JPS61257733A - 静電チヤツク - Google Patents

静電チヤツク

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Publication number
JPS61257733A
JPS61257733A JP11464786A JP11464786A JPS61257733A JP S61257733 A JPS61257733 A JP S61257733A JP 11464786 A JP11464786 A JP 11464786A JP 11464786 A JP11464786 A JP 11464786A JP S61257733 A JPS61257733 A JP S61257733A
Authority
JP
Japan
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dielectric film
processed material
stage
electrode
electrostatic chuck
Prior art date
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Granted
Application number
JP11464786A
Other languages
English (en)
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JPH0532184B2 (ja
Inventor
Kosuke Oshio
大塩 広介
Osamu Watanabe
修 渡辺
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Tokuda Seisakusho Co Ltd
Original Assignee
Tokuda Seisakusho Co Ltd
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Publication date
Application filed by Tokuda Seisakusho Co Ltd filed Critical Tokuda Seisakusho Co Ltd
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Publication of JPH0532184B2 publication Critical patent/JPH0532184B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野〕 本発明は静電チャックに係り、特にエツチングによる誘
電体膜の消耗を防ぐようにした静電チャックに関する。
(従来の技術) 第4図はドライエツチング装置における従来の静電チャ
ックを示したもので、平板状のステージ1の上面側には
、内部に銅等からなるフィルム状の電極2をはさみ込ん
だポリイミド製の誘電体膜3が貼着されており、上記ス
テージ1の内部には、被処理物Aを冷却する冷却水管4
が導通されている。
上記静電ヂャッ2の場合、被処理物Aを誘電体yA3上
に載置し、電極2に直流電圧を印加することにより、被
処理物Aを静電的に固定するものである。そして、通常
はこのような静電チtIツクを真空処理容器内に設けて
、被処理物のエツチング等真空処理を行なうものである
(発明が解決しようとする問題点) しかし、上記静電チャックを用いてエツチングを行なう
と、被処理物Aと同時に誘電体[13もエツチングされ
てしまい、誘電体膜3が著しく消耗してしまうという欠
点を有している。そのため、特に被処理物Aの周辺部に
おいて電極2が露出して誘電体wA3が早期に使用不能
となり、頻繁に貼り代えを行なう必要があるため非常に
不経渋であるという欠点をも有している。
本発明は上記欠点に鑑みてなされたもので、誘電体膜の
消耗を防ぐことができる静電チャックを提供することを
目的とするものである。
〔発明の構成〕
(問題点を解決するための手段および作用)上記目的を
達成づるため本発明の静電チャックは、ステージの被処
理物固定側面に電極および誘電体を取付け、上記電極に
直流電圧を印加することにより、被処理物を静電的に固
定する静電チャックにおいて、上記ステージの上記被処
理物固定位置以外の部分に、上記誘電体膜を被覆するセ
ラミック系の被覆部材を設けたことをその特徴とするも
のである。
(実施例) 以下、本発明の実施例を第1図乃至第3図を参照し、第
4図と同一部分には同一符号を付して説明する。
第1図は本発明の一実施例を示したもので、ステージ1
の被処理物Aの外周縁部該当位置には、環状の満5が形
成され、誘電体膜3は上記溝5の内側に貼着されるとと
もに、一部が上記溝5と直交するようにステージ1の外
周部まで伸び電極2に図示しない電源供給装置を接続す
るようになされている。そして、上記溝5およびステー
ジ1の上面側であって被処理物への固定位置以外の部分
にはカーボン、石英その他しラミツク等の材料からなる
中央に円形孔を有する根状および環状の被覆部材6が取
付けられている。ここで、1径の大小の関係は、φ2〉
φ1.φ3〉φ2.φ4〉φ3が必要である。
したがって、被処理物Aのエツチングを行なった場合で
も、被覆部材6により被処理物Aの固定位置以外でも誘
電体膜3が消耗することがなく、電極2の露出も防止す
ることができ、その結果、耐使用期間を大幅に延長する
ことが可能となる。
第2図に、電極2をはさみ込んだ誘電体膜3の斜視図を
示す。
また、第3図に示すように、被覆部材6を一体に形成す
るようにしてもよい。     ゛〔発明の効果〕 以上述べたように本発明に係る静電チャックは、ステー
ジの被処理物固定位置以外の部分に誘電体膜を被覆する
セラミック系の被覆部材を設けるように構成したので、
被処理物のエッヂレグ時においても上記誘電体膜が消耗
して電゛極が露出することを確実に防ぐことができ、し
たがって、誘電体膜の耐使用期間を大幅に延長すること
ができる等の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す縦断面図、第2図は静
電チャックの電極と誘電体膜を示す斜視図、第3図は、
本発明の他の実施例を示す断面図、第4図は従来の静電
チャックを示ザ縦断面図である。 1・・・ステージ、2・・・電極、3・・・誘電体膜、
4・・・冷却水管、5・・・溝、6・・・被覆部材。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ドライエッチング装置やスパッタ装置等におけるステー
    ジの被処理物固定側面に電極および誘電体膜を取付け、
    上記電極に直流電圧を印加することにより被処理物を静
    電的に固定する静電チャックにおいて、上記ステージの
    上記被処理物固定位置以外の部分に、上記誘電体膜を被
    覆するセラミック系の被覆部材を設けたことを特徴とす
    る静電チャック。
JP11464786A 1986-05-21 1986-05-21 静電チヤツク Granted JPS61257733A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63155117U (ja) * 1987-03-31 1988-10-12
JPH03187240A (ja) * 1989-12-18 1991-08-15 Nikon Corp 静電チヤツク
JPH04118945U (ja) * 1991-04-04 1992-10-23 日本カーボン株式会社 研磨用バキユームチヤツク
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JPS59139641A (ja) * 1983-01-31 1984-08-10 Fujitsu Ltd 静電吸着装置の製造方法

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