JPS61249910A - シリル含有爪エナメル - Google Patents
シリル含有爪エナメルInfo
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- JPS61249910A JPS61249910A JP61091416A JP9141686A JPS61249910A JP S61249910 A JPS61249910 A JP S61249910A JP 61091416 A JP61091416 A JP 61091416A JP 9141686 A JP9141686 A JP 9141686A JP S61249910 A JPS61249910 A JP S61249910A
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- nail enamel
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- monomer
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- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/72—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic macromolecular compounds
- A61K8/84—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic macromolecular compounds obtained by reactions otherwise than those involving only carbon-carbon unsaturated bonds
- A61K8/89—Polysiloxanes
- A61K8/895—Polysiloxanes containing silicon bound to unsaturated aliphatic groups, e.g. vinyl dimethicone
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q3/00—Manicure or pedicure preparations
- A61Q3/02—Nail coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F30/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal
- C08F30/04—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal
- C08F30/08—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal containing silicon
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規の爪(ネイル)エナメルに関する。特にシ
ロキサニルアルキルエステルを含みまたは長期間よい安
定性、良好な光沢および爪へのよい付着性會もつ爪エナ
メルに関する。
ロキサニルアルキルエステルを含みまたは長期間よい安
定性、良好な光沢および爪へのよい付着性會もつ爪エナ
メルに関する。
爪エナメルのもだねはならぬ特性にはそれが皮膚や爪に
刺戟性でないこと。よいフィルムをつくるこト、ツff
易いこと、貯蔵安定なことおよび長期間よい均質安定性
をもっとされることである。これらのフィルム特性は滑
らかな応用面、爪へのよい付着性およびエナメルかわれ
る又はくだけるのを防ぐ十分な柔軟性を意味する均一厚
さとよい光沢をもったフィルム製造に重要である。
刺戟性でないこと。よいフィルムをつくるこト、ツff
易いこと、貯蔵安定なことおよび長期間よい均質安定性
をもっとされることである。これらのフィルム特性は滑
らかな応用面、爪へのよい付着性およびエナメルかわれ
る又はくだけるのを防ぐ十分な柔軟性を意味する均一厚
さとよい光沢をもったフィルム製造に重要である。
爪エナメルは一般に室温において風乾性であるフィルム
形成性ラッカーである。爪エナメルラッカーは一般に1
1)フィルム形成剤、(2)樹脂、(3)可塑剤、(4
)溶剤および(5)着色剤より成る。
形成性ラッカーである。爪エナメルラッカーは一般に1
1)フィルム形成剤、(2)樹脂、(3)可塑剤、(4
)溶剤および(5)着色剤より成る。
普通の爪エナメルはフィルム形成性成分としてニトロセ
ルロースを含んでいる。池の普通のフィルム形成剤は例
えばセルロースアセテートブチレートヲ含む。
ルロースを含んでいる。池の普通のフィルム形成剤は例
えばセルロースアセテートブチレートヲ含む。
爪エナメルの樹脂成分は乾燥フィルムの十分な硬度、耐
摩耗性および付着性を与えるため使われたフィルム形成
剤の特性を修正する様選ばれる。便利と昶られている樹
脂には71J−ルスルホンアミドーホルムアルデヒド樹
脂(例えトルエンスルホンアミド−ホルムアルデヒド4
1R脂)おヨヒ裡々のポリエステルとアルキド樹脂の様
な台底樹脂およびダンマールの様な天然樹脂がある。あ
る場合同一物質、例えばポリスチレンはフィルム形成性
と樹脂硬化性の両方を与える。
摩耗性および付着性を与えるため使われたフィルム形成
剤の特性を修正する様選ばれる。便利と昶られている樹
脂には71J−ルスルホンアミドーホルムアルデヒド樹
脂(例えトルエンスルホンアミド−ホルムアルデヒド4
1R脂)おヨヒ裡々のポリエステルとアルキド樹脂の様
な台底樹脂およびダンマールの様な天然樹脂がある。あ
る場合同一物質、例えばポリスチレンはフィルム形成性
と樹脂硬化性の両方を与える。
可塑剤は考えられる種々の要素によってえらばれる。可
−ω剤選択はフィルム形成剤の組成のみならずフィルム
の付着性と柔軟性を改良するためのエナメルの粘度、乾
燥速度等に対する個別可能剤の望む効果による。
−ω剤選択はフィルム形成剤の組成のみならずフィルム
の付着性と柔軟性を改良するためのエナメルの粘度、乾
燥速度等に対する個別可能剤の望む効果による。
爪エナメル組成物に使われる溶剤はラッカーの揮発性部
分として使われる。溶剤系は一般に(α) l又は2以
上の活性(普通の)溶剤、+6) カップラー(実際
には溶剤として働らく)%およ01c)稀釈剤がある。
分として使われる。溶剤系は一般に(α) l又は2以
上の活性(普通の)溶剤、+6) カップラー(実際
には溶剤として働らく)%およ01c)稀釈剤がある。
爪エナメルに入れらnる着色剤は望む化粧に過当な色を
与え乾燥フィルムを不透明にする役をする。
与え乾燥フィルムを不透明にする役をする。
したがって一般に本発明の目的はよいフィルム形成性と
付着性をもつ爪エナメルを提供することにある。
付着性をもつ爪エナメルを提供することにある。
本発明の他の目的は新規のフィルム形成性は成分を含む
爪エナメルの提供にある。
爪エナメルの提供にある。
更に本発明の他の目的は爪エナメル組成物のフィルム形
成性成分としてのシリルメタクリレートエステル共重合
体の提供にある。
成性成分としてのシリルメタクリレートエステル共重合
体の提供にある。
また本発明の他の目的は安価で取扱い容易な爪エナメル
の提供にある。
の提供にある。
他の目的、特徴および利点は下記記述から明白となるで
あろう。
あろう。
本発明によっであるシリルメタクリレートエステル単量
体1乃至30%、あるメタクリレート単量体1乃至90
%およびあるアクリレート単量体1乃至90%より成る
共重合体生成によって、えられた、フィルムの性質低下
を生ずることなく普通のフィルム形成剤をなしですます
爪エナメル組成物用の満足なフィルム形成剤が提供でき
ることが発見されたのである。
体1乃至30%、あるメタクリレート単量体1乃至90
%およびあるアクリレート単量体1乃至90%より成る
共重合体生成によって、えられた、フィルムの性質低下
を生ずることなく普通のフィルム形成剤をなしですます
爪エナメル組成物用の満足なフィルム形成剤が提供でき
ることが発見されたのである。
代表的爪エナメル組成物は約zO乃至35%又はそれ以
上、普通約24乃至30%の固体含量をもつ。従来の組
成物は次のものを含む: フィルム形成剤 8乃至16%樹脂
2乃至10%可塑剤 0.
2乃至10%着色剤 0.001乃至
5%溶剤 残り 合1ff100%
本明細書におけるパーセントは特に断らない限り重量基
準である。
上、普通約24乃至30%の固体含量をもつ。従来の組
成物は次のものを含む: フィルム形成剤 8乃至16%樹脂
2乃至10%可塑剤 0.
2乃至10%着色剤 0.001乃至
5%溶剤 残り 合1ff100%
本明細書におけるパーセントは特に断らない限り重量基
準である。
本発明による爪エナメルに使う共重合体は爪エナメル組
成物中のフィルム形成性成分と樹脂成分を部分的に又は
全面的に置換することを可能くする。これ自体低摩およ
びフィルム形成成分とホルムアルデヒド主体樹脂成分取
扱いによる危険減少による利点となる。
成物中のフィルム形成性成分と樹脂成分を部分的に又は
全面的に置換することを可能くする。これ自体低摩およ
びフィルム形成成分とホルムアルデヒド主体樹脂成分取
扱いによる危険減少による利点となる。
本発明は溶剤系およびフィルム形成剤を含むことを特徴
とする無水爪エナメルを提供する、但し上記フィルム形
成剤は (式中各Xは0CH1,OCH,CH,、OCH,CH
,CH,又はフェニル基を表わし%R1はメチルと水素
より成る群から選ばれたものとしかつルは3乃至18の
整数を表わす)で示されるシロキサニルアルキルエステ
ル単量体:(2)式: CH,−C−COOR,(n
)CH。
とする無水爪エナメルを提供する、但し上記フィルム形
成剤は (式中各Xは0CH1,OCH,CH,、OCH,CH
,CH,又はフェニル基を表わし%R1はメチルと水素
より成る群から選ばれたものとしかつルは3乃至18の
整数を表わす)で示されるシロキサニルアルキルエステ
ル単量体:(2)式: CH,−C−COOR,(n
)CH。
(式中R7は炭素原子1乃至18″f:もつ線状又は分
岐アルとR4は炭素原子1乃至4をもつアルキル又はと
ドロ牛ジアルキル基を表わす)をもつ少なくも1のメタ
クリレート:および (3)式: CH,−CHCOOE、 (
[1)(式中R1は炭素原子1乃至18をもつ線状又は
分岐アルキル基又は炭素原子7乃至16t−もつアラル
キル又は炭素原子1乃至18をもち炭素鎖がOlS又は
Nで中断されているヘテロアルキル基を表わす)で示さ
れる少なくも1の7クリレート の共重合反応によってえられる共重合体より成る。
岐アルとR4は炭素原子1乃至4をもつアルキル又はと
ドロ牛ジアルキル基を表わす)をもつ少なくも1のメタ
クリレート:および (3)式: CH,−CHCOOE、 (
[1)(式中R1は炭素原子1乃至18をもつ線状又は
分岐アルキル基又は炭素原子7乃至16t−もつアラル
キル又は炭素原子1乃至18をもち炭素鎖がOlS又は
Nで中断されているヘテロアルキル基を表わす)で示さ
れる少なくも1の7クリレート の共重合反応によってえられる共重合体より成る。
この共重合体は重1を基準で
(1) 式(17t−もつ少なくも1シロキサニルア
ルキル工ステル単量体1乃至30%、好ましくは5乃至
30%、最も好ましくは8乃至zO%; (2)式tlJ’にもつ少なくも1メタクリレ一ト単量
体1乃至90%、好ましくは5乃至85%:および(3
) 輝1[Dをもつ少なくも1のアクリレート単量体
1乃至90%、好ましくは5乃至85%: の共重合体より成る。
ルキル工ステル単量体1乃至30%、好ましくは5乃至
30%、最も好ましくは8乃至zO%; (2)式tlJ’にもつ少なくも1メタクリレ一ト単量
体1乃至90%、好ましくは5乃至85%:および(3
) 輝1[Dをもつ少なくも1のアクリレート単量体
1乃至90%、好ましくは5乃至85%: の共重合体より成る。
この重合体は普通3元共重合体であるが、上記3群の各
々から単量体の2又はそれ以上を使う限りは4元共重合
体、5元共重合体又はより多元共重合体でもよい。
々から単量体の2又はそれ以上を使う限りは4元共重合
体、5元共重合体又はより多元共重合体でもよい。
使用できる式(りをもつ代表的シロキサニルアルキルエ
ステル単量体にはトリメチルシロキサニルメチルメタク
リレート、トリメチルシロキサニルエチルアクリレート
、プロピルトリアルコキシシリルメタクリレートエステ
ル、トリフェニルシロキサニルメチルアクリレートがあ
る。
ステル単量体にはトリメチルシロキサニルメチルメタク
リレート、トリメチルシロキサニルエチルアクリレート
、プロピルトリアルコキシシリルメタクリレートエステ
ル、トリフェニルシロキサニルメチルアクリレートがあ
る。
本発明実施に使用できる爽■斤もつ代表的メタクリレー
ト単量体には メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピ
ルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ブチ
ルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメ
タクリレート、ヘプチルメタクリレート、オクチルメタ
クリレート、2−エチルへキシルメタクリレート、ノニ
ルメタクリレート、デシリメタクリレート、クンデシル
メタクリレート、ドデシルメタクリレート、ラウリルメ
タクリレート、セシルメタクリレート、オクタデシルメ
タクリレート、オレイルメタクリレート、2−N、N−
ジメチルアミノ−エチルメタクリレートがある。
ト単量体には メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピ
ルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ブチ
ルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメ
タクリレート、ヘプチルメタクリレート、オクチルメタ
クリレート、2−エチルへキシルメタクリレート、ノニ
ルメタクリレート、デシリメタクリレート、クンデシル
メタクリレート、ドデシルメタクリレート、ラウリルメ
タクリレート、セシルメタクリレート、オクタデシルメ
タクリレート、オレイルメタクリレート、2−N、N−
ジメチルアミノ−エチルメタクリレートがある。
本発明実施に使用できる式口金もつ代表的アクリレート
単量体には メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブテルアク
リレート% 2−エチルへキシルアクリレート、ドデシ
ルアクリレート、オクチルアクリレートがある。
単量体には メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブテルアク
リレート% 2−エチルへキシルアクリレート、ドデシ
ルアクリレート、オクチルアクリレートがある。
本発明の他の実施態様における共重合体はまた上記以外
にN−ビニルピロリドン又はアクリルアミド又は式:(
式中R8はH又はCM、 をあられし、またR[株]
はHlをあられす)t−もつメタクリレートの様な他の
単量体の共重合反応からえられる。
にN−ビニルピロリドン又はアクリルアミド又は式:(
式中R8はH又はCM、 をあられし、またR[株]
はHlをあられす)t−もつメタクリレートの様な他の
単量体の共重合反応からえられる。
この実施態様によるこの追加単量体は共重合体の1乃至
20重量%、好ましくは2乃至15重量5でよい。
20重量%、好ましくは2乃至15重量5でよい。
結局式([V)に対応する追加単量体にはアクリルアミ
ド、メタクリルアミド%N−taデt−ブチルアクリル
アミド、N−ヒドロキシメチルアクリルアミド、N−ヒ
ドロキシエチルメタクリルアミドおよび#−((#’−
ピロリドンー2)メチルコアクリルアミドがある。
ド、メタクリルアミド%N−taデt−ブチルアクリル
アミド、N−ヒドロキシメチルアクリルアミド、N−ヒ
ドロキシエチルメタクリルアミドおよび#−((#’−
ピロリドンー2)メチルコアクリルアミドがある。
本発明の爪エナメル組成物に使用できる共重合体は懸濁
重合、塊状重合、乳濁重合又は溶液重合の様な種々の普
通の重合反応によってえられる。本発明による爪エナメ
ルは無水であるべきであるから、重合反応はエチルアセ
テート、ブチルアセテート、アセトン又は好ましくはエ
タノールの様な有機溶剤溶液中で行なうのがよい。
重合、塊状重合、乳濁重合又は溶液重合の様な種々の普
通の重合反応によってえられる。本発明による爪エナメ
ルは無水であるべきであるから、重合反応はエチルアセ
テート、ブチルアセテート、アセトン又は好ましくはエ
タノールの様な有機溶剤溶液中で行なうのがよい。
共単量体のシロキサニルエステル含量が351℃1%以
下、またそれに対応してより高いけい素含量のエステル
ではより少量たとえば10〜15%の場合最良結果かえ
られる。
下、またそれに対応してより高いけい素含量のエステル
ではより少量たとえば10〜15%の場合最良結果かえ
られる。
分岐鎖アクリレートエステル酵導体、例えば2−エチル
へキシルアクリレートを使うならばより低いシロキサニ
ルエステル共単量体、例えばメチルシロキサニルメチル
アクリレートを使用するとよい。
へキシルアクリレートを使うならばより低いシロキサニ
ルエステル共単量体、例えばメチルシロキサニルメチル
アクリレートを使用するとよい。
本発明の共重合体は共単量体混合物をエチレン性不飽和
化合物の重合に普通用いる型の遊離基生成性重合反応開
始剤と接触させて製造される。代表的遊離基重合反応開
始剤には アセチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、
デカノイルパーオキサイド、カブリリルバーオキサイド
、ベンゾイルパーオキサイド、t−プチルペルオキシピ
ヴアレート、ジインプロピルイルオキシカーボネート、
t−ブチルパーオクトエート、N、N’−アゾビスイン
ブチロニトリル がある。
化合物の重合に普通用いる型の遊離基生成性重合反応開
始剤と接触させて製造される。代表的遊離基重合反応開
始剤には アセチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、
デカノイルパーオキサイド、カブリリルバーオキサイド
、ベンゾイルパーオキサイド、t−プチルペルオキシピ
ヴアレート、ジインプロピルイルオキシカーボネート、
t−ブチルパーオクトエート、N、N’−アゾビスイン
ブチロニトリル がある。
新規共重合体製造に普通の1合法が使用できる遊離基反
応開始剤約0.05−2重量%を含む共単量体混合物を
30乃至100℃、好ましくは70℃以内に加熱して重
合を開始させ完了させる。温度は重合体内に泡弧金少く
するため70℃以内に保つとよい。新規共重合体製造に
上記塊状重合法を用いる代りにエチレン性不飽和単量体
から重合体製造に普通使う方法を用い浴液、乳濁液又は
懸濁液重合法も、使用できる。
応開始剤約0.05−2重量%を含む共単量体混合物を
30乃至100℃、好ましくは70℃以内に加熱して重
合を開始させ完了させる。温度は重合体内に泡弧金少く
するため70℃以内に保つとよい。新規共重合体製造に
上記塊状重合法を用いる代りにエチレン性不飽和単量体
から重合体製造に普通使う方法を用い浴液、乳濁液又は
懸濁液重合法も、使用できる。
本発明に使う共重合体は一般に滲透圧法で測定して2.
000乃至200,000%好ましくは10,000乃
至100.000の分子量をもつ。
000乃至200,000%好ましくは10,000乃
至100.000の分子量をもつ。
本発明の爪エナメル組成物は着色又は無色いづれでも一
般に上記共重合体3乃至35重量%を言み残余はエナメ
ルの溶剤系、即ちこの種の組成物用の通常の溶剤および
(又は)普通の稀釈剤より成る。
般に上記共重合体3乃至35重量%を言み残余はエナメ
ルの溶剤系、即ちこの種の組成物用の通常の溶剤および
(又は)普通の稀釈剤より成る。
上述のとおり本発明の爪エナメルは無水なの1剤系は有
機溶剤又はその混合物から成る。これは比較的短かい乾
燥時間を可能とする。本発明に便利な溶剤にはアセトン
、エチルアセテート、ブチルアセテート、2−メトキシ
エチルアセテート、メチルエチルケトン、メチルインブ
チルケトンおよびメチルアセテートがある。溶剤系はま
た稀釈剤、好ましくはトルエン又はキシレンの様な芳香
族有機溶剤を爪エナメル組成物全重量基準として10乃
至30%の割合で含んでもよい。エナメルはまたエタノ
ール、露−ブタノール、n−プロパツール、インプロパ
ツール又はそれらの混合物の様な他の揮発性溶剤を含む
こともできる。
機溶剤又はその混合物から成る。これは比較的短かい乾
燥時間を可能とする。本発明に便利な溶剤にはアセトン
、エチルアセテート、ブチルアセテート、2−メトキシ
エチルアセテート、メチルエチルケトン、メチルインブ
チルケトンおよびメチルアセテートがある。溶剤系はま
た稀釈剤、好ましくはトルエン又はキシレンの様な芳香
族有機溶剤を爪エナメル組成物全重量基準として10乃
至30%の割合で含んでもよい。エナメルはまたエタノ
ール、露−ブタノール、n−プロパツール、インプロパ
ツール又はそれらの混合物の様な他の揮発性溶剤を含む
こともできる。
爪エナメルはまたフィルム形成共重合体の付着性と柔軟
性全改良するため少なくも1可塑剤0.2乃至10重量
%を含んでもよい。可塑剤にはベンジルベンゾエート、
トリブチルホスフェート、ブチルアセチルリシルエート
、グリセリルアセチルリシルエート、ジブチル7タレー
ト、ブチルグリコレート、ジオクチル7タレート、ブチ
ルステアL/−ト、トリブトキシエチルホスフェート、
トリフェニルホスフェート、トリエチルシトレート、ト
リブチルシトレート、トリブチルアセチルシトレート、
2−)ジメチルへキシルアセチルシトレート、ジブチル
タートレート、ジメトキシエチル7タレート、ジインブ
チルフタレート、シアミルフタレート、カンファーおよ
びそれらの種々の混合物が使用できる。
性全改良するため少なくも1可塑剤0.2乃至10重量
%を含んでもよい。可塑剤にはベンジルベンゾエート、
トリブチルホスフェート、ブチルアセチルリシルエート
、グリセリルアセチルリシルエート、ジブチル7タレー
ト、ブチルグリコレート、ジオクチル7タレート、ブチ
ルステアL/−ト、トリブトキシエチルホスフェート、
トリフェニルホスフェート、トリエチルシトレート、ト
リブチルシトレート、トリブチルアセチルシトレート、
2−)ジメチルへキシルアセチルシトレート、ジブチル
タートレート、ジメトキシエチル7タレート、ジインブ
チルフタレート、シアミルフタレート、カンファーおよ
びそれらの種々の混合物が使用できる。
本発明による爪エナメルにおいてニトロセルロースおよ
び(又は)アリールスルホンアミド/ホルムアルデヒド
型樹脂使用を省くこともできるが、普通使うよりも実質
的により少割合でもこれらt″調合加えることができる
。ニトロセルロースは典型的11C@R;−又はSS”
型、特に5AfF)R11mニトロセルロース、xeR
5WllニトロセルロースおよCFRS H抄型ニトロ
セルロースである。
び(又は)アリールスルホンアミド/ホルムアルデヒド
型樹脂使用を省くこともできるが、普通使うよりも実質
的により少割合でもこれらt″調合加えることができる
。ニトロセルロースは典型的11C@R;−又はSS”
型、特に5AfF)R11mニトロセルロース、xeR
5WllニトロセルロースおよCFRS H抄型ニトロ
セルロースである。
アリールスルホンアミド/ホルムアルデヒド型樹脂は商
品名1サントライトMHP”と1サントライトM!13
0%”として知られており、前者はより硬く、後者は柔
軟性の大きなフィルム形成の傾向がある。
品名1サントライトMHP”と1サントライトM!13
0%”として知られており、前者はより硬く、後者は柔
軟性の大きなフィルム形成の傾向がある。
本発明の爪エナメルが着色剤を含むならば少なくも1有
機又は無機着色剤が使用できる。有機着色剤にはDとC
赤屑10.11.12および13、DとC赤屑7、Dと
C赤A65と6、DとC赤434、およびレーキ、例え
ばレーキDとC黄/I65およびレーキDとC赤無機着
色剤、チタンダイオキサイド、ビスマスオキシクロライ
ド、褐色酸化鉄、赤色酸化鉄、およびグアニンがある。
機又は無機着色剤が使用できる。有機着色剤にはDとC
赤屑10.11.12および13、DとC赤屑7、Dと
C赤A65と6、DとC赤434、およびレーキ、例え
ばレーキDとC黄/I65およびレーキDとC赤無機着
色剤、チタンダイオキサイド、ビスマスオキシクロライ
ド、褐色酸化鉄、赤色酸化鉄、およびグアニンがある。
これらの着色剤は爪エナメル中にその組成物全重量基準
で0.1乃至8重量%の量であれば好ましい。本発明に
よる爪エナメル組放物はまた沈澱を防ぐ製品の様な他成
分、特にベントナイトの様なモントモリロナイト型粘土
および(又は)オルトりん酸の様な膨潤剤も含むことが
できる。
で0.1乃至8重量%の量であれば好ましい。本発明に
よる爪エナメル組放物はまた沈澱を防ぐ製品の様な他成
分、特にベントナイトの様なモントモリロナイト型粘土
および(又は)オルトりん酸の様な膨潤剤も含むことが
できる。
次の実施例は更に本発明および本発明による爪エナメル
用共重合体の製造法を例証するものである。
用共重合体の製造法を例証するものである。
実施例1
本実施例はgntもつ代表的シロキサニルアルキルエス
テル単量体および式X1l)t−もつメタクリル酸エス
テルからつくられた代表的共重合体の合成法を例証する
ものである。
テル単量体および式X1l)t−もつメタクリル酸エス
テルからつくられた代表的共重合体の合成法を例証する
ものである。
プロピルトリアルコキシシリルメタクリレート単量体4
0Ji’、2−N、N’−ジメチルアミノエチルメタク
リレ−)40g、エチルアクリレ−)20gおよび単量
体混合物u当りttrt−プチシイルオキシヒヴアレー
ト0.004mの混合物を撹拌機、コンデンサーおよび
窒素導入管をもつ適当フラスコに入れた。
0Ji’、2−N、N’−ジメチルアミノエチルメタク
リレ−)40g、エチルアクリレ−)20gおよび単量
体混合物u当りttrt−プチシイルオキシヒヴアレー
ト0.004mの混合物を撹拌機、コンデンサーおよび
窒素導入管をもつ適当フラスコに入れた。
撹拌後反応混合物を16時間還流加熱した。冷却後液を
エチルアセテート100gでうすめ石油エーテル?jt
加えて重合体を沈澱させた。乾燥して望む重合体をえた
。
エチルアセテート100gでうすめ石油エーテル?jt
加えて重合体を沈澱させた。乾燥して望む重合体をえた
。
実施例2゜
本発明による無色爪エナメルを次の成分:実施例10重
合体 251!ジブチルフタレート
3gカン7アー
1エチルアセテート 30gブチルア
セテート 40gを混合して製造した。
合体 251!ジブチルフタレート
3gカン7アー
1エチルアセテート 30gブチルア
セテート 40gを混合して製造した。
この爪エナメル組成物をプラッシュで爪につけると乾い
た後均一層かえられ層はよい付着性とよい光沢をもって
いた。
た後均一層かえられ層はよい付着性とよい光沢をもって
いた。
実施例8゜
次の成分:
実施例1の重合体 25gプチルフタレ
ー) 2Nエチルアセテート
20gトルエン
10gベントナイト27 1
.5gりん酸 0.02
,9チタンオキサイド 0.75.
lir褐色褐色上オキサイド 0.25g
DとC赤7−カルシウムレーキ 0.5gDとC赤
34 0.3gDとC黄5−アル
ミニウムレーキ U、7gブチルアセテートq、g、
p、 I OOgを混合して本発明による
着色爪エナメルヶ製造した。
ー) 2Nエチルアセテート
20gトルエン
10gベントナイト27 1
.5gりん酸 0.02
,9チタンオキサイド 0.75.
lir褐色褐色上オキサイド 0.25g
DとC赤7−カルシウムレーキ 0.5gDとC赤
34 0.3gDとC黄5−アル
ミニウムレーキ U、7gブチルアセテートq、g、
p、 I OOgを混合して本発明による
着色爪エナメルヶ製造した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(1)式:▲数式、化学式、表等があります▼(
I ) (式中各XはOCH_3、OCH_2CH_3、OCH
_2CH_2CH_3又はフェニル基を表わし;R_1
はメチル又は水素を表わし;かつnは3乃至18の整数
を表わす)で示される少なくも1のシロキサニルアルキ
ルエステル単量体1乃至30重量%;(2)式:▲数式
、化学式、表等があります▼(II) (式中R_2は炭素原子18までをもつ線状又は分岐ア
ルキル基又は▲数式、化学式、表等があります▼基をあ
らわし、但しR_3とR_4は炭素原子1乃至4をもつ
アルキル又はヒドロキシアルキルをあらわす)で示され
る少なくも1のメタクリレート単量体1乃至90重量%
;および (3)式:CH_2=CH−COOR_5(III)(式
中R_5は炭素原子18までをもつ線状又は分岐アルキ
ル基又は炭素原子7乃至16をもつアラルキル基又は炭
素原子1乃至18をもちその炭素鎖がO、N又はS原子
で中断されているヘテロアルキル基をあらわす)で示さ
れる少なくも1のアクリレート単量体1乃至90重量%
の重合反応からえられる共重合体より成るフィルム形成
剤および有機溶剤系より成ることを特徴とする爪エナメ
ル組成物。 2、上記共重合体が (1)式( I )をもつ少なくも1のシロキサニルアル
キルエステル単量体5乃至20重量%、 (2)式(II)をもつ少なくも1のメタクリレート単量
体5乃至85重重%、および (3)式をもつ少なくも1のアクリレート単量体5乃至
85重量% より成る特許請求の範囲第1項に記載の爪エナメル組成
物。 3、上記共重合体がN−ビニルピロリドン又はアクリル
アミド又は式:▲数式、化学式、表等があります▼(I
V) (式中R_8はH又は−CH_3をあらわし、R_9は
H、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学
式、表等があります▼又は▲数式、化学式、表等があり
ます▼ をあらわす)で示されるメタクリルアミドからなる少な
くも1の他の単量体をも単量体全重量基準として1乃至
20重量%の量で含む特許請求の範囲第1項又は2項に
記載の爪エナメル組成物。 4、上記他の単量体が全単量体重量を基準として2乃至
15重量%含まれる特許請求の範囲第3項に記載の爪エ
ナメル組成物。 5、式(IV)をもつアクリルアミド又はメタクリルアミ
ドがアクリルアミド、メタクリルアミド、N−tert
−ブチルアクリルアミド、N−ヒドロキシメチルアクリ
ルアミド、N−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、又
はN−〔(N’−ピロリドン−2)−メチル〕アクリル
アミドである特許請求の範囲第3項又は第4項に記載の
爪エナメル組成物。 6、式( I )をもつ不飽和単量体がプロピルトリアル
コキシシリルメタクリレートエステルである特許請求の
範囲第1項から5項までのいづれかに記載の爪エナメル
組成物。 7、式(II)をもつメタクリレート単量体がメチル、エ
チル、ブチル、tert−ブチル、ヘキシル、ドデシル
又はオクタデシルメタクリレート又は2−N,N−ジメ
チルアミノエチルメタクリレートである特許請求の範囲
第1項から6項までのいづれかに記載の爪エナメル組成
物。 8、式(III)をもつアクリレートがメチル、エチル、
ブチル、2−エチルヘキシル、ドデシル又はオクタデシ
ルアクリレートである特許請求の範囲第1項に記載の爪
エナメル組成物。 9、共重合体がジメチルサルフェート又はエチルブロマ
イドから選ばれた第4級化剤で第4級化される特許請求
の範囲第1項から8項までのいづれかに記載の爪エナメ
ル組成物。 10、有機溶剤系がアセトン、エチルアセテート、ブチ
ルアセテート、メチルエチルケトン、メチルアセテート
又はそれらの混合物である特許請求の範囲第1項から9
項までのいづれかに記載の爪エナメル組成物。 11、更に可塑剤を含む特許請求の範囲第1項から10
項までのいづれかに記載の爪エナメル組成物。 12、可塑剤がベンジルベンゾエート又はトリブチルホ
スフエートである特許請求の範囲第11項に記載の爪エ
ナメル組成物。 ]3、更に着色剤を含む特許請求の範囲第1項から12
項までのいづれかに記載の爪エナメル組成物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US72570585A | 1985-04-22 | 1985-04-22 | |
US725705 | 1985-04-22 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61249910A true JPS61249910A (ja) | 1986-11-07 |
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Family Applications (1)
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---|---|---|---|
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KR (1) | KR860007925A (ja) |
AT (1) | ATE47960T1 (ja) |
AU (1) | AU580868B2 (ja) |
BR (1) | BR8601792A (ja) |
CA (1) | CA1276562C (ja) |
DE (1) | DE3666912D1 (ja) |
DK (1) | DK181486A (ja) |
ES (1) | ES8800287A1 (ja) |
FI (1) | FI861672A (ja) |
IL (1) | IL78598A (ja) |
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NZ (1) | NZ215897A (ja) |
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0225411A (ja) * | 1988-07-12 | 1990-01-26 | Kobayashi Kose Co Ltd | 化粧料 |
JP5636533B1 (ja) * | 2014-04-23 | 2014-12-10 | 里田化工株式会社 | 人工爪原料組成物、人工爪原料組成物の硬化方法、人工爪の製造方法および人工爪 |
WO2016194731A1 (ja) * | 2015-05-29 | 2016-12-08 | 富士フイルム株式会社 | 爪化粧料、及び、ネイルアートキット |
WO2016194732A1 (ja) * | 2015-05-29 | 2016-12-08 | 富士フイルム株式会社 | 爪化粧料、及び、ネイルアートキット |
WO2016194730A1 (ja) * | 2015-05-29 | 2016-12-08 | 富士フイルム株式会社 | 爪化粧料及びネイルアートキット |
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EP0502636B1 (en) * | 1991-03-05 | 1996-08-14 | Dow Corning Corporation | Nail lacquer primary film forming resin |
DE69200991T2 (de) * | 1991-04-04 | 1995-07-06 | Dow Corning | Grundierung für Nagellacke sowie dessen Verfahren. |
US5302379A (en) * | 1993-03-05 | 1994-04-12 | Dow Corning Corporation | Nail lacquer primary film forming resin |
FR2755009B1 (fr) * | 1996-10-24 | 1998-11-27 | Bergerac Nc | Vernis a ongles aqueux |
CN101429260B (zh) * | 2008-08-22 | 2010-12-01 | 中国科学院上海应用物理研究所 | 一种聚甲基丙烯酸酯及其制备方法和用途 |
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FR1267528A (fr) * | 1960-09-14 | 1961-07-21 | Vernis à ongles | |
US3928113A (en) * | 1973-06-14 | 1975-12-23 | Clairol Inc | Method for coating human nails |
JPS5396338A (en) * | 1977-02-02 | 1978-08-23 | Shinetsu Polymer Co | Production of manicure |
JPS55139316A (en) * | 1979-04-17 | 1980-10-31 | Asanuma Sogyo Kk | Nail polish |
JPS59199621A (ja) * | 1983-04-28 | 1984-11-12 | Yuuhoo Chem Kk | 酸素ガス透過性のあるマニキユア剤 |
-
1986
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- 1986-04-17 IN IN298/CAL/86A patent/IN162924B/en unknown
- 1986-04-21 AU AU56566/86A patent/AU580868B2/en not_active Ceased
- 1986-04-21 ES ES554189A patent/ES8800287A1/es not_active Expired
- 1986-04-21 DK DK181486A patent/DK181486A/da not_active Application Discontinuation
- 1986-04-21 FI FI861672A patent/FI861672A/fi not_active Application Discontinuation
- 1986-04-21 DE DE8686105489T patent/DE3666912D1/de not_active Expired
- 1986-04-21 ZA ZA862975A patent/ZA862975B/xx unknown
- 1986-04-21 EP EP86105489A patent/EP0199325B1/en not_active Expired
- 1986-04-21 NZ NZ215897A patent/NZ215897A/xx unknown
- 1986-04-21 NO NO861563A patent/NO168084C/no unknown
- 1986-04-21 AT AT86105489T patent/ATE47960T1/de not_active IP Right Cessation
- 1986-04-22 JP JP61091416A patent/JPS61249910A/ja active Pending
- 1986-04-22 IL IL78598A patent/IL78598A/xx unknown
- 1986-04-22 KR KR1019860003095A patent/KR860007925A/ko not_active Application Discontinuation
- 1986-04-22 BR BR8601792A patent/BR8601792A/pt unknown
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JP5636533B1 (ja) * | 2014-04-23 | 2014-12-10 | 里田化工株式会社 | 人工爪原料組成物、人工爪原料組成物の硬化方法、人工爪の製造方法および人工爪 |
JP2015209375A (ja) * | 2014-04-23 | 2015-11-24 | 里田化工株式会社 | 人工爪原料組成物、人工爪原料組成物の硬化方法、人工爪の製造方法および人工爪 |
WO2016194731A1 (ja) * | 2015-05-29 | 2016-12-08 | 富士フイルム株式会社 | 爪化粧料、及び、ネイルアートキット |
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WO2016194730A1 (ja) * | 2015-05-29 | 2016-12-08 | 富士フイルム株式会社 | 爪化粧料及びネイルアートキット |
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