節約されるこ
とになる。
従って、一つの目的は改良された厚膜抵抗塗料を提供る
、ことである。
、ことである。
他の目的は、ＴＣＰが±３００１１ＤＩ／’Ｃ内の抵抗
塗料を形成る、ように、タンタルガラスフリット、酸化
錫粉末およびスクリーニング剤を混合した抵抗塗料を提
供る、ことである。
塗料を形成る、ように、タンタルガラスフリット、酸化
錫粉末およびスクリーニング剤を混合した抵抗塗料を提
供る、ことである。
他の目的は、タンタルガラスフリットおよび酸化錫粉末
からつくった抵抗体の製造法を提供る、ことである。
からつくった抵抗体の製造法を提供る、ことである。
他の目的は、不活性雰囲気中で熱分解したとき炭素を含
まない残留物となる、ベースメタル抵抗塗料に使用る、
スクリーニング剤を提供る、ことである。
まない残留物となる、ベースメタル抵抗塗料に使用る、
スクリーニング剤を提供る、ことである。
また他の目的は、最高温度約９００℃での焼付けに適し
たタンタルガラスフリットおよび酸化錫抵抗塗料を提供
る、ことである。
たタンタルガラスフリットおよび酸化錫抵抗塗料を提供
る、ことである。
さらに他の目的は、前記の目的のいずれかの抵抗塗料か
らつくった抵抗体を提供る、ことである。
らつくった抵抗体を提供る、ことである。
本発明の上記のおよび他の特徴および目的そしてこれら
を達成る、方法は、添付の図面と共に以下の本発明の具
体的な記載からよく理解されるであろう。
を達成る、方法は、添付の図面と共に以下の本発明の具
体的な記載からよく理解されるであろう。
第１図は、本発明の抵抗塗料でつくった焼付は前の抵抗
体の部分断面図である。
体の部分断面図である。
第１Ａ図は、焼付は温度のＴＣＲへの効果を比較る、グ
ラフである（Ｓｎ ０２を５２０℃で還元）。
ラフである（Ｓｎ ０２を５２０℃で還元）。
第１６図は、焼付は温度のシート抵抗（オーム／平方）
への効果を比較る、グラフである（Ｓｎ ０２ ｔ ５
２０℃テ還元）。
への効果を比較る、グラフである（Ｓｎ ０２ ｔ ５
２０℃テ還元）。
第２Ａ図は、焼付け１度のＴＣＰへの効果を比較る、グ
ラフである（Ｓｎ Ｏｚを４５０℃で還元）。
ラフである（Ｓｎ Ｏｚを４５０℃で還元）。
第２Ｂ図は、焼付は温度のシート抵抗（オーム／平方〉
への効果を比較る、グラフである（ＳｎＯ２を４５０℃
テ還元）。
への効果を比較る、グラフである（ＳｎＯ２を４５０℃
テ還元）。
第３図は、シート抵抗およびＴ’ＣＲ１，：おけるＳｎ
Ｏ２’／り゛ンタルガラス比の一効果を比較る、グラフ
である。
Ｏ２’／り゛ンタルガラス比の一効果を比較る、グラフ
である。
第４図は明細書に記載の例１〜４の性質を比較る、図で
ある。
ある。
第５図はタンタルガラスフリット、酸化錫およびスクリ
ーニング割−の抵抗体の製法を示すフローチャートであ
る。
ーニング割−の抵抗体の製法を示すフローチャートであ
る。
本発明の主題゛は特許請求の範囲に明確に指摘しである
。本発明の構成および効果は、目的および利点と共に添
付の図面と関連させた以下の記載からさらによく′理解
されるであろう。
。本発明の構成および効果は、目的および利点と共に添
付の図面と関連させた以下の記載からさらによく′理解
されるであろう。
第１図は、焼付は前の本発明のベースメタル抵うな基板
１２からなり、その後の焼付けのためにスクリーニング
したあるいは別の被覆を行なった本発明の抵抗塗料１４
の層を有る、。抵抗塗料１４は、タンタルガラスフリッ
ト２０〜２５％対酸化錫７５〜８０％の好ましい割合の
タンタルガラスフリット１６と酸化錫１８との混合物か
らなる、注：ここに記載の全ての組゛成は重量％に基づ
く。
１２からなり、その後の焼付けのためにスクリーニング
したあるいは別の被覆を行なった本発明の抵抗塗料１４
の層を有る、。抵抗塗料１４は、タンタルガラスフリッ
ト２０〜２５％対酸化錫７５〜８０％の好ましい割合の
タンタルガラスフリット１６と酸化錫１８との混合物か
らなる、注：ここに記載の全ての組゛成は重量％に基づ
く。
タンタルガラスフリット１６は融点が８００℃以下のも
のが好ましく、５〜２５％の酸化タンタル（Ｔａ ２０
５ ）よりなる。タンタルガラスフリット１６は少なく
とも一部が酸化ストロンチウム（Ｓｒ’Ｏ）または過酸
化ストロンチウム（Ｓｒ ０２ ）よりなるのが好まし
い。ガラス１７およびタンタル１９は粒子サイズ１０ミ
クロン以下に粉砕る、のが好ましく、次によく混合し、
再溶融しそして粉砕して本発明のタンタルガラスフリッ
トスフリット１６および酸化錫１８は１０ミクロン以下
の粒子サイズに粉砕る、の“が好ましく、得られた粉末
は、６５〜７５％のタンクルガラス７′、ッ、斜よ。Ｗ
ｉ化錫粉末対、５〜３５％。ユウ、−ニング剤の割合で
、スクリーニング剤２０に加える。
のが好ましく、５〜２５％の酸化タンタル（Ｔａ ２０
５ ）よりなる。タンタルガラスフリット１６は少なく
とも一部が酸化ストロンチウム（Ｓｒ’Ｏ）または過酸
化ストロンチウム（Ｓｒ ０２ ）よりなるのが好まし
い。ガラス１７およびタンタル１９は粒子サイズ１０ミ
クロン以下に粉砕る、のが好ましく、次によく混合し、
再溶融しそして粉砕して本発明のタンタルガラスフリッ
トスフリット１６および酸化錫１８は１０ミクロン以下
の粒子サイズに粉砕る、の“が好ましく、得られた粉末
は、６５〜７５％のタンクルガラス７′、ッ、斜よ。Ｗ
ｉ化錫粉末対、５〜３５％。ユウ、−ニング剤の割合で
、スクリーニング剤２０に加える。
スクリーニング剤２０は、パイン油９０％中にブチル−
メタクリレート１０％を溶解させたもののような、不活
性雰囲気中で熱分解したとき、炭素非含有残留物を形成
る、ものが好ましい。
メタクリレート１０％を溶解させたもののような、不活
性雰囲気中で熱分解したとき、炭素非含有残留物を形成
る、ものが好ましい。
スクリーニング剤をつくるのに用いる溶媒はパイン油、
テルピネオール、テキサス・イーストマン社のＴｅｘａ
ｎｏ ｌのエステルアルコール、ブチルカルピトールア
セテート等である。結合剤として使用る、樹脂はデュポ
ン社または０−ム・アンド・ハース社のポリアルキルメ
タクリレート；またはアモコ・ケミカフレス社の＾膳ｏ
ｃｏ Ｈ−２５，Ａｍｏｃｏ １（−５０および＾−〇
ＣＯＬ−１００として入手可能なポリブチレン等である
。すぐれた塗料レオロジーを得るために、湿潤剤を加え
て固体粉末を湿らせてもよい。
テルピネオール、テキサス・イーストマン社のＴｅｘａ
ｎｏ ｌのエステルアルコール、ブチルカルピトールア
セテート等である。結合剤として使用る、樹脂はデュポ
ン社または０−ム・アンド・ハース社のポリアルキルメ
タクリレート；またはアモコ・ケミカフレス社の＾膳ｏ
ｃｏ Ｈ−２５，Ａｍｏｃｏ １（−５０および＾−〇
ＣＯＬ−１００として入手可能なポリブチレン等である
。すぐれた塗料レオロジーを得るために、湿潤剤を加え
て固体粉末を湿らせてもよい。
市販のスクリーニング剤の中には、不活性雰囲気中、高
温での焼付は後に、導電性の炭素残留物を含有る、もの
がある。このような炭素残留物は不活性雰囲気中の加熱
中、ＷＩ素と結合して酸化炭素を形成せず、従ってスク
リーニング剤中の炭素は抵抗塗料中に留まり、抵抗体１
０の調整された性能特性に悪い影響を及ぼす。
温での焼付は後に、導電性の炭素残留物を含有る、もの
がある。このような炭素残留物は不活性雰囲気中の加熱
中、ＷＩ素と結合して酸化炭素を形成せず、従ってスク
リーニング剤中の炭素は抵抗塗料中に留まり、抵抗体１
０の調整された性能特性に悪い影響を及ぼす。
第１図に示すように、タンタルガラスフリット１６はタ
ンタル１９およびガラス１７のよく混り合った混合物を
含む。これらは再溶融されそして粉砕されて本発明のタ
ンタルガラスフリット１６となる。
ンタル１９およびガラス１７のよく混り合った混合物を
含む。これらは再溶融されそして粉砕されて本発明のタ
ンタルガラスフリット１６となる。
タンタルガラ、スフリット１６を酸化錫１８と混合る、
と、混合操作中に酸化タンク”ルを抵抗塗料１４へ混合
る、ことによって容易に得られるものより、より均質な
混合物が得られる。従）て、第１図に示すように、タン
タルガラスフリット１６および酸化［１８は抵抗塗料１
４の層中によく分散している。抵抗塗料１４のより均質
な混合物が得られるので、抵抗特性が改良され、改良さ
れたそしてさらに調整可能な導電特性が以下に記載る、
ようにもたらされる。
と、混合操作中に酸化タンク”ルを抵抗塗料１４へ混合
る、ことによって容易に得られるものより、より均質な
混合物が得られる。従）て、第１図に示すように、タン
タルガラスフリット１６および酸化［１８は抵抗塗料１
４の層中によく分散している。抵抗塗料１４のより均質
な混合物が得られるので、抵抗特性が改良され、改良さ
れたそしてさらに調整可能な導電特性が以下に記載る、
ようにもたらされる。
第５図に示すように、酸化錫１８は酸化物を所望のレベ
ルにまで減じるのに十分な時間、還元ガス中で温度４５
０℃〜６００℃にまで予熱る、２２のが好ましい。予熱
２２を環状炉で行なう場合、酸化錫１８は１０分〜１時
間、Ｈ２２〜７％およびＮ２９３〜９８％雰囲気のよう
なガス中で予熱る、。次に予熱２２した酸化錫１６をタ
ンタルガラスフリット１６およびスクリーニング剤２０
と、好ましくは三本ロール練り機（図示せず）中で混合
して２４、タンタル１９および酸化錫１７がすみからず
みまで前記の好ましい割合で均一に分散している均質な
Ｉ！抗塗料１４を得る。
ルにまで減じるのに十分な時間、還元ガス中で温度４５
０℃〜６００℃にまで予熱る、２２のが好ましい。予熱
２２を環状炉で行なう場合、酸化錫１８は１０分〜１時
間、Ｈ２２〜７％およびＮ２９３〜９８％雰囲気のよう
なガス中で予熱る、。次に予熱２２した酸化錫１６をタ
ンタルガラスフリット１６およびスクリーニング剤２０
と、好ましくは三本ロール練り機（図示せず）中で混合
して２４、タンタル１９および酸化錫１７がすみからず
みまで前記の好ましい割合で均一に分散している均質な
Ｉ！抗塗料１４を得る。
スクリーニング剤２０は、不活性雰囲気中で熱分解した
とき炭素残留物を含まない、有機化合物が好ましい。焼
付け２８の前に、結合樹脂２１ｆスクリーニング剤２０
中に混ぜて、混合した抵抗塗料１４の結合特性を改良し
うる。タンタルガラスフリット１６、酸化１１６６よび
スクリーニング剤２０を均質な抵抗塗料に混合したら、
続いてこれらを、好ましくはシルクまたステンレス鋼ス
クリーンを通して、基板１２上にスクリーニングる、。
とき炭素残留物を含まない、有機化合物が好ましい。焼
付け２８の前に、結合樹脂２１ｆスクリーニング剤２０
中に混ぜて、混合した抵抗塗料１４の結合特性を改良し
うる。タンタルガラスフリット１６、酸化１１６６よび
スクリーニング剤２０を均質な抵抗塗料に混合したら、
続いてこれらを、好ましくはシルクまたステンレス鋼ス
クリーンを通して、基板１２上にスクリーニングる、。
基板１２は、不活性雰囲気中、約９００℃で厚膜綱導体
上へ予じめ焼付けたアルミナ基板であるのが好ましい。
上へ予じめ焼付けたアルミナ基板であるのが好ましい。
スクリーンの目の大きさは、後に示すように、焼付けた
抵抗塗料の抵抗特性に１響を及ぼす。好ましいスクリー
ンの目の大きさは１６５〜３２５メツシユである。
抵抗塗料の抵抗特性に１響を及ぼす。好ましいスクリー
ンの目の大きさは１６５〜３２５メツシユである。
スクリーニングの後、基板上に配置した抵抗塗料１４を
焼付け２８を行なう前に乾燥る、のが好ましい。抵抗塗
料および基板はそのＷ！窒零のような不活性雰囲気中、
ＪＩ高濃度９り０℃±２０℃で焼付けて２８、基板に融
着したガラス質のエナメルベースメタル抵抗体物質を形
成る、。
焼付け２８を行なう前に乾燥る、のが好ましい。抵抗塗
料および基板はそのＷ！窒零のような不活性雰囲気中、
ＪＩ高濃度９り０℃±２０℃で焼付けて２８、基板に融
着したガラス質のエナメルベースメタル抵抗体物質を形
成る、。
例１〜４はＴａ’ｚ ０３ （Ｊｌ化タンタル）をガ
ラスフリットへ添加した場合の利点を０％、２％。
ラスフリットへ添加した場合の利点を０％、２％。
５％および２０％Ｔａ ２０５の比較によって示すもの
である。各側はオーム／平方、１１瀾および低源ＴＣＲ
１熱安定性および５ＴＯＬ！測定して試験した。
である。各側はオーム／平方、１１瀾および低源ＴＣＲ
１熱安定性および５ＴＯＬ！測定して試験した。
以下の各側において、低！！ＴＣＲは一５５℃〜＋２５
℃で試験した；高温ＴＣＲは＋２５℃〜＋１２５℃で試
験した；熱安定性は１５０℃にて４８ＲＩｌｌ試験した
；５ＴＯＬは最高５００ボルトまたは５ワツトで試験し
た；そして試験を行なった抵抗体の大きさは０．０８２
ｘ Ｏ，１５６インチ、または２．５平方であった。
℃で試験した；高温ＴＣＲは＋２５℃〜＋１２５℃で試
験した；熱安定性は１５０℃にて４８ＲＩｌｌ試験した
；５ＴＯＬは最高５００ボルトまたは５ワツトで試験し
た；そして試験を行なった抵抗体の大きさは０．０８２
ｘ Ｏ，１５６インチ、または２．５平方であった。
゛ 例１はＴａ２０５を含まぬ（０％）のＳｔＯ２（５
％）＋５ｒＯ（３５％） ＋８２０３ （６０％）の
ガラスフリットからなる。これらの物質は均質なガラス
フリットとなるよう１２００℃に加熱した。
％）＋５ｒＯ（３５％） ＋８２０３ （６０％）の
ガラスフリットからなる。これらの物質は均質なガラス
フリットとなるよう１２００℃に加熱した。
次にこのガラスフリットを１０ミクロン以下の粒子サイ
ズの微粉末に粉砕した。３ｎＯ２（酸化錫）を次いでガ
ラスフリットへ、５ｎＯｚ（７５％）＋ガラスフリット
（２５％）の割合で加えた。例１はＴａ ２０ｓを含ん
でいなかった。材料を、残留物に炭素を含有しないスク
リーニング剤（３０％）とよく混合して、抵抗塗料を得
た。前記のように、これを続いてスクリーニングし、不
活性雰囲気中、９００℃で焼付けた。第４図の例１に示
すように、オーム／平方は６０にであり：高温および低
温ＴＣＰ値は極端に高く；熱安定性は２％であり；そし
て５ＴＯＬは３％であった。
ズの微粉末に粉砕した。３ｎＯ２（酸化錫）を次いでガ
ラスフリットへ、５ｎＯｚ（７５％）＋ガラスフリット
（２５％）の割合で加えた。例１はＴａ ２０ｓを含ん
でいなかった。材料を、残留物に炭素を含有しないスク
リーニング剤（３０％）とよく混合して、抵抗塗料を得
た。前記のように、これを続いてスクリーニングし、不
活性雰囲気中、９００℃で焼付けた。第４図の例１に示
すように、オーム／平方は６０にであり：高温および低
温ＴＣＰ値は極端に高く；熱安定性は２％であり；そし
て５ＴＯＬは３％であった。
例２は、加熱前にＴａ２０ｓ（２％）をガラスフリット
へ加えた例１のガラスフリットよりなる。
へ加えた例１のガラスフリットよりなる。
加熱しそして粉砕した後、Ｓｎ ０２をガラスフリット
へＳｎＯ２（７５％）＋Ｔａ２０ｓ（２％）を含有る、
ガラスフリット（２５％）の割合で加えた。
へＳｎＯ２（７５％）＋Ｔａ２０ｓ（２％）を含有る、
ガラスフリット（２５％）の割合で加えた。
これらの材料を残留物に炭素を含まぬ有機スクリーニン
グ剤（３０％）とよく混合して抵抗塗料を得た。これを
前記のようにその後スクリーニングしそして不活性雰囲
気中、９００℃で焼付けた。第４図の例２”に示すよう
に、オーム／平方は３１に；低ａ！ Ｔ ＣＲバー ２
２７０ｔ’ アリ：高Ｉ Ｔ ＣＲバー １０７４ｒあ
り；熱安定性は４％であり：５ＴＯＬは４％であった。
グ剤（３０％）とよく混合して抵抗塗料を得た。これを
前記のようにその後スクリーニングしそして不活性雰囲
気中、９００℃で焼付けた。第４図の例２”に示すよう
に、オーム／平方は３１に；低ａ！ Ｔ ＣＲバー ２
２７０ｔ’ アリ：高Ｉ Ｔ ＣＲバー １０７４ｒあ
り；熱安定性は４％であり：５ＴＯＬは４％であった。
例３は、加熱前にＴａ２０ｓ（５％）をガラスフリット
へ加えた例１のガラスフリットよりなる。
へ加えた例１のガラスフリットよりなる。
加熱しそして粉砕した後、３ｎ ０２をガラスフリット
へＳｎＯ２（７５％）＋Ｔａ２０５ （５％）を含有
る、ガラスフリット（２５％）の割合で加えた。
へＳｎＯ２（７５％）＋Ｔａ２０５ （５％）を含有
る、ガラスフリット（２５％）の割合で加えた。
これらの材料を残留物に炭素を含まぬスクリーニング剤
（３０％）とよく混合して抵抗塗料を得た。
（３０％）とよく混合して抵抗塗料を得た。
これを前記のようにスクリーニングしそして不活性雰囲
気中、９００℃で焼付けた。第４図の例３に示すように
、オーム／平方は９にであり：低温ＴＣＲは一２８５’
ｔ’ｉす；高２１！ＴＣＲバー２７９ ”１５す：熱安
定性は０．０３％であり：そして５ＴＯＬは０゜０５％
であった。
気中、９００℃で焼付けた。第４図の例３に示すように
、オーム／平方は９にであり：低温ＴＣＲは一２８５’
ｔ’ｉす；高２１！ＴＣＲバー２７９ ”１５す：熱安
定性は０．０３％であり：そして５ＴＯＬは０゜０５％
であった。
例４は、加熱前にＴａ ２０ｓ （２０％）をガラス
フリットへ加えた例１のガラスフリットよりなる。
フリットへ加えた例１のガラスフリットよりなる。
加熱しそして粉砕した後、Ｓ ｎ Ｏ２をガラスフリッ
トへ５ｎＯｚ（７５％） ＋Ｔａ ２０ｓ （２０％
）を含有る、ガラスフリット（２５％）の割合で加えた
。
トへ５ｎＯｚ（７５％） ＋Ｔａ ２０ｓ （２０％
）を含有る、ガラスフリット（２５％）の割合で加えた
。
これらの材料を残留物に炭素を含まぬスクリーニング剤
（３Ｇ％）とよく混合して抵抗塗料を得た。
（３Ｇ％）とよく混合して抵抗塗料を得た。
これを前記のようにスクリーニングしそして不活性雰囲
気中、９００℃で焼付けた。第４図の例４に示すように
、オーム／平方は１５にであり：低部ＴＣＰは−１８３
であり；高Ｉ！ＴＣＲは−１８７であり；熱安定性は０
．３％であり；そして５ＴＯＬは０、０１％であった。
気中、９００℃で焼付けた。第４図の例４に示すように
、オーム／平方は１５にであり：低部ＴＣＰは−１８３
であり；高Ｉ！ＴＣＲは−１８７であり；熱安定性は０
．３％であり；そして５ＴＯＬは０、０１％であった。
例１〜４に示すように、Ｔａ ２０５のガラスフリット
への添加でＴＣＰがかなり変化る、。例３が示すように
Ｔａ ２０５５％ののガラスフリットへの添加で、ＴＣ
Ｒは±３００１）Ｉ）ｌ／ ’Ｃより低くなり、これは
たいていの厚膜への適用に満足なものと考えられる。例
４が示すように、Ｔａ ２０ｓ ２０％のガラスフリッ
トへの添加で、ＴＣＰは±２００１）ｐＩ／℃より低く
なり、これは好ましいものである。
への添加でＴＣＰがかなり変化る、。例３が示すように
Ｔａ ２０５５％ののガラスフリットへの添加で、ＴＣ
Ｒは±３００１）Ｉ）ｌ／ ’Ｃより低くなり、これは
たいていの厚膜への適用に満足なものと考えられる。例
４が示すように、Ｔａ ２０ｓ ２０％のガラスフリッ
トへの添加で、ＴＣＰは±２００１）ｐＩ／℃より低く
なり、これは好ましいものである。
他の重要な改良は熱安定性および５ＴＯＬにおけるもの
である。例１および２の２〜４％の変化はたいていの場
合不満足なものである。しかしながら、Ｔａ ２０ｓの
含有量を５％以上に増すと、熱安定性および５ＴＯＬは
０．３％以下となり、これはたいていの厚膜抵抗体の厳
しい適用に必要とされる０、５％より低い好ましい範囲
内である。
である。例１および２の２〜４％の変化はたいていの場
合不満足なものである。しかしながら、Ｔａ ２０ｓの
含有量を５％以上に増すと、熱安定性および５ＴＯＬは
０．３％以下となり、これはたいていの厚膜抵抗体の厳
しい適用に必要とされる０、５％より低い好ましい範囲
内である。
タンタルガラスフリットをつくるためにガラスフリット
へＴａ ２０ｓを添加る、ことによって、Ｔａ ２０ｓ
粒子、酸化錫、タンタル非含有ガラスフリットおよびス
クリーニング剤の混合物と較べて、より均質でむらのな
い抵抗体塗料が得られる。
へＴａ ２０ｓを添加る、ことによって、Ｔａ ２０ｓ
粒子、酸化錫、タンタル非含有ガラスフリットおよびス
クリーニング剤の混合物と較べて、より均質でむらのな
い抵抗体塗料が得られる。
同じ百分率組成で、タンタルガラスフリットのＣＶ（分
散係数）は、混合組成物が１３〜１４％であるのに較べ
て、８〜９％である。
散係数）は、混合組成物が１３〜１４％であるのに較べ
て、８〜９％である。
印刷技術および塗料レオロジーが改良されるとＣＶが同
じ割合で改良される。すなわち、印刷技術および塗料レ
オロジーの改良が混合組成物のＣｖを１０〜１１％に減
じるということは、またタンタルガラスフリット抵抗体
のＣＶを５〜６％に減じることでもあり、これは大きな
改良となる。
じ割合で改良される。すなわち、印刷技術および塗料レ
オロジーの改良が混合組成物のＣｖを１０〜１１％に減
じるということは、またタンタルガラスフリット抵抗体
のＣＶを５〜６％に減じることでもあり、これは大きな
改良となる。
一般的に、酸化錫を使用している厚膜ベースメタル抵抗
体は、熱安定性を改良る、ために１０００℃以上で焼付
ける（米国特許第４．１３７．５１９号および第４，０
６５．７４３号参照）。これより低い濃度では、ガラス
フリットはよく焼結されず、熱安定性が低下すｉ。５％
以上のＴａ ２０ｓをガラスフリットに添加る、ことに
より、フリットは９００℃±２０℃でよく焼結される。
体は、熱安定性を改良る、ために１０００℃以上で焼付
ける（米国特許第４．１３７．５１９号および第４，０
６５．７４３号参照）。これより低い濃度では、ガラス
フリットはよく焼結されず、熱安定性が低下すｉ。５％
以上のＴａ ２０ｓをガラスフリットに添加る、ことに
より、フリットは９００℃±２０℃でよく焼結される。
第４図の例４の配合物を使い、そして第１ＡＩ３よび１
６図に示すように不活性雰囲気中での焼付は温度を８０
０℃〜１０００℃に変化させたところ、最も安定な高温
および低！ＩＴｃＲは約９００℃±２０℃で生じた。
６図に示すように不活性雰囲気中での焼付は温度を８０
０℃〜１０００℃に変化させたところ、最も安定な高温
および低！ＩＴｃＲは約９００℃±２０℃で生じた。
第１Ａ図に示されているように、焼付は温度９０Ｇ℃±
２０℃での高温および低層ＴＣＲ値は±２００１）ＤＩ
／ ’Ｃより小さく、これは高度の信頼性が望まれる抵
抗体には好ましい値である。
２０℃での高温および低層ＴＣＲ値は±２００１）ＤＩ
／ ’Ｃより小さく、これは高度の信頼性が望まれる抵
抗体には好ましい値である。
第２Ａおよび第２Ｂ図に示すように、Ｓｎ ０２を例４
のタンタルガラスフリットと３：１すなわち５１１０２
（７５％）十タンタルガラスフリット（２５％）の割合
で混合る、前に、５ｎ ０２を８２７％およびＮ２９３
％の還元雰囲気中、１度４５０℃で予熱した。これらの
材料を残留物に炭素を含まぬスクリーニング剤（３０％
）とよく混合して抵抗塗料を得る。これをその後基板上
にスクリーニングしそして不活性雰囲気中で第２Ａおよ
び第２Ｂ図に示す８００℃〜１ｏｏｏ℃の様々な温度で
焼付けた。
のタンタルガラスフリットと３：１すなわち５１１０２
（７５％）十タンタルガラスフリット（２５％）の割合
で混合る、前に、５ｎ ０２を８２７％およびＮ２９３
％の還元雰囲気中、１度４５０℃で予熱した。これらの
材料を残留物に炭素を含まぬスクリーニング剤（３０％
）とよく混合して抵抗塗料を得る。これをその後基板上
にスクリーニングしそして不活性雰囲気中で第２Ａおよ
び第２Ｂ図に示す８００℃〜１ｏｏｏ℃の様々な温度で
焼付けた。
第２Ａ図に示すように、最も安定な高温および低！ＴＣ
Ｒ値番よ最高焼付は濃度９００℃±２０℃で得られる。
Ｒ値番よ最高焼付は濃度９００℃±２０℃で得られる。
これらのＴＣＲ値は±１０（１）ｌ）Ｉ／ ’Ｃ内に低
下る、。この値は抵抗体の最も厳しい適用条件に対して
好ましいものである。
下る、。この値は抵抗体の最も厳しい適用条件に対して
好ましいものである。
第３図は、タンタルガラスフリットに対る、Ｓｎ ０２
の割合を変え、そして得られた混合物をスクリーニング
しそして不活性雰囲気中、最高温度９００℃で焼付けた
ときの、シート抵抗と高温および低ＩＩＴｃＲへの影響
を示す。３：１〜４：１の割合で、得られる高温および
低２１ＴＣＲは±２００ｐＤｍ／ ’Ｃより小さく：そ
してシート抵抗（オーム／平方）は１０により下である
。
の割合を変え、そして得られた混合物をスクリーニング
しそして不活性雰囲気中、最高温度９００℃で焼付けた
ときの、シート抵抗と高温および低ＩＩＴｃＲへの影響
を示す。３：１〜４：１の割合で、得られる高温および
低２１ＴＣＲは±２００ｐＤｍ／ ’Ｃより小さく：そ
してシート抵抗（オーム／平方）は１０により下である
。
第３図はまた３２５メツシユスクリーンによるスクリー
ニングの効果を実線で：そして１６５メツシユスクリー
ンによるスクリーニングの効果を点線で示している。従
って、スクリーンメツシュサイズが大きくなるほど、抵
抗値はより低くなりそしてＴＣＲはよりポジティブとな
る。しかしながら、第３図に示すように、３ｎ ０２対
タンタルガラスフリツトの割合が３：１〜４：１の好ま
しい範囲内にある場合、１６５メツシユ〜３２５メツシ
ユのいずれのメツシュサイズも、±２００１）Ｅ１ｍ／
”Ｃ内のＴＣＲｅ得るのに使用しうる。
ニングの効果を実線で：そして１６５メツシユスクリー
ンによるスクリーニングの効果を点線で示している。従
って、スクリーンメツシュサイズが大きくなるほど、抵
抗値はより低くなりそしてＴＣＲはよりポジティブとな
る。しかしながら、第３図に示すように、３ｎ ０２対
タンタルガラスフリツトの割合が３：１〜４：１の好ま
しい範囲内にある場合、１６５メツシユ〜３２５メツシ
ユのいずれのメツシュサイズも、±２００１）Ｅ１ｍ／
”Ｃ内のＴＣＲｅ得るのに使用しうる。
従って、例１〜４および第１Ａ〜第４図から、最良のＴ
ＣＰ結果を得るには、タンタルガラスフリットの好まし
い量は２０〜２５％であり、酸化錫の好ましい量は１５
〜８０％であることがわかる。酸化錫が８０％を越えて
存在る、と、抵抗塗料の基板への付着は弱くなり、熱安
定性は減少る、。２５％より多いタンタルガラスフリッ
トが存在る、と、ＴＣＲはネガティブになりすぎる。
ＣＰ結果を得るには、タンタルガラスフリットの好まし
い量は２０〜２５％であり、酸化錫の好ましい量は１５
〜８０％であることがわかる。酸化錫が８０％を越えて
存在る、と、抵抗塗料の基板への付着は弱くなり、熱安
定性は減少る、。２５％より多いタンタルガラスフリッ
トが存在る、と、ＴＣＲはネガティブになりすぎる。
以上、信頼性の高い厚膜抵抗体に適用される、調整され
た抵抗濃度係数が±３００１３ＤＩ／ ’Ｃ内となる基
板への焼付用のベースメタル抵抗体について述べた。
た抵抗濃度係数が±３００１３ＤＩ／ ’Ｃ内となる基
板への焼付用のベースメタル抵抗体について述べた。
従って、本発明を特定の具体例に関して記したが、本発
明の精神および特許請求の範囲から逸脱る、ことなく変
更る、ことができることは無論のことである。
明の精神および特許請求の範囲から逸脱る、ことなく変
更る、ことができることは無論のことである。
本発明はベースメタル抵抗塗料に関し、これはその後ス
クリーニングしそして基板へ焼付けて電子回路に使用る
、ベースメタル厚膜抵抗体となるものである。
クリーニングしそして基板へ焼付けて電子回路に使用る
、ベースメタル厚膜抵抗体となるものである。
第１図は本発明の抵抗塗料でつくった焼付は前の抵抗体
の部分断面図であり、第１Ａ図は焼付は温度の丁ＣＲの
効果（Ｓｎ ０２を５２０℃で還元）を、第１６図は焼
付は濃度のシート抵抗への効果（Ｓｎ０２を５２０℃で
還元）を、第２Ａ図は焼付け温度のＴＣＲへの効果（Ｓ
ｎ ０２を４５０℃で還元）を、第２Ｂ図は焼付は温度
のシート抵抗への効果（Ｓｎ ０２を４５０℃で還元）
を、そして第３図はシート抵抗およびＴＣＲＩ、：おけ
る３ｎ ０２ ／タンタルガラス比の効果を比較る、グ
ラフであり１、第４図は例１〜４の配合物の性質を比較
る、図であり、第５図はタンタルガラスフリット、酸化
錫およびスクリーニング剤の抵抗体の製法を示すフロー
チャートである。 １０・・・抵抗体 １２・・・基板１４・・・抵抗
塗料 １６・・・タンタルガラスフリット １８・・・酸化錫 ２０・・・スクリーニング
剤（外５名） 朱１目 簀、ｊｉ ロ イも−１しＴＩＪ − 芥２Ａ図 イも；晶ＴＣＰ− １ｓ、温ＴＣＲ−−−− 幕２Ｂ凹 纂３Ｕ！Ｊ 署ｍ１ＭｚＴ（” ／６５ ス、ンエ ２７リーンーーーーー ３２
５ メツ、ユ スアーノーン □乳５図 手 続 補 正 書 昭和６１年φ月７日 １、事件の表示 昭和６１年特許顯第４０１２６号 ２、発明の名称 ベースメタル抵抗塗料 ３、補正をる、者 事件との関係 特許出願人 住所 名称 シーティニス・コーポレーシツン４、代理人 ５、補正の対象 明細書の［特許請求の範囲］の欄 ６、補正の内容 １、特許請求の範囲を次のとおりに補正る、。 「２、特許請求の範囲〕 （１）タンタルガラスフリット、酸化錫および不活性雰
囲気中、最高温度９００℃±２０℃での焼付は用スクリ
ーニング剤よりなる、±３００１）Ｉ）ｌ／ ’Ｃ内に
調整された抵抗温度係数を有づる抵抗体を形成る、ため
の基板への焼付は用ベースメタル（ｂａｓｅ ｍｅｔａ
ｌ）抵抗塗料において、酸化錫は重量に基づいてタンタ
ルガラスフリット１部に対して酸化錫３〜４部の割合で
存在し、スクリーニング剤は焼付は中に大体気化る、も
のである、上記の塗料。 （２） タンタルガラスフリットが重量に基づいて５
〜２５％の酸化タンタルよりなる、特許請求の範囲第（
１）項記載のフリット。 （３） ｉｌｌ化タンタルが少なくとも一部酸化タン
タルストロンチウムよりなる、特許請求の範囲第（２）
項記載のフリット。 （４） 酸化錫を還元雰囲気中、温度４５０℃〜６０
０℃で予熱る、、特許請求の範囲第（１）項記載の塗料
。 （５）酸化錫を重量に基づいて、８２２〜７％およびＮ
２９３〜９８％よりなる還元ガス中で予熱る、、特許請
求の範囲第（４）項記載の塗料。 （６）タンタルガラスフリットおよび酸化錫を重量１．
：Ｗづいて２５〜３５％のスクリーニング剤とよく混合
して、焼付けの前の基板へのスクリーン印刷用の均質な
抵抗塗料を得る、特許請求の範囲第（１）項記載の塗料
。 （７）タンタルガラスフリットおよび酸化錫を、スクリ
ーニング剤と混合る、前に、粒子サイズを１０ミクロン
以下に小さくる、、特許請求の範囲第（６）項記載の塗
料。 （８）結合樹脂がスクリーニング剤中に存在る、、特許
請求の範囲第（６）項記載のスクリーニング剤。 （９）スクリーニング剤が、不活性雰囲気中での熱分解
で、 乏 したい、特許請求の範囲第（６
）項記載のスクリーニング剤。 （１０） ３ Ｌ、たいスクリーニン
グ剤が５〜１５３１７７１％のブチル−メタクリレート
および８５〜９５重量％のパイン油よりなる、特許請求
の範囲第（γ）項記載のスクリーニング剤。 （１１）基板へ焼付けて抵抗パターンを形成る、ための
ベースメタル抵抗塗料の製法において、（ａ） 粒子
サイズ１０ミクロン以下の酸化錫を還元雰囲気中、温度
４５０”Ｑ〜６００ ’Ｃで予熱し：（ｂ） 予熱し
た酸化錫を融点が８００’Ｃより低く、粒子サイズが１
０ミクロン以下のタンタルガラスフリットと共に混合し
： （ｃ） タンタルガラスフリットおよび予熱酸化錫を
タンタルガラスフリット２０〜２５％に対し予熱酸化錫
１５〜８０％の割合で匠ｌ五皿ｌＬｉ１皇至スクリーニ
ング剤と混合して均質な抵抗塗料混合物を得； （ｄ） 抵抗塗料混合物を基板上にスクリーニングし
；そして （ｅ） 基板を不活性雰囲気中、最高温度９００’Ｃ
＋２０℃’ｔ’ｍ 付けｒ、＋： ３００１）ｌ）Ｉ／
’Ｃ内ニ調Ｍされた抵抗温度係数を有る、抵抗パター
ンを形成る、、 ことよりなる、上記の製法。 （１２） スクリーニング剤２５〜３５重量％、タン
タルガラスフリットおよび酸化錫のｕ合物６５〜１５重
量％の割合で混合る、ことよりなる、特許請求の範囲第
（１１）項記載の方法。 （１３）スクリーン印刷中混合塗料を１６５〜３２５メ
ツシユスクリーンへ通してスクリーニングる、ことによ
りなる、特許請求の範囲第（１１）項記載の方法。 （１４）上記のタンタルガラスフリットと酸化錫との混
合物および上記のスクリーニング剤を、混合る、間、分
散を均一にる、ために三本Ｏ−ル練り機に通して処理る
、、特許請求の範囲第（１１）項記載の方法。 （１５） 予熱中に使用る、還元雰囲気が１１２２〜
７％およびＮ２９３〜９８％よりなる、特許請求の範囲
第（１１）項記載の方法。 （１６）抵抗塗料をスクリーニングしそして焼付けた基
板を有る、厚膜ベースメタル抵抗体において、改良点が
、 （ａ） タンタルガラスフリットと酸化錫とを、タン
タルガラスフリット一部対酸化Ｓ１３〜４部の割合で混
合し； （ｂ） 合わせたタンタルガラスフリットと酸化錫を
スクリーニング剤と、スクリーニング剤２５〜３５重８
％対タンタルガラスフリットおよび酸化錫との混合物６
５〜１５重量％の割合で混合して抵抗塗料を得； （ｃ） 抵抗塗料を基板上にスクリーニングし、そし
て （ｄ） その侵抵抗塗料をスクリーニングした基板を
不活性雰囲気中、最高温度９００℃±２０℃で焼付ける
。 ことよりなる、上記の抵抗体。 （１１）タンタルガラスフリットおよび酸化錫を粒子サ
イズ１０ミクロン以下に粉砕る、、特許請求の範囲第（
１６）項記載の抵抗体。 （１８）酸化錫を還元ガス中、最高温度４５０℃〜６０
０℃で予熱る、、特許請求の範囲第（１６）項記載の抵
抗体。 （１９）スクリーニング剤が、不活性雰囲気中で熱分解
したとぎ、 ン したい、特許請求の範囲
第（１６）項記載の抵抗体。
の部分断面図であり、第１Ａ図は焼付は温度の丁ＣＲの
効果（Ｓｎ ０２を５２０℃で還元）を、第１６図は焼
付は濃度のシート抵抗への効果（Ｓｎ０２を５２０℃で
還元）を、第２Ａ図は焼付け温度のＴＣＲへの効果（Ｓ
ｎ ０２を４５０℃で還元）を、第２Ｂ図は焼付は温度
のシート抵抗への効果（Ｓｎ ０２を４５０℃で還元）
を、そして第３図はシート抵抗およびＴＣＲＩ、：おけ
る３ｎ ０２ ／タンタルガラス比の効果を比較る、グ
ラフであり１、第４図は例１〜４の配合物の性質を比較
る、図であり、第５図はタンタルガラスフリット、酸化
錫およびスクリーニング剤の抵抗体の製法を示すフロー
チャートである。 １０・・・抵抗体 １２・・・基板１４・・・抵抗
塗料 １６・・・タンタルガラスフリット １８・・・酸化錫 ２０・・・スクリーニング
剤（外５名） 朱１目 簀、ｊｉ ロ イも−１しＴＩＪ − 芥２Ａ図 イも；晶ＴＣＰ− １ｓ、温ＴＣＲ−−−− 幕２Ｂ凹 纂３Ｕ！Ｊ 署ｍ１ＭｚＴ（” ／６５ ス、ンエ ２７リーンーーーーー ３２
５ メツ、ユ スアーノーン □乳５図 手 続 補 正 書 昭和６１年φ月７日 １、事件の表示 昭和６１年特許顯第４０１２６号 ２、発明の名称 ベースメタル抵抗塗料 ３、補正をる、者 事件との関係 特許出願人 住所 名称 シーティニス・コーポレーシツン４、代理人 ５、補正の対象 明細書の［特許請求の範囲］の欄 ６、補正の内容 １、特許請求の範囲を次のとおりに補正る、。 「２、特許請求の範囲〕 （１）タンタルガラスフリット、酸化錫および不活性雰
囲気中、最高温度９００℃±２０℃での焼付は用スクリ
ーニング剤よりなる、±３００１）Ｉ）ｌ／ ’Ｃ内に
調整された抵抗温度係数を有づる抵抗体を形成る、ため
の基板への焼付は用ベースメタル（ｂａｓｅ ｍｅｔａ
ｌ）抵抗塗料において、酸化錫は重量に基づいてタンタ
ルガラスフリット１部に対して酸化錫３〜４部の割合で
存在し、スクリーニング剤は焼付は中に大体気化る、も
のである、上記の塗料。 （２） タンタルガラスフリットが重量に基づいて５
〜２５％の酸化タンタルよりなる、特許請求の範囲第（
１）項記載のフリット。 （３） ｉｌｌ化タンタルが少なくとも一部酸化タン
タルストロンチウムよりなる、特許請求の範囲第（２）
項記載のフリット。 （４） 酸化錫を還元雰囲気中、温度４５０℃〜６０
０℃で予熱る、、特許請求の範囲第（１）項記載の塗料
。 （５）酸化錫を重量に基づいて、８２２〜７％およびＮ
２９３〜９８％よりなる還元ガス中で予熱る、、特許請
求の範囲第（４）項記載の塗料。 （６）タンタルガラスフリットおよび酸化錫を重量１．
：Ｗづいて２５〜３５％のスクリーニング剤とよく混合
して、焼付けの前の基板へのスクリーン印刷用の均質な
抵抗塗料を得る、特許請求の範囲第（１）項記載の塗料
。 （７）タンタルガラスフリットおよび酸化錫を、スクリ
ーニング剤と混合る、前に、粒子サイズを１０ミクロン
以下に小さくる、、特許請求の範囲第（６）項記載の塗
料。 （８）結合樹脂がスクリーニング剤中に存在る、、特許
請求の範囲第（６）項記載のスクリーニング剤。 （９）スクリーニング剤が、不活性雰囲気中での熱分解
で、 乏 したい、特許請求の範囲第（６
）項記載のスクリーニング剤。 （１０） ３ Ｌ、たいスクリーニン
グ剤が５〜１５３１７７１％のブチル−メタクリレート
および８５〜９５重量％のパイン油よりなる、特許請求
の範囲第（γ）項記載のスクリーニング剤。 （１１）基板へ焼付けて抵抗パターンを形成る、ための
ベースメタル抵抗塗料の製法において、（ａ） 粒子
サイズ１０ミクロン以下の酸化錫を還元雰囲気中、温度
４５０”Ｑ〜６００ ’Ｃで予熱し：（ｂ） 予熱し
た酸化錫を融点が８００’Ｃより低く、粒子サイズが１
０ミクロン以下のタンタルガラスフリットと共に混合し
： （ｃ） タンタルガラスフリットおよび予熱酸化錫を
タンタルガラスフリット２０〜２５％に対し予熱酸化錫
１５〜８０％の割合で匠ｌ五皿ｌＬｉ１皇至スクリーニ
ング剤と混合して均質な抵抗塗料混合物を得； （ｄ） 抵抗塗料混合物を基板上にスクリーニングし
；そして （ｅ） 基板を不活性雰囲気中、最高温度９００’Ｃ
＋２０℃’ｔ’ｍ 付けｒ、＋： ３００１）ｌ）Ｉ／
’Ｃ内ニ調Ｍされた抵抗温度係数を有る、抵抗パター
ンを形成る、、 ことよりなる、上記の製法。 （１２） スクリーニング剤２５〜３５重量％、タン
タルガラスフリットおよび酸化錫のｕ合物６５〜１５重
量％の割合で混合る、ことよりなる、特許請求の範囲第
（１１）項記載の方法。 （１３）スクリーン印刷中混合塗料を１６５〜３２５メ
ツシユスクリーンへ通してスクリーニングる、ことによ
りなる、特許請求の範囲第（１１）項記載の方法。 （１４）上記のタンタルガラスフリットと酸化錫との混
合物および上記のスクリーニング剤を、混合る、間、分
散を均一にる、ために三本Ｏ−ル練り機に通して処理る
、、特許請求の範囲第（１１）項記載の方法。 （１５） 予熱中に使用る、還元雰囲気が１１２２〜
７％およびＮ２９３〜９８％よりなる、特許請求の範囲
第（１１）項記載の方法。 （１６）抵抗塗料をスクリーニングしそして焼付けた基
板を有る、厚膜ベースメタル抵抗体において、改良点が
、 （ａ） タンタルガラスフリットと酸化錫とを、タン
タルガラスフリット一部対酸化Ｓ１３〜４部の割合で混
合し； （ｂ） 合わせたタンタルガラスフリットと酸化錫を
スクリーニング剤と、スクリーニング剤２５〜３５重８
％対タンタルガラスフリットおよび酸化錫との混合物６
５〜１５重量％の割合で混合して抵抗塗料を得； （ｃ） 抵抗塗料を基板上にスクリーニングし、そし
て （ｄ） その侵抵抗塗料をスクリーニングした基板を
不活性雰囲気中、最高温度９００℃±２０℃で焼付ける
。 ことよりなる、上記の抵抗体。 （１１）タンタルガラスフリットおよび酸化錫を粒子サ
イズ１０ミクロン以下に粉砕る、、特許請求の範囲第（
１６）項記載の抵抗体。 （１８）酸化錫を還元ガス中、最高温度４５０℃〜６０
０℃で予熱る、、特許請求の範囲第（１６）項記載の抵
抗体。 （１９）スクリーニング剤が、不活性雰囲気中で熱分解
したとぎ、 ン したい、特許請求の範囲
第（１６）項記載の抵抗体。
Claims (20)
- （１）タンタルガラスフリット、酸化錫および不活性雰
囲気中、最高温度９００℃±２０℃での焼付け用スクリ
ーニング剤よりなる、±３００ｐｐｍ／℃内に調整され
た抵抗温度係数を有する抵抗体を形成するための基板へ
の焼付け用ベースメタル（ｂａｓｅ ｍｅｔａｌ）抵抗
塗料において、酸化錫は重量に基づいてタンタルガラス
フリット１部に対して酸化錫３〜４部の割合で存在し、
スクリーニング剤は焼付け中に大体気化するものである
、上記の塗料。 - （２）タンタルガラスフリットが重量に基づいて５〜２
５％の酸化タンタルよりなる、特許請求の範囲第（１）
項記載のフリット。 - （３）酸化タンタルが少なくとも一部酸化タンタルスト
ロンチウムよりなる、特許請求の範囲第（２）項記載の
フリット。 - （４）酸化錫を還元雰囲気中、温度４５０℃〜６００℃
で予熱する、特許請求の範囲第（１）項記載の塗料。 - （５）酸化錫を重量に基づいて、Ｈ＿２２〜７％および
Ｎ＿２９３〜９８％よりなる還元ガス中で予熱する、特
許請求の範囲第（４）項記載の塗料。 - （６）タンタルガラスフリットおよび酸化錫を重量に基
づいて２５〜３５％のスクリーニング剤とよく混合して
、焼付けの前の基板へのスクリーン印刷用の均質な抵抗
塗料を得る、特許請求の範囲第（１）項記載の塗料。 - （７）タンタルガラスフリットおよび酸化錫を、スクリ
ーニング剤と混合する前に、粒子サイズを１０ミクロン
以下に小さくする、特許請求の範囲第（６）項記載の塗
料。 - （８）結合樹脂がスクリーニング剤中に存在する、特許
請求の範囲第（６）項記載のスクリーニング剤。 - （９）スクリーニング剤が、不活性雰囲気中での熱分解
で、炭素非含有残留物を形成する、特許請求の範囲第（
６）項記載のスクリーニング剤。 - （１０）炭素非含有残留物を形成するスクリーニング剤
が５〜１５重量％のブチル−メタクリレートおよび８５
〜９５重量％のパイン油よりなる、特許請求の範囲第（
７）項記載のスクリーニング剤。 - （１１）基板へ焼付けて抵抗パターンを形成するための
ベースメタル抵抗塗料の製法において、 （ａ）粒子サイズ１０ミクロン以下の酸化錫を還元雰囲
気中、温度４５０℃〜６００℃で予熱し； （ｂ）予熱した酸化錫を融点が８００℃より低く、粒子
サイズが１０ミクロン以下のタンタルガラスフリットと
共に混合し； （ｃ）タンタルガラスフリットおよび予熱酸化錫をタン
タルガラスフリット２０〜２５％に対し予熱酸化錫７５
〜８０％の割合で炭素非含有残留物スクリーニング剤と
混合して均質な抵抗塗料混合物を得； （ｄ）抵抗塗料混合物を基板上にスクリーニングし；そ
して （ｅ）基板を不活性雰囲気中、最高温度９００℃±２０
℃で焼付けて、±３００ｐｐｍ／℃内に調整された抵抗
温度係数を有する抵抗パターンを形成する、ことよりな
る、上記の製法。 - （１２）スクリーニング剤２５〜３５重量％、タンタル
ガラスフリットおよび酸化錫の混合物６５〜７５重量％
の割合で混合することよりなる、特許請求の範囲第（１
１）項記載の方法。 - （１３）スクリーン印刷中混合塗料を１６５〜３２５メ
ッシュスクリーンへ通してスクリーニングすることによ
りなる、特許請求の範囲第（１１）項記載の方法。 - （１４）上記のタンタルガラスフリットと酸化錫との混
合物および上記のスクリーニング剤を、混合する間、分
散を均一にするために三本ロール練り機に通して処理す
る、特許請求の範囲第（１１）項記載の方法。 - （１５）予熱中に使用する還元雰囲気がＨ＿２２〜７％
およびＮ＿２９３〜９８％よりなる、特許請求の範囲第
（１１）項記載の方法。 - （１６）抵抗塗料をスクリーニングしそして焼付けた基
板を有する厚膜ベースメタル抵抗体において、改良点が
、 （ａ）タンタルガラスフリットと酸化錫とを、タンタル
ガラスフリット一部対酸化錫３〜４部の割合で混合し； （ｂ）合わせたタンタルガラスフリットと酸化錫をスク
リーニング剤と、スクリーニング剤２５〜３５重量％対
タンタルガラスフリットおよび酸化錫との混合物６５〜
７５重量％の割合で混合して抵抗塗料を得； （ｃ）抵抗塗料を基板上にスクリーニングし、そして （ｄ）その後抵抗塗料をスクリーニングした基板を不活
性雰囲気中、最高温度９００℃±２０℃で焼付ける、こ
とよりなる、上記の抵抗体。 - （１７）タンタルガラスフリットおよび酸化錫を粒子サ
イズ１０ミクロン以下に粉砕する、特許請求の範囲第（
１６）項記載の抵抗体。 - （１８）酸化錫を還元ガス中、最高温度４５０℃〜６０
０℃で予熱する、特許請求の範囲第（１６）項記載の抵
抗体。 - （１９）スクリーニング剤が、不活性雰囲気中で熱分解
したとき、炭素非含有残留物を形成する、特許請求の範
囲第（１６）項記載の抵抗体。 - （２０）タンタルガラスフリットが５〜２５重量％の式
Ｔａ＿２Ｏ＿５の酸化タンタルを含有する、特許請求の
範囲第（１６）項記載の抵抗体。
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| US06/705,233 US4655965A (en) | 1985-02-25 | 1985-02-25 | Base metal resistive paints |
| US705233 | 1985-02-25 |
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|---|---|---|---|---|
| US5608373A (en) * | 1994-06-01 | 1997-03-04 | Cts Corporation | Glass frit compositions and electrical conductor compositions made therefrom compatible with reducing materials |
| US5569412A (en) * | 1994-08-18 | 1996-10-29 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Tin oxide based conductive powders and coatings |
| US6576489B2 (en) * | 2001-05-07 | 2003-06-10 | Applied Materials, Inc. | Methods of forming microstructure devices |
| US6897761B2 (en) * | 2002-12-04 | 2005-05-24 | Cts Corporation | Ball grid array resistor network |
| US7342804B2 (en) * | 2004-08-09 | 2008-03-11 | Cts Corporation | Ball grid array resistor capacitor network |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51125898A (en) * | 1975-03-21 | 1976-11-02 | Trw Inc | Resistive material and electric resistance and method of manufacture thereof |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3788997A (en) * | 1971-12-17 | 1974-01-29 | Trw Inc | Resistance material and electrical resistor made therefrom |
| JPS529314B2 (ja) * | 1972-09-22 | 1977-03-15 | ||
| US3900330A (en) * | 1973-03-22 | 1975-08-19 | Nippon Electric Glass Co | Zno-b' 2'o' 3'-sio' 2 'glass coating compositions containing ta' 2'o' 5 'and a semiconductor device coated with the same |
| GB1455367A (en) * | 1973-07-16 | 1976-11-10 | Ngk Spark Plug Co | Resistor composition for use in glass seal type spark plugs |
| JPS5619042B2 (ja) * | 1973-11-21 | 1981-05-02 | ||
| US3928243A (en) * | 1974-07-03 | 1975-12-23 | Gen Motors Corp | Thick film resistor paste containing tantala glass |
| US4378409A (en) * | 1975-09-15 | 1983-03-29 | Trw, Inc. | Electrical resistor material, resistor made therefrom and method of making the same |
| US4397915A (en) * | 1975-09-15 | 1983-08-09 | Trw, Inc. | Electrical resistor material, resistor made therefrom and method of making the same |
| US4215020A (en) * | 1978-04-03 | 1980-07-29 | Trw Inc. | Electrical resistor material, resistor made therefrom and method of making the same |
| US4209764A (en) * | 1978-11-20 | 1980-06-24 | Trw, Inc. | Resistor material, resistor made therefrom and method of making the same |
| US4205298A (en) * | 1978-11-20 | 1980-05-27 | Trw Inc. | Resistor material, resistor made therefrom and method of making the same |
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-
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