JPS61254853A - 溶銑中Si濃度の予測方法 - Google Patents

溶銑中Si濃度の予測方法

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JPS61254853A
JPS61254853A JP60097060A JP9706085A JPS61254853A JP S61254853 A JPS61254853 A JP S61254853A JP 60097060 A JP60097060 A JP 60097060A JP 9706085 A JP9706085 A JP 9706085A JP S61254853 A JPS61254853 A JP S61254853A
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JP
Japan
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concentration
factors
concn
determined
prediction
Prior art date
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Pending
Application number
JP60097060A
Other languages
English (en)
Inventor
Masamichi Mizuno
水野 正道
Naoki Tanaka
直樹 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
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Publication date
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Publication of JPS61254853A publication Critical patent/JPS61254853A/ja
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  • Manufacture Of Iron (AREA)
  • Blast Furnaces (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ) 産業上の利用分野 本発明は、高炉溶銑中Si濃度の予測方法に関するもの
である。
(ロ)従来の技術 銑鉄中の硅素濃度(以下Si濃度と称する)は、高炉の
炉下部における熱的状態を代表する指標として高炉操業
管理上重要視されてきた。すなわち、炉の熱的状態を安
定に維持し、かつ燃料比を低減することが高炉操業上最
も重要な課題であシ、また燃料比を低減するためにはS
i濃度の低減が有効なことも公知の事実である。さらに
最近、製鋼用銑のSi濃度を低減することにより、製鋼
過程でのスラグ量の低減と歩留向上の効果も期待できる
ことが明らかになってきた。
したがって、製鋼用銑の製造を目的とする高炉操業にお
いては、5il1度を低位安定化することが重要なこと
は自明である。一方、鋳物用銑の製造を目的とする高炉
操業においては、Si濃度を所定の高濃度に維持するこ
とが必要である0以上のように、高炉操業においては、
銑鉄中のSi濃度をあらかじめ設定した目標値と等しく
なるよう操業する技術が重要である。
しかしながら、従来技術において実際の高炉操業を行う
場合においては、炉の熱的状態をあられすSi濃度以外
の熱レベル指数(たとえば、特公昭50−80567号
公報記載の如く羽ロ前コークス濃度tc等の熱レベル指
数)を推定し、あらかじめ統計的に求めたSi濃度と、
熱レベル指数との関係式に基づいてSig度を推定する
方法、また最近では溶融滴下距離を炉熱の一つの指標と
し、(%公昭57−47725号)、これを基に線形式
によってSi濃度を推定する方法等によってSi濃度を
推定し、該Si濃度の推定値と目標値との偏差を最小に
するような高炉操業方法が採用されてきた。しかしなが
ら高炉プロセス反応は、極めて複雑であシ、炉内状況も
必ずしも一定ではないため、Si濃度への影響の程度も
炉の状態により時々刻々変化している。したがってSi
濃度を推定し制御するうえでの従来技術は、高炉の操業
条件がほとんど不変で、かつSi濃度に影響する要因も
また不変である場合の変化のみを問題とするような限ら
れた場合にしか適用することができないと言える。
(ハ) 発明が解決しようとする問題点本発明の目的は
、Si濃度を予測し、Si濃度の目標値を達成する高炉
操業の制御方法に関し、前記従来技術の欠点すなわち操
業条件の変化によるS1濃度への影響要因変化の適時な
把握不足を解消し、Si濃度の予測精度を高位に維持す
ることにより適正な操作量を求める高炉操業の予測制御
方法を提供することにある。
に) 問題点を解決するだめの手段 本発明は、 Si濃度及び操作要因を含む5il1度に
大きく影響すると思われる複数個の操業要因について予
めオンラインで収集した実績時系列データをもとに以下
に説明するよりなSi濃度への影響要因分析方法を使っ
て当該Si濃度予測式の計算要因、及び予測式係数を自
動的に決定し、予測精度を高位に維持することにより目
標Si濃度と予測Si濃度の差が最小になるように該操
作要因の操作量を決定してSi濃度を制御する方法であ
る。この発明における制御の手順は、基本的に次のよう
にする。
〈第1段階〉 (1)Si濃度のオンライン時系列データを周波数分析
によりSi濃度パワースペクトルを求める。
+21  +11で求めたSi濃度パワースペクトルの
スペクトル値の大きなものに対応する周波数を選定する
(31Si濃度に影響すると思われる複数個の操業要因
についてあらかじめオンラインで収集しておいた実績時
系列データを用い、(2)で選定した各周波数に対して
操業要因毎に81濃度への寄与率(パワー寄与率)を求
める。
〈第2段階〉 +41  +31で求めたSi値への寄与率の大きな要
因のものから順次予測システムに取込み予測値の最良の
要因の組で予測システムを構成し予測計算式の係数を決
定する。
〈第3段階〉 (51(41で構成したSi濃度予測式に基づき計算し
た5iII&予測値と目標値の偏差が最小になるように
該操作要因の操作量を決定する。
(ホ)実施例 以下本発明を実施例に基づき詳述する。
(1)  Si濃度の時系1列変動は、次式によシ周波
数分析されSi濃度のパワースペクトルが求まる。
ここでX (t)は、s1濃度時系列データ、5xx(
f)はSi!1度パワースペクトル、tは時間、fは周
波数、Iは虚数単位である。溶銑中Si濃度の実績時系
列データを用いたパワースペクトルは第2図のようにな
る。
第2図は二つの異なる期間、期間I及び期間■について
プロットしたものである。
本例において、Si濃度のパワースペクトルは変動周期
が95時間、21時間、8.6時間及び5.4時間の所
に大きな山がある。これは、Si麺度の主変動は、これ
らの周波数成分の合成されたものと言える。
〔2〕  そこで、Si濃度の主変動を形成する周波数
1/95 (1/時間〕、1/21.1/8.6.11
5.4を選定する。
〔3〕 次に、これらの複数個の周波数成分における。
操業要因のSi濃度への寄与率(以下パワー寄与率と呼
ぶ)を以下の方法により求める。
該予測システムの予測計算式を次式で与える。
ここでZtts)は要因tの変動、gti−はZj (
S)に対する7、L(s)のインパレス応答関数、ηt
(s)は、要因tの固有の雑音、s、mは時刻を表わす
Ogtj(mlは評価関数をJとして とおいて、実績時系列データZt(s) (L= 1〜
k。
S=1〜N)からJを最小とするgtj (ml (m
 =1〜M)を求める。次にgtj(mlの周波数応答
関数を次式で表わすと、 となる。
(4)式を用いてパワー寄与率は次式で定義する0また
■ηt) (f)はηt(s)のパワースペクトルであ
る0 前記の期間I及び期間■について、(5)式を用いたS
i濃度に対する各操業要因のパワー寄与率を第1表、第
2表に示した。ここで操業要因としてはあらかじめ、溶
銑温度、炉内の通気抵抗(K値)、ガス利用率(η。。
)、炉頂温度(TT)、羽口前コークス温度(1o)、
鉱石対コークス比(010)、送風温度、送風湿分を指
定した。第1表、第2表の例で明らかなように期間■と
期間■において、Si濃度に寄与している変数は異なっ
ている。二つの期間を比較すると、期間Iについては、
Si濃度変動は、Si濃度自身の変動(過去の変動〕に
よる寄与が最も大きく、他の要因が81濃度に及ぼす影
響は比較的低い。この期間の操業が比較的安定していた
ため、変動要因は過去のSi変動ノ(ラツキによるもの
と考えられる。これに対して■の期間については、 S
i濃度の変動を促す要因に変化が生じη。。、TT及び
送風湿分が大きな影響を及ぼしていることがわかる0〔
4〕  そこで次に、このパワー寄与率の大きな要因因
を項次子測システムの構成要因として取込み予測値の最
良となる要因の組で予測システムの予測計算式((2)
式)を次の方法により構成し同時に予測計算式の係数を
(3)式の方法により求める。〔2〕で選定した複数個
の周波数成分について、寄与率の高い要因から順次取込
み、あるいは異なる周波数成分において寄与の順位が同
位で異なる要因があれば、その順位における要因の多い
もの(多数決による)より、またはSi濃度スペクトル
値の大きいものの要因を優先的に取込むことにより取シ
込み順位を決定する。次にこの選択順位に従い操業要因
を屓次子測計算式に取込み、予測精度を予測値と実績値
との相関値を計算して求め、予測精度の最大となるよう
な要因の組を決める。
以上のようにして決めた要因の組に対する予測精度の計
算例を第3表に示す。前記の期間■及び期間■の予測精
度の最大となる要因の組は、それぞれ期間1;Si濃度
、期間II ; Si濃度、η。(、、TT、 Olo
、送風湿分となっている。
第3表 期間I 期間■ 以上の方法によって、Si濃度の変動を周波数分析及び
、それぞれの周波数に対応する影響要因をコンピュータ
ーによりオンラインで適時に選定させる事により、時々
刻々変化する炉況に応じてSi濃度に影響する要因変化
を変動周期毎に適確に把握すると共に常に高位な予測精
度を維持する事が可能となる。
〔5〕  次に〔4〕によって構成されたSi濃度予測
計算式を基にしてあらかじめ指定しておいた操作要因を
変化させた時にSi濃度かどのように推移するかをn単
位時間先まで計算し、Si濃度の推移と目標値の差が最
小とする操作量のパターンを次の基本式により計算する
十B((新しい操作量)、−(現在の操作量)j)2)
・・・(6:ここでA、 Bは重み係数、重み係数A、
 Bは、操作量の変化を抑制させたい場合にはA<Bと
しまた操作量の大きな変化を許容しSi濃度を目標値に
可能な限シ近づけたい場合にはA〉Bとする。
第3図は前記操業要因の中でSi濃度を制御するうえで
現操業でも重要視されている送風湿分を操作量とし、A
=100.8=1.とじて適用した場合の操作量とSi
濃度の推移を示している。
本方式を適用しない場合にくらべSi濃度推移は目標値
に近くなっている。
(へ) 発明の効果 本発明の適用時における結果から効果を概算すると次の
ようになる。
Si濃度の目標値からのバラツキを本方式を使った場合
と使わなかった場合を比較すると第4表となる。
第  4  表 以上Si濃度の制御方法について記したが、高炉の他の
操業指標の要因たとえば、燃料比、出銑比、装入原料の
塩基度などを予測システムの対象要因として任意に指定
することができることはいうまでもなく、操作要因とし
て送風温度、0/Cあるいは装入原料の塩基度などの要
因の1個または複数個の条件を調整することによって、
Si濃度の目標値を達成することができるので、本発明
の効果は非常に犬である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の全体構成図、第2図はSi濃度のパワ
ースペクトル図、第3図は本発明の実施例を示す図であ
る。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 高炉操業において定期的に溶銑中Si濃度分析値の変動
    を周波数分析し、該Si濃度スペクトルの大きな周波数
    を指定して周波数成分毎に各種操業要因のSi濃度分析
    値の変動への寄与率を求め、この寄与率が大きいものを
    用いることによりSi予測精度を常に高位に維持するこ
    とを特徴とする溶銑中Si濃度の予測方法。
JP60097060A 1985-05-08 1985-05-08 溶銑中Si濃度の予測方法 Pending JPS61254853A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01156410A (ja) * 1987-12-11 1989-06-20 Nkk Corp 高炉操業方法
JPH01162708A (ja) * 1987-12-18 1989-06-27 Nkk Corp 高炉操業法
JP2009162430A (ja) * 2008-01-08 2009-07-23 Jfe Steel Corp 竪型炉の操業方法
JP2015048487A (ja) * 2013-08-30 2015-03-16 Jfeスチール株式会社 高炉の操業方法

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