JPS61255303A - カラ−フオトセンサ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は７オトセンサに関し、特にカラー読取のための
カラーフォトセンサに関する。

〔従来の技術〕

従来、ファクシミリやデジタル複写機や文字読取装置等
の画像情報処理装置の光入力部として用いられる光電変
換装置において、光電変換素子としてフォトセンサが利
用されることは一般に良く知られている。特に、近年に
おいてはフォトセンサを一次元に配列して長尺ラインセ
ンサを形成し、これを用いて高感度な画像処理装置を構
成することも行なわれている。

ｌ　尺５インセンサを構成するフォトセンサの一例とし
ては、カルコゲナイド、ＣｄＳ、Ｃｄ５Ｓｅ、非晶質シ
リコン（以下ａ−Ｓ＋と記す）等の光感受層上に受光部
となる間隙を形成する様に対向した一対の金属電極から
成るプレナー型の光導電型フォトセンサを挙げることが
できる。

特に、ａ−３ｔを用いたブレナー型の光導電型フォトセ
ンサは、光応答速度が良好で、かつ出力光電流も大きい
ため良好な１次元フォトセンサアレーを作製できる。又
ａ−Ｓ１材料は、無公害でかつプラズマＣＶＤ技術Φフ
オトリソパターンニング技術等のシリコンテクノロジー
が採用できるために生産性にも優れている。

更には、第６図に示す如＜、ａ−５ｉフオトセンサは分
光感度が比視感度に近く、カラーフォトセンサへの適性
が大であるという特徴を有ｔ、４い６．つまり、青４５
０ｎｍ：緑５５０ｎｍ：赤６５０ｎｍの各１０ｕＷ／ｃ
ゴの同一エネルギー光に対するフォトセンサの出力光電
流値が、２：３．５：３と分光感度がフラットであり、
カラーフォトセンサ用として好適である。

かかるフォトセンサにおいてカラー化を実現するにはカ
ラーフィルターとフォトセンサを別々に作成した後貼合
せる構成と光電変換部分に直接カラーフィルターを設け
る構成がある。

〔発明が解決しようとする問題点〕

前者の構成ではカラーフィルターの各色要素とフォトセ
ンサの光電変換部を正確に位置合せして貼合せる必要が
ある為、長尺のラインセンサ等に実施するのは困難であ
る。これに対し。

後者の構成では光電変換部分に直接カラーフィルターを
設ければ、正確な位置合せをして貼合せる必要がなく同
一フオドプロセスで作成でき、長尺ラインセンサ等にも
充分対応していくことができる構成である。

しかしながら、後者の構成にも種々の問題があった。即
ち、フォトセンサを製造するプロセスの一環としてカラ
ーフィルタの形成を行なうので、各センサユニットの光
感受層の特性に悪影響を与える事が少なくなかった。又
、カラーフィルタを付与すべきセンサユニットの表面は
電極その他が形成されているため平坦ではなくかなりの
凹凸があり、この様な凹凸面に高精度にて微細なフィル
タパターンを形成することは著しく困難であった。

〔目的〕

本発明の目的は、上述した従来の欠点を除去し、精度及
び生産性に優れたカラーフォトセンサを提供することで
ある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明によれば、上記の如き目的は、基体と、光感受層
と該光感受層に受光部の少なくとも一部を構成する間隔
を設けて電気的に接触して配された一対の電極と、カラ
ーフィルタとを有するセンサユニットを複数個配置して
なるカラーフォトセンサにおいて、上記カラーフィルタ
が上記基体と上記光感受層との間に位置することを特徴
とするカラーフォトセンサにより達成される。

本発明におけるカラーフィルタは色素材料の真空蒸着に
よってつくられるのが好ましく１色素層のパターンニン
グは除去すべき色素層の下部にレジストマスク（以下ア
ンダーマスクと呼ぶ）を設け、該アンダーマスクを基板
から除くことによってその上の色素層をも同時に物理的
に除去するいわゆるリバースエツチング法（リフトオフ
法）を用いてなされるのが好ましい。

リバースエツチング法によれば、アンダーマスクが除去
されることによってパターンが形成されるのでカラーフ
ィルタを同一平面上に形成でき、しかもこのカラーフィ
ルタ、が色素層のみの筒車な構成であるためにカラーフ
ィルタ上に光感受層を形成することができる。

本発明におけるカラーフィルタは昇華あるいは蒸着可能
で、レジストマスタを溶解する際用いる溶剤に不溶であ
る色素から適宜作成される。特に顔料は耐熱性に優れる
ため（２，５０℃〜３００℃の耐熱性がある）、カラー
フィルタ上に光電変換部を形成するという本発明の場合
有効である。

上述の条件を満たす色素としては、アヤトアセチツクア
ニリド系、ナフトール類のモノ７ゾ系、ポリサイクリッ
ク系、分散系、油溶性系、インダスレン系、フタロシア
ニン系およびこれらの色素を組み合せたものなど種々の
ものが使用可能である。

特に好適なものとして、赤色色素としてはべりレンチト
ラカルボン醜銹導体が好ましく、その例としては次のよ
うなものが挙げられる（以下■〜■の記号で示す）。

■上式においてＲ１が−Ｈであるもの ■　　　／Ｉ　　　　Ｒ１／／　−ＣＨ３／１■　　ｔ
ｔ　　　Ｒ１／／　−ＣＨ（４１ｔｔ■　　ｔｔ　　　
Ｒ１ｔｔ　−１ｃ）−０ＣＨ３／／■　　Ｉｆ　　　Ｒ
１ｔｔ　＋Ｑ（２Ｈ５ｔｔ■　　ｔｔ　　　Ｒ１／／−
αＮ　＝　Ｎ−Ｏｔｔ但し、ペリレンテトラカルボンＩ
’ｌ！導体は必らずしもこれらに限定されるものではな
い。

このようなペリレンテトラカルボン酸誘導体として市販
されているもの（商品名）は、ヘリンドマルーンＲ６４
３４（バイエルリＣＩ　　Ｎｏ、７１１３０ ノボパームレッドＢＬ（ヘキス）ＩＦ ＣＩ　　Ｎｏ、７１１３７ パリオゲンレツドＬ３８７０ＨＤ　（バス７１０ＣＩ　
　Ｎｏ、７Ｌ１４５ イルガジンレツドＢＰＴ（チバガイギー釦ＣＩ　　　Ｎ
ｏ、７１１２７ などが挙げられる。

また、緑色色素としては、フタロシアニン系色素、フタ
ロシアニン系色素とイソインドリノン系色素との組合せ
、又はフタロシアニン系色素とアントラキノン系色素と
の組合せが好適例として挙げられる。

フタロシアニン系色素として代表的な色素の例としては
、メタルプリーフタロシアニン、銅フタロシアニン、ベ
リリウムフタロシアニン。

マグネシウムフタロシアニン、亜鉛フタロシアニン、チ
タニウムフタロシアニン、錫フタロシアニン、ｉフタロ
シアニン、バナジウムフタロシアニン、クロムフタロシ
アニン、モリフテンフタロシアニン、マンガンフタロシ
アニン、鉄フタロシアニン、コバルトフタロシアニン、
ニッケルフタロシアニン、パラジウムフタロシアニン、
白金フタロシアニン、が挙げられる。

また、イソインドリノン系色素は、ペテロ原子を含む芳
香族縮合多環構造多環構造を有しており、基本的には下
記式のように表わすことができる。

４．５，８．７位が塩素で置換されていないものも含め
ることができるが、耐光性、耐溶剤性の点では置換型の
方が好ましい。

式中Ｒの構造によって色は員色からオレンジ、赤かつ色
と変化するが、多彩さとそのシャープな分光特性から特
に間色色素として優れている。

代表的なインインドリノン系色素の例は前記式中のＲが
次のものとしてあげられる。

υＣＨ３ Ｕ ＜　（Ｈ＝（トｏ− 但し、イソインドリノン系色素は必ずしもこれらに限定
されるものではない。

このようなイソインドリノン系色素として市販されてい
るもの（商品名）は、 イルガジン　イエロー　２ＧＬＴ、２ＧＬＴＥ、２ＧＬ
ＴＮ（チバガイギ−１０ リオノゲン　イエロー　３ＧＸ　　　　　　（東洋イン
キ釦ファーストゲン　スーパー　イエロー　ＧＲ，ＧＲ
Ｏ，ＧＲＯＨ吠日本インキ態Ｄ イルガジン　イエロー　２ＲＬＴ、３ＲＬＴ、３ＲＬＴ
Ｎ（チパガイギー釦 リオノゲン　イエロー　ＲＸ　　　　　　　（東洋イン
キ製）リソール　ファースト　イエロー　１８４０（Ｂ
ＡＳＦ製） カヤセット　イエロー　Ｅ−２ＲＬ、Ｅ−３ＲＬ　　１
７６（日本化薬製） クロモ７タール　オレンジ　２Ｇ （チパガイギー釦 などが挙げられる。

また、アントラキノン系色素とはアントラキノンの誘導
体及び類似のキノンをいう０代表的゛なアントラキノン
系賛色色素の構造の一例を次に示す。

０Ｍ ／食ト Ｎ 但し、アントラキノン系色素としては、必ずしもこれら
に限定されるものではない。

このようなアントラキノン系色素として市販されている
ものの一例を商品名を用いて以下に挙げる。

ヘリオファースト　イエロー　Ｅ３Ｒ（バイ鳳Ｍのバリ
オゲン　イエロー　Ｌ１５６０　　（ＢＡＳＦ釦Ｃ，１
，Ｎｏ、６８４２０ カヤセット　イエロー　Ｅ−Ｒ（日本化ｍＣ，１，Ｎｏ
、６５０４９ クロモフタール　イエロー　ＡＧＲ（チバガイギー釦パ
イプラスト　イエロー　Ｅ２Ｇ　　　（、＜イニノｌの
二ホンスレン　イエロー　ＧＣＮ　　（住友化特ｐＣ，
１，Ｎｏ、６７３００ ミケスレン　イエロー　ＧＫ　　（Ｅミ丼３ｔｌａＤＣ
，１，Ｎｏ、６１７２５ インダンスレンプリンティング　イエロー　〇ＯＫ　　
（ヘキス）ＩＤＣ，１，Ｎｏ、５９１００ アントラゾール　イエロー　Ｖ　（ヘキス）ｌ）Ｃ，１
，Ｎｏ、６０５３１ ミケスレン　ソリュブル　イエロー　１２Ｇ　　（Ｅ井
東万１ＤＣ，１，Ｎｏ、６０６０５ ミケスレン　イエロー　ＧＦ　　（＝＃ｔＥＥ［）Ｃ，
１，Ｎｏ、６６５１０ 二ホンスレン　イエロー　ＧＣＦ　　（１ｍＣ，１，Ｎ
ｏ、６５４３０ インゲンスレン　イエロー　３Ｇ　（バイ４Ｃ，１，Ｎ
ｏ、６５４０５ 二ホンスレン　イエロー　４ＧＬ　　（（１七岩鴎イン
ダンスレン　イエロー　５ＧＫ　　（パイ二〜噸Ｃ，１
，Ｎｏ、６５４１０ パランスレン　イエロー　ＰＧＡ　　（ＢＡＳＦ幼Ｃ，
１，Ｎｏ、６８４００ チバノン　イエロー　２Ｇ　（チバガイギー釦インゲン
スレン　イエロー　Ｆ２ＧＣ（ヘキス）［）アントラゾ
ール　　イエロー　ＩＧＧ　　（ヘキス）１インゲンス
レン　イエロー　５ＣＦ　　（ＢＡＳＦＩＤミケスレン
　イエロー　３ＧＬ　　ＬＪｙＭ３ｔ）インゲンスレン
　イエロー　ＬＧＦ　　（ＢＡＳＦｌｐモノライト　イ
エロー　ＦＲ（ＩＣＩ話カヤセット　イエロー　Ｅ−Ａ
Ｒ（日本イｍのまた。青色色素としてはフタロシアニン
系色素、又はフタロシアニン系色素とキナクリドン色素
の組合せが好適例として挙げられる。

フタロシアニン系色素は前述の如くであり、キナクリド
ン系色素とは（１）式で示される基体骨格をもち、それ
から導かれる誘導体をも含めたものを示す。

誘導体の例としては などがあげられる。またこれらの混合物の場合もある０
分光特性的にはいずれも優れたマゼンタの特性を有して
いる。

具体的な色素としては リオノゲンマゼンタＲ（Ａ品名：東洋インキｌ）ファー
ストゲンスーパーマゼンタＲ，Ｒ３価品名二大日本イン
キ龜Ｄ シンカシアレッドＢＲＴ、ＹＲＴ（ｉＩｌｉ品名：デュ
ポン態りシン力シアバイオレツ）　Ｂ　ＲＴ　（Ｊａａ
ＡＡ　：デュポン釦などが挙げられる。

レジストマスクに使用されるレジストとしては、後に溶
解可能であれば、ネガ型・ポジ型を問わない、しかし、
ネガ型では一般に輻射の照射で架橋が進み、溶解するに
は強い溶解力をもつ溶剤が必要となる。従って色素層に
損傷を与えたり溶解させたりしやすいので好ましくない
。

この点ポジ型レジストでは、特にレジストパターン形成
後、全面に輻射線を照射すれば可溶性になるので、ネガ
型に比べて色素を溶解しにくい溶剤を選択できるのでリ
フトオフには好適である。またポジ型レジストも樹脂成
分の種類が多岐にわたっており、その塗布や現象に使用
される溶剤も様々である０色素に対してより作用性の少
ない溶剤の使えるホジ型レジストを選択することが望ま
しく、−例として重合単位として下記構造で示される含
フツ素メタクリレートを主体とするポジ型レジストが好
適例として挙げられる。このレジストは、エステル類、
芳香族類、ハロゲン化炭化水素類などの溶解能が高い良
溶媒は勿論のこと、アルコール類などの溶解能が低い貧
溶媒にも良く溶解するため、色素膜に影響の少ない溶剤
を使えるためである。

このようなレジストとしては、ＦＰＭ２１０゜ＦＢＭＩ
ＩＯおよびＦＢＭ１２０（いずれも商品名でダイキン工
業製）が挙げられる。

Ｒ２−Ｃ−Ｒ１ ここで、Ｒ１およびＲ２は水素又はフルキル基、Ｒ３は
各炭素に少なくとも１個のフッ素が結合したアルキル基
である。

代表的な例としては次のものが挙げられる。

ソノ他レジストとしては１次のような商品名で市販され
ている各種のものを適宜用いることができる。

ＡＺシリーズ：１１１，１１９Ａ、１２０，３４０，１
３５０Ｂ。

１３５０Ｊ　、　１３７０　、１３７５．１４５０．１
４５０Ｊ　、　１４７０　。

１４７５．２４００．２４１５．２４３０　　αえとシ
プレー七〇Ｗａｙｃｏａｔ　ＨＰＲ−２０４，２０５，
２０６，２０７，１１８２Ｗａｙｃｏａｔ　　ＭＰＲ（
ＪＪＪｃハンｌのＫｏｄａｋ　Ｍｔｃｒｏ　Ｐｏ５ｉｔ
ｉｖｅ　Ｒｅ５ｉｓｔ（コダック釦 １５ｏｆｉｎｅ　　Ｐｏ５ｉｔｉｖｅ　　Ｒｅ５ｉｓｔ
（マイクロイメージテクノロジー幻 ＰＣ１２９，１２９ＳＦ　　（ポリクローム釦０ＦＰＲ
７７，７８，８００ ０ＥＢＲ１０００，１０１０，１０３００ＤＵＲ１００
０，１００１，１０１０，１０１３，１０１４（Ｌ＾−
ヒＪ１０ＩＭ−イヒ１（財））ＥＢＲ１，９（ｌ槌しＩ
Ｄ ＦＭＲＥｌｏｏ、Ｅｌｏｌ　　（富士薬品１幻のＪＳＲ
Ｐｏ５ｉｔｉｖｅ　　Ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ　　ＰＦ
Ｒ３００３（日本合成ゴム幻 ５ｅｌｅｃｔｌｌｕｘ　　Ｐ　　（メにり’ｌｌ）など
が挙げられる。

〔実施例〕

第１図（ａ）〜（ｄ）は、本発明によるカラーフィルタ
作成方法の実施例を示す模式的断面工程図である。

先ず、ガラス基板（コーニング社製＃７０５９）１の上
にスピンナー塗布法によりホジ型レジスト（商品名：０
ＤＵＲ１０１３東京応化社製）を１００００大の肢厚に
！！ｉ布した０次いで１２０℃で２０分間のプリベーク
を行なった後、遠紫外光にてマスク露光を行ない、０Ｄ
ＵＲＩＯＩＯシリーズ用専用現像液に３分浸漬した後同
シリーズ用専用リンス液に２分浸漬して、レジストマス
ク２を形成した（第１図（＆）　）　。

次にレジストマスク２の形成されたガラス基板１全面に
露光を行ない、溶剤に可溶とした。

続いてガラス基板ｌと、ＭｏＭＪｒポートに詰めたＣｕ
フタロシアニンを真空蒸着機内に設置し排気した。真空
度１０−５〜１Ｏ−６ｔｏｒｒにおいてＭｏ蒸着ボート
を４５０〜５５０℃に加熱して、Ｃｕフタロシアニンを
約２０００大黒着させ、Ｃｕフタロシアニン蒸ＭＮ３を
形成した（第１図（ｂ））、Ｃｕフタロシアニン蒸Ｓ層
３が形成されたガラス基板１を上記専用現像液で浸漬撹
拌して、レジストマスク２を溶解しなからＣｕフタロシ
アニン蒸着暦３の不要部分を除去することによって、青
色色素層４を形成した（第１図（ｃ）　）　。

続いてこの青色色素Ｍ４の形成されたガラス基板１上に
同様な工程で０ＤＵＲ１０１３を塗布した後露光、現像
し、緑色色素層５に相当するレジストマスクを形成した
。全面露光後、真空蒸着機内に設置し、今度はＰｂフタ
ロシアニンを４５０〜５５０℃で蒸着し２０００人の膜
を形成した。しかる後に現像液で浸漬撹拌し、緑色色素
層５を形成した。

更に全く同様な工程により、ペリレンテトラカルボン斂
誦導体系の赤色色素であるイルガジンレッドＢＰＴ（商
品名：チバガイギー社製ＣＩ　　Ｎｏ、７１１２７）を
４００〜５００℃で約２０００人蒸着し１現像液処理に
より赤色色素層６を形成した（第１図（ｄ）”）。

上記色素層の材料として用いたＣｕフタロシアニン、Ｐ
ｂフタロシアニン、及びイルガジンレツドＢＰＴは現像
液処理で全く溶解せず、分光特性も損なわれることが無
かった。第５図は、上記の如く作成したカラーフィルタ
の分光特性を示すグラフである。

第５図において、１３はＣｕフタロシアニンによる青色
色素層の分光特性、１４はＰｂフタロシアニンによる緑
色色素層の分光特性、１５はイルガジンレッドによる赤
色色素層の分光特性である。

又、第２図は、本発明によるカラーフォトセンサの作成
方法の実施例を説明するための模式的断面工程図である
。ここで第２図においては、ｍ単のため第１図の青色色
素ｙｆ！ｔ４のセンサユニットの部分についてのみ示し
た。

上述の様に形成されたカラーフィルタ（第２図では青色
色素層４）上にグロー放電法によってａ−５ｉを含む光
感受層（イントリンシック層）７を設けた。即ち、Ｈ２
で１０容量％に稀釈された５ｉＨａをガス圧０．５０Ｔ
ｏｒｒ、ＲＦ（Ｒａｄｉｏ　　Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）パ
ブ−１０Ｗ、基板温度２５０℃で２時間堆積させること
によって０．７終厚の光感受層７を得た。同様にグロー
放電法によりオーミックコンタクトをとるためのｎ＋Ｍ
！！８を設けた。即ち。

Ｈ２で１０容量％に稀釈された５ＩＨ４とＨ２で１１０
０ｐｐに稀釈されたＰＨ３とを混合比１：ｌＯで混合し
たガスをｊＸ＃４として用い、その他は光感受層７の堆
積条件と同様にして光感受層７に連続して０．１ト厚の
ｎ十暦８を設けた０次に、電子ビーム蒸着法でＡＭを０
．３．厚に堆積させて導電層９を形成した。＆ｔいて、
光電変換部となる部分の導電層９を除去した。即ち、ポ
ジ型のマイクロポジット１３００−２７（商品名：５ｈ
１ｐｌａｙ社製）フォトレジストを用いて所望の形状に
フォトレジストパターンを形成した後、リン酸（８５容
量％水溶液）、硝＃（６０容量％水溶液）、氷晶酸及び
水を１６：ｌ：２：１の容積比で混合したエツチング液
を用いて露出部の導電Ｎ９を除去し。

共通電極ｌＯ及び個別電極１１を形成した０次に、光電
変換部となる部分のｎ十暦８を除去した。即ち、上記マ
イクロポジット１３００−２７フオトレジストを剥離し
た後、平行平板型プラズマエツチング装置（日電アネル
パ社製ＤＥＭ−４５１）を用いてプラズマエツチング法
（別名リアクティブイオンエツチング法）でＲＦパワー
１２０Ｗ、ガス圧０．　Ｉ　Ｔ　ｏ　ｒ　ｒ　テＣＦ４
ガスによるドライエツチングを５分間行ない、露出部の
ｎ十層８及び光感受Ｍ７の表面層の一部を除去した。尚
１本実施例では、エツチング装置のカソード材料のイン
プランテーションを防止するために、カソード上にポリ
シリコンのスパッタ用ターゲット（８インチφ、純度９
９．９９９％）をＭき、その上に試料をのせ、カソード
材料のＳＵＳが露出する部分はドー＋ツ状に切抜いたテ
フロンシートでカバーし、５０５面が殆どプラズマにさ
らされない状態でエツチングを行なった。その後、窒素
を３！Ｌ／ｍｉｎ流したオープン内で２００℃、６０分
の熱処理を行なった。

こうして作成した光電変換部上にグロー放電法によって
シリコンナイトライドかもなる保護！１２を形成した。

即ち、Ｈ２で１０容量％に九釈されたＳｉＨ４と１００
％ＮＨ３とを１：４の流量比で混合したガスを用い、そ
の他はａ−５ｉ層を形成する条件と同様にして、０．５
゜厚のセンサパッジバージョン用のシリコンイトライド
（ａ−５ｉＮＨ）かならる保ｖＩ層１２を形成した。

こうして作成された３色カラーフォトセンサは、３色の
色情報を良好に分離して読取ることが可能であることが
判明した。

又、この３色カラーフォトセンサユニットを１次元のア
レイ状に８ｄｏｔ／ｍｍの密度で配設したカラーフォト
センサアレイは、精度よく良好に色原稿を読取ることが
回旋であり、生産性も優れていることが？４明した。

第３図は、上述の如き作成方法により得られたカラーフ
ォトセンサの模式的部分平面図である。４，５．６は夫
々青色、緑色、赤色の色素層、１０は共通電極、１１は
個別電極、１２は保護層である。尚、第２図の模式的断
面工程図は、第３図のＡ−Ｈの切断面について示したも
のである。

上述の実施例においてはカラーフィルタとして青色、ｍ
色、赤色の三色フィルタを用いたが、本発明によるカラ
ー７オトセンサは１例えば−色のフィルタを用いたモノ
カラーフォトセンサを含むことは勿論である。

又、上述の実施例においてはカラーフィルタと電極との
間に光感受層を設ける構成を記したが、本発明によるカ
ラーフォトセンサは、カラーフィルタと光感受層との間
に電極を設ける構成をとっても一向に麩支えない、８４
図は上記構成を有するカラーフォトセンサの模式的切断
面図である。

】はガラス基板、４は古色色素層、１０は共通ｉ！極、
１１は個別Ｍｌ極、８はオーミックコンタクトのための
ｎ中層、７は光感受層、１２は保護層である。

更に、上述の実施例においては光感受層がａ−Ｓｉ：Ｈ
を含む材料からなる場合を記したが、ａ−５１：Ｈ以外
例えばカルコゲナイド。

ＣｄＳ、Ｃｄ５Ｓｅ等の薄膜或いは厚膜から構成するこ
ともできる。

〔効果〕

以上の如き本発明によれば、カラーフィルタと光電変換
部とを別々に作成した後双方を貼合せるという従来の作
成方法において生ずる双方の位置ずれ等がないため、高
精度なカラー７オトセンサを作成できる。

又、フォトセンサを製造するプロセスの一環としてカラ
ーフィルタの形成を行なうという従来の他の作成方法に
おいて生ずる光感受層の特性の悪化も本発明では起こる
ことがない。

更に１本発明によれば、同じ高さを形成する色素層から
なる薄膜のカラーフィルタ上に光電変換部を作成できる
ので、光の散乱、反射等が無視し得る程となり、精度及
び生産性の点からも良好なカラーフォトセンサを形成で
きる。

【図面の簡単な説明】

第１図（１ｋ）〜（ｄ）は本発明によるカラーフィルタ
の作成方法の実施例を示す模式的断面工程図、 第２図は本発明によるカラーフォトセンサの作製方法の
実施例を説明するための模式的断面工程図、 第３図は本発明により得られたカラーフォトセンサの模
式的部分平面図。 第４図は本発明の他の実施例におけるカラーフォトセン
サの模式的切断面図、 第５図は本発明により作成されたカラーフィルタの分光
特性を示すグラフ、 第６図はａ−Ｓｉフォトセンサの分光感度特性を示すグ
ラフである。 １　・・・　ガラス基板 ２　・・・　レジストマスク ３　・・・　Ｃｕフタロシアニン蒸着膜４　・・・　青
色色素層 ５　・・・　緑色色素層 ６　・・・　赤色色素層 ７　・・・　光感受層 ８　・・・　ｎ中層 ９　・・・　導電層 １０　　・・・　共通電極 １１　・・・　個別電極 １２　・・・　保護層 １３　・・・　青色色素層の分光特性 １４　・・・　緑色色素層の分光特性 １５　・・・　赤色色素層の分光特性 第２図 ｆｉ＆

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）基体と、光感受層と、該光感受層に受光部の少な
   くとも一部を構成する間隔を設けて電気的に接触して配
   された一対の電極と、カラーフィルタとを有するセンサ
   ユニットを複数個配置してなるカラーフォトセンサにお
   いて、上記カラーフィルタが上記基体と上記光感受層と
   の間に位置することを特徴とするカラーフォトセンサ。
2. （２）上記光感受層がアモルファスシリコンを含む特許
   請求の範囲第１項に記載のカラーフォトセンサ。
3. （３）上記カラーフィルタが顔料を含む色素層からなる
   特許請求の範囲第１項に記載のカラーフォトセンサ。