JPS61246701A - 回折格子の形成方法 - Google Patents

回折格子の形成方法

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JPS61246701A
JPS61246701A JP5745585A JP5745585A JPS61246701A JP S61246701 A JPS61246701 A JP S61246701A JP 5745585 A JP5745585 A JP 5745585A JP 5745585 A JP5745585 A JP 5745585A JP S61246701 A JPS61246701 A JP S61246701A
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JP
Japan
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diffraction grating
medium
transparent body
forming
regions
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JP5745585A
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JPH0322602B2 (ja
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Masataka Shirasaki
白崎 正孝
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication of JPH0322602B2 publication Critical patent/JPH0322602B2/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 DFBレーザなどを製造する際の回折格子を形成する方
法であって、2つの光束を照射して干渉縞を形成する際
に、媒体との間に透明体を配置し、かつ該透明体に段差
をつけるなどの手法で光路長を変え、しかも2つの光束
を非対称に照射することにより、回折格子に位相シフト
を与える。
〔産業上の利用分野〕
第8図に示すようにDFBレーザは、半導体チップ7上
に、回折格子8を形成し、その上にレーザ9が作成され
た構造に成っている。このレーザに通電すると回折格子
8およびレーザ9の部分でレーザ発振を起こし、レーザ
光を放出する。
ところが単に回折格子を形成しただけでは、回折格子に
おける位相関係がずれるために、DFBレーザの縦モー
ドが2つ発生するという不都合がある。これを解消する
には、第9図のように、回折格子8のピンチをレーザ発
振の中心部Cを境にしてずらすことで、左右の位相関係
を予めずらしておくことが知られている。本発明は、こ
のように回折格子の位相をずらして形成する方法に関す
る。
〔従来の技術〕
ところでDFBレーザの回折格子を形成するには、従来
は電子ビームで回折格子を描画する手法が採られている
。ところがこのように電子ビームで露光する方法は、作
業が複雑なうえに、時間を要し、量産的でない。また別
の方法として、光の当たった領域が食刻されるレジスト
と光の当たらない領域が食刻されるレジストを隣接して
配置し、露光することで回折格子を作成することも知ら
れている。しかしながらこのような特性を発揮できる2
種のレジストの特性が異なり、実用化に至っていない。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明の技術的課題は、従来の回折格子の形成方法にお
けるこのような問題を解消し、簡単な装   ・置で容
易に、かつ確実に位相差をもった回折格子を作成できる
ようにすることにある。
〔問題点を解決するための手段〕
第1図は本発明による回折格子の形成方法の基本原理を
示す側面図で、(イ)は全容を示し、(ロ)は要部の拡
大図である。4は回折格子を形成する媒体であり、その
上にガラスなどの透明体3が載置される。この透明体3
は、発振中心部C上で段差がつき、その両側の光路長が
異なる。あるいは発振中心部C上を境にして、左右の屈
折率が異なる構成としてもよい。
この媒体4の面に、前記透明体3を介して、2つの光束
5と6が照射される。その際光束5と6が角度2θの角
度をなして入射し、媒体4上で2つの光束の干渉が行な
われる。また2つの光束5と6の成す中心軸Aは、法線
Vに対し角度φだけ傾き、非対称の状態で照射される。
〔作用〕
第1図(ロ)に示すように、透明体3の厚さは、段差部
11を境にして異なり、左側の厚さtlより右側の厚さ
t2が小さい。そのため段差部11の左側と右側とでは
、光路長が異なり、また2つの光束5.6が角度φだけ
傾き非対称に照射されるので、段差部11を境にして干
渉縞の位相がずれる。
その結果、2つの光束による干渉縞を露光して形成され
る回折格子8も、段差部11を境にして位相がずれる。
〔実施例〕
第2図は本発明による回折格子の形成方法を使用して、
DFBレーザを製造する例を示す側面図である。同時に
多数のDFBレーザを製造できるように、透明体3に、
レーザの寸法lと同じピッチで多数の段差部11・・・
が形成されている。2つの光束5.6を照射すると、そ
れぞれの段差部11・・・を境にして、両側の光路長が
異なり、かつ光束5.6の入射方向を垂線Vに対し角度
φだけ傾けて非対称に照射することで、それぞれの段差
部11を境にして位相のずれた回折格子が形成される。
露光して回折格子を形成した後に、段差部11が中心に
くるように、鎖線12・・・の位置で切り離される。
次に第3図において、段差寸法tと2光束5.6の傾き
角φを求める。透明体3として、屈折率がnのガラスを
使用し、DFBレーザの寸法(キャビティ長)をl、段
差寸法をtとする。いま回折格子の周期を八とすると、 2八sinθcosφ=λ ・(1) となる。光源として、波長λが3250人のHeCdレ
ーザ光を使用し、θ=54.3度、φ=5度とすると、
A=2009人となる。ガラスの屈折率n =1.5の
とき、段差寸法t=2.03μ爾とすれば、段差部11
を境にして、回折格子の位相を反転できることになる。
ガラスとしては、紫外光の吸収の少ない石英を用いるの
が良い。
なお透明体3の両面にARコートと呼ばれる反射防止処
理を行なえば、透明体3中で光が多重反射して回折格子
が乱れるのを防止できる。
第4図は透明体の段差形成方法の第1実施例である。3
1は石英ガラスであり、その表面に、幅がlで、厚さt
の5i02の膜13を形成する。すると、11*13の
領域の板厚がtl、膜13の無い領域の板厚がt2とな
る。この膜13は、蒸着やスパッタリングなどの手法で
形成される。
第5図は段差形成方法の別の実施例で、透明体32を幅
lの領域だけ、エツチングによって除去し、深さがtの
窪みを形成することで、段差部11を形成している。
以上は、透明体に段差部11を形成することで光路長を
変えているが、第6図のように、発振中心部を境にして
、両側の透明体33と34の屈折率を変えることでも同
様な効果が得られる。すなわち同図(イ)のような石英
ガラスなどの透明平板35に、それと屈折率の異なるZ
rO2などの膜33を被着形成し、(ロ)の形状にする
。次に(ハ)のように、膜33の無い領域に、石英ガラ
ス35と屈折率の等しい5i02の膜34をZrO2膜
33膜間3厚さまで成膜する。この構成は、透明体の板
厚は一定であるが、ZrO2膜33膜間3と5i02膜
34の領域とで屈折率が異なるので、照射される光束の
光路長も異なる。
第7図は三角柱形状をした透明体の例であり、光路長の
異なる2つの領域1.2を有する面36と光束5の入射
面37と光束6の入射面38によって囲まれる三角柱状
を成している。
〔発明の効果〕
以上のように本発明によれば、光源と回折格子を形成す
る媒体との間に置く透明体の光路長を変え、かつ光束を
傾けて照射するだけで、位相差をもった回折格子を形成
できるので、簡単な装置で容易にかつ確実に回折格子が
得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による回折格子の形成方法の基本立理を
示す側面図、第2図は本発明による回折格子の形成方法
の実施例を示す側面図、第3図は段差寸法の算出例を示
す側面図、第4図〜第7図は透明体の各実施例を示す断
面図、第8図はDFBレーザの断面図、第9図は位相差
をもった回折格子を示す断面図である。 図において、3は透明体、4は回折格子を形成する媒体
、5.6は光束、Cは発振中心部、■は法線、11は段
差部をそれぞれ示す。 特許出願人      富士通株式会社代理人 弁理士
    青 柳   稔第1図 第2図 第3図 透明体実施例 第4図 透明体実施例 第5図 透明体実施例 第6図 第7図 DFBシーデー断面 第8図 第9図

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)、2つの光束の干渉露光により回折格子を形成す
    る方法において、回折格子を形成する媒体(4)の上に
    、光の光路長の異なる2つの領域(1)(2)を有する
    透明体(3)を該表面が媒体(4)と同じ側となるよう
    に媒体(4)に接触させ、かつ2つの光束(5)(6)
    を角度(2θ)をつけて照射し、 しかも2つの光束(5)(6)のなす中心軸(A)を、
    媒体(4)の上面および透明体(3)の領域(1)(2
    )の面の法線Vに対し、相対的に角度φだけ傾けること
    で、2つの光束5と6の入射方向を、法線Vに対し非対
    称とすることを特徴とする回折格子の形成方法。
  2. (2)、前記光の光路長の異なる2つの領域が、表面の
    高さが異なる2つの領域よりなることを特徴とする特許
    請求の範囲第(1)項記載の回折格子の形成方法。
  3. (3)、前記光の光路長の異なる2つの領域が、異なる
    屈折率よりなる層を選択的に設けることより形成される
    ことを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の回折
    格子の形成方法。
  4. (4)、前記透明体(3)が、領域(1)(2)および
    それに平行な平面により挟まれた平板状であることを特
    徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の回折格子の形
    成方法。
  5. (5)、前記透明体(3)が、領域(1)(2)および
    光束(5)、光束(6)の各々の入射面より成る三角柱
    形状であることを特徴とする特許請求の範囲第(1)項
    記載の回折格子の形成方法。
  6. (6)、前記透明体(3)の光束入射面および領域(1
    )(2)に該光束の偏光状態、入射角、波長に対応した
    反射防止膜を形成したことを特徴とする特許請求の範囲
    第(1)項記載の回折格子の形成方法。
JP5745585A 1985-03-20 1985-03-20 回折格子の形成方法 Granted JPS61246701A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5745585A JPS61246701A (ja) 1985-03-20 1985-03-20 回折格子の形成方法
CA504383A CA1270934C (en) 1985-03-20 1986-03-18 SPATIAL PHASE MODULATED MASKS AND METHODS FOR MAKING THESE MASKS AND PHASE DIFFRACTION GRATINGS
DE8686400592T DE3687845T2 (de) 1985-03-20 1986-03-20 Raeumliche phasenmodulationsmasken, verfahren zu deren herstellung und verfahren zur bildung von phasenverschobenen beugungsgittern.
US06/841,801 US4806442A (en) 1985-03-20 1986-03-20 Spatial phase modulating masks and production processes thereof, and processes for the formation of phase-shifted diffraction gratings
EP86400592A EP0195724B1 (en) 1985-03-20 1986-03-20 Spatial phase modulating masks and production processes thereof, and processes for the formation of phase-shifted diffraction gratings

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JPS61246701A true JPS61246701A (ja) 1986-11-04
JPH0322602B2 JPH0322602B2 (ja) 1991-03-27

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5221429A (en) * 1990-04-19 1993-06-22 Kabushiki Kaisha Toshiba Method of manufacturing phase-shifted diffraction grating

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5221429A (en) * 1990-04-19 1993-06-22 Kabushiki Kaisha Toshiba Method of manufacturing phase-shifted diffraction grating

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JPH0322602B2 (ja) 1991-03-27

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