JPS61235070A - Solder treating equipment - Google Patents

Solder treating equipment

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Publication number
JPS61235070A
JPS61235070A JP7611485A JP7611485A JPS61235070A JP S61235070 A JPS61235070 A JP S61235070A JP 7611485 A JP7611485 A JP 7611485A JP 7611485 A JP7611485 A JP 7611485A JP S61235070 A JPS61235070 A JP S61235070A
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JP
Japan
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solder
section
cleaning
drying
electronic components
Prior art date
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Pending
Application number
JP7611485A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsuichi Inagaki
稲垣 勝一
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IDEYA KK
Original Assignee
IDEYA KK
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To perform efficiently and surely the cleaning and drying by a through automatic treatment by constituting of the solder dipping part of rotary type and the cleaning and drying part of rotary type having cleaning mechanism and drying mechanism. CONSTITUTION:The solder dipping part 1 has the structure of rotary type, receives at a receiving part 4 the electronic component fed from the feeding part 3 and clamps it by the clamping part 5. A flux is then coated by the flux coating part 6, the flux is removed from the lead by the flux removing part 7, the lead is heated by the preheating part 8 and the solder is dipped in the solder tank 9. It is then cleaned by three precleaning tanks 11-13 and delivered to the cleaning and drying part 2 via the delivery part 14. The cleaning and drying part 2 is of rotary part as well and the receiving part 19 receives the electronic component via the transfer part 18 from the solder dipping part 1, cleans in order in the cleaning tanks 20-23, dries with hot air at the drying part 25 via the water cutting mechanism 24 and releases from the releasing part 26 to the storing part 27.

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は電子部品の半田処理装置、特に、面装着型の半
導体装置のリードまたはバンブへの半田ディツプおよび
洗浄乾燥処理に利用して有効な半田処理装置に関するも
のである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field] The present invention relates to a solder processing apparatus for electronic components, and in particular to a solder processing apparatus that is effective for use in solder dipping and cleaning and drying processing for leads or bumps of surface-mounted semiconductor devices. It is related to.

〔背景技術〕[Background technology]

電子部品をプリント基板等へ実装する場合、そのリード
またはバンブを基板の所定部位に半田付けすることによ
って実装されている。
When electronic components are mounted on a printed circuit board or the like, their leads or bumps are soldered to predetermined locations on the board.

そのため、電子部品のリードまたはバンプは基板への半
田付は性を良くするため、製造終了の時点で予め半田デ
ィツプして半田を被着しておくことが一般的に行われて
いる。そして、このような半田ディツプを行うために様
々な装置が提供されている。
Therefore, in order to improve the soldering properties of electronic component leads or bumps to a board, it is common practice to pre-dip them with solder to coat them with solder at the time of completion of manufacturing. Various devices are provided for performing such solder dipping.

ところで、この半田ディツプを行う場合、電子部品によ
ってはその外形構造が多種多様にわたり、自動一貫処理
を行うに際しては各種類の電子部品に遺した構造の保持
機構を用意しておかなければならず、極めて面倒かつ困
難な処理が必要となる。
By the way, when performing solder dipping, there are many different external structures depending on the electronic component, and when performing automatic integrated processing, it is necessary to prepare a holding mechanism that retains the structure of each type of electronic component. This requires extremely troublesome and difficult processing.

特に、最近では、半導体装置の高集積度化に伴い、従来
者えられなかった構造のものが出現するに及んで、半田
ディップ装置の製作、管理コストがかかり、結局のとこ
ろ、半田ディッピングの自動化の障害となっている。
In particular, in recent years, as semiconductor devices have become more highly integrated, structures that were previously unavailable have appeared, increasing the cost of manufacturing and managing solder dipping equipment. has become an obstacle.

たとえば、最近になって、フラットパッケージ型、さら
には、高集積度化および低コスト化等のためリード先端
を折り曲げて面装着するプラスチックリーデツドチップ
キャリア(PLCC)型の半導体装置が提供されるに及
んで、そのリードへの半田ディッピングがさらに困難に
なる傾向にあス− また、一方では、リードへの半田のディップ装置を終了
した半導体装置はそのリード等を洗浄して半田かす等を
除去しかつ乾燥することが要求される。その洗浄乾燥に
おいても、パンケージ構造の変更により自動処理化が困
難になって来ている。
For example, recently, flat package type semiconductor devices and even plastic leaded chip carrier (PLCC) type semiconductor devices, in which lead tips are bent and surface-mounted, are being provided in order to achieve higher integration and lower costs. As a result, solder dipping to the leads tends to become more difficult.On the other hand, semiconductor devices that have completed the solder dipping device for the leads must be cleaned to remove solder residue, etc. and drying is required. Even in the cleaning and drying process, it is becoming difficult to automate the process due to changes in the pan cage structure.

しかも、従来は半田ディップ装置と洗浄乾燥装置とはそ
れぞれ別々の装置として構成されており、−貫自動処理
ができない上に、構造が大型化する等の問題のあること
が本発明者により見い出された。
Furthermore, the present inventors have discovered that conventionally, the solder dipping device and the cleaning/drying device are each configured as separate devices, which causes problems such as not only being unable to perform automatic soldering processing but also increasing the size of the structure. Ta.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は、電子部品のリードまたはバンプへの半
田ディツプおよび洗浄乾燥を一貫自動処理により効率良
く確実に行うことのできる半田処理装置を提供すること
にある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a solder processing apparatus that can efficiently and reliably perform solder dipping to leads or bumps of electronic components, washing and drying through an integrated automatic process.

本発明の他の目的は、コンパクトで多機能を有する半田
処理装置を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a compact and multi-functional solder processing device.

本発明のさらに他の目的は、処理を容易にしかつ効率を
向上させることのできるコンパクトな半田処理装置を提
供することにある。
Still another object of the present invention is to provide a compact solder processing device that facilitates processing and improves efficiency.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明は、半田ディップ部と洗浄乾燥部とをいずれもロ
ータリ型の構造として1台の装置に組み込み、これらの
処理部間で電子部品を受け渡しながら半田ディツプのみ
ならず、洗浄乾燥に至るまで一貫自動処理することがで
き、効率の良い処理を確実に行うことが可能であり、ま
たコンパクトで、しかも多機能の半田処理装置を得るこ
とができる。
The present invention incorporates both the solder dip section and the cleaning/drying section into one device as a rotary type structure, and while electronic components are transferred between these processing sections, not only the solder dipping section but also the cleaning and drying process is carried out consistently. It is possible to perform automatic processing, ensure efficient processing, and obtain a compact and multifunctional solder processing device.

また、半田ディップ部および洗浄乾燥部に間欠回転およ
び昇降可能なロータリ機構を設け、該ロータリ機構の下
降時に各処理位置の各電子部品にそれぞれ異なる処理を
施すよう構成することによって、処理を容易にしかつ効
率を向上させ、コンパクトな構造を得ることができる。
In addition, a rotary mechanism that can rotate intermittently and move up and down is provided in the solder dipping section and the cleaning/drying section, and when the rotary mechanism is lowered, a different process is applied to each electronic component at each processing position, thereby making processing easier. Moreover, the efficiency can be improved and a compact structure can be obtained.

〔実施例〕〔Example〕

第1図は本発明の半田処理装置の一実施例を示す概略的
全体平面図、第2図はその概略的断面図、第3図は半田
ディップ部のロータリ機構の断面図、第4図はクランプ
部の側面図、第5図は昇降部の駆動部の部分断面図、第
6図は予備洗浄部の平面図、第7図はその断面図、第8
図は移載部の平面図、第9図(al、 (bl、 te
lはそれぞれ第8図のA−A。
FIG. 1 is a schematic overall plan view showing an embodiment of the solder processing apparatus of the present invention, FIG. 2 is a schematic cross-sectional view thereof, FIG. 3 is a cross-sectional view of the rotary mechanism of the solder dip part, and FIG. A side view of the clamp section, FIG. 5 is a partial sectional view of the drive section of the lifting section, FIG. 6 is a plan view of the pre-cleaning section, FIG. 7 is a sectional view thereof, and FIG.
The figure is a plan view of the transfer section, Figure 9 (al, (bl, te)
1 are A-A in FIG. 8, respectively.

B−B、C−C断面図、第10図は同じく移載部の部分
断面図、−第11図は洗浄乾燥部のロータリ機構の断面
図、第12図はトレーの平面図、第13図は洗浄部の平
面図、第14図はその断面図、第15図はインデックス
駆動部の断面図、第16図は水切り機構の断面図、第1
7図は乾燥炉の概略断面図、第18図(al、 (bl
はそれぞれ本発明を適用できるプラスチックリーデツド
チップキャリア型の半導体装置の斜視図と断面図である
BB and CC sectional views, FIG. 10 is also a partial sectional view of the transfer section, - FIG. 11 is a sectional view of the rotary mechanism of the washing and drying section, FIG. 12 is a plan view of the tray, and FIG. 13 14 is a plan view of the cleaning section, FIG. 14 is a sectional view thereof, FIG. 15 is a sectional view of the index drive section, FIG. 16 is a sectional view of the draining mechanism, and FIG.
Figure 7 is a schematic sectional view of the drying oven, Figure 18 (al, (bl)
1A and 1B are a perspective view and a sectional view, respectively, of a plastic leaded chip carrier type semiconductor device to which the present invention can be applied.

まず、第1図および第2図を参照すると、本実施例の半
田処理装置は1つの装置に半田ディップ部1と洗浄乾燥
部2とを併設してコンパクトな一体構造とし、半田ディ
ツプおよび洗浄乾燥の各処理を1台の装置で一貫自動化
できるよう構成したものである。
First, referring to FIG. 1 and FIG. 2, the solder processing apparatus of this embodiment has a compact integrated structure in which a solder dip section 1 and a cleaning/drying section 2 are provided together in one device. The system is configured so that each process can be fully automated with a single device.

半田ディップ部1は、ロータリ型の構造を有し、供給部
3から供給された電子部品、たとえば第20図(al、
 (blに示すような、いわゆるプラスチックリーデツ
ドチップキャリア型半導体装置を受け取る受取り部4と
、電子部品をクランプするクランプ部5と、クランプ部
5から間欠送りされた電子部品の外部に突出したリード
にフラフクスを被着するフラックス被着部6と、リード
からフラフクスを除去するフラックス被着部7と、リー
ドを加熱して活性化し、半田の漏れ性を向上させるプレ
ヒート部8と、予熱されたリードに半田をディップする
半田槽9と、空ステージ10と、半田ディツプを終了し
た電子部品を予備洗浄する3つの予備洗浄槽11,12
.13と、予備洗浄された電子部品を洗浄乾燥部に受け
渡す受渡し部14と、空ステージ15とからなる。
The solder dip section 1 has a rotary type structure, and is used for handling electronic components supplied from the supply section 3, for example, in FIG.
(As shown in bl, there is a receiving section 4 that receives a so-called plastic leaded chip carrier type semiconductor device, a clamp section 5 that clamps an electronic component, and a lead protruding to the outside of the electronic component that is intermittently fed from the clamp section 5. A flux application section 6 that applies flux, a flux application section 7 that removes flux from the leads, a preheat section 8 that heats and activates the leads to improve solder leakage, and a preheated lead A solder tank 9 for dipping solder, an empty stage 10, and three pre-cleaning tanks 11 and 12 for pre-cleaning electronic components after solder dipping.
.. 13, a transfer section 14 that transfers pre-cleaned electronic components to a cleaning/drying section, and an empty stage 15.

これらの各部4〜15は互いに30度の角度だけ均等間
隔で離間して円周方向に配置されている。
These portions 4 to 15 are arranged in the circumferential direction at equal intervals of 30 degrees from each other.

これらの各部4〜15の中心にはロータリ機構16が位
置し、このロータリ機構16は後述するように、電子部
品を上下からクランプして30度の角度ごとに時計方向
に間欠回転かつ昇降して各部4〜15の各々で電子部品
に対して所定の処理を施すものである。
A rotary mechanism 16 is located in the center of each of these parts 4 to 15, and as will be described later, this rotary mechanism 16 clamps the electronic components from above and below and intermittently rotates clockwise and raises and lowers them at 30 degree angles. Each of the sections 4 to 15 performs a predetermined process on the electronic component.

一方、洗浄乾燥部2も同じくロータリ型の構造を有し、
前記半田ディップ部1と同じベース17上に並置されて
いる0本実施例の洗浄乾燥部2は、半田ディップ部1の
受渡し部14から移載部18を経て電子部品を受け取る
受取り部19と、電子部品を順次洗浄する4つの洗浄槽
20.21,22.23と、洗浄後の電子部品および洗
浄治具に付着した残留水分を除去する水切り機構24と
、電子部品を熱風乾燥する乾燥部25と、電子部品を収
納部27に放出する放出部26とからなる。
On the other hand, the washing and drying section 2 also has a rotary type structure,
The cleaning/drying section 2 of this embodiment, which is arranged in parallel on the same base 17 as the solder dip section 1, includes a receiving section 19 that receives electronic components from the delivery section 14 of the solder dip section 1 via the transfer section 18; Four cleaning tanks 20.21, 22.23 that sequentially clean electronic components, a draining mechanism 24 that removes residual moisture adhering to electronic components and cleaning jigs after cleaning, and a drying section 25 that dries electronic components with hot air. and a discharge section 26 that discharges electronic components into a storage section 27.

これらの各部19〜26は互いに45度の角度だけ均等
間隔で離間して円周方向に配置されている。これらあ各
部19〜26の中心にはロータリ機構28が位置し、こ
のロータリ機構28は後で説明するように、電子部品を
治具すなわちトレー29に整列状態で収納して45度の
角度ごとに時計方向に間欠回転して各部19〜26の各
々で電子部品に対して所定の処理を施すものである。
These portions 19 to 26 are arranged in the circumferential direction at equal intervals of 45 degrees from each other. A rotary mechanism 28 is located in the center of each of these parts 19 to 26, and as will be explained later, this rotary mechanism 28 stores electronic components in a jig or tray 29 in an aligned state and arranges them at every 45 degree angle. It rotates intermittently in a clockwise direction to perform predetermined processing on electronic components in each of the sections 19-26.

半田ディップ部lのロータリ機構16は、回転および上
下動可能な構造であり、第3図に示すように、モータの
如き駆動源(図示せず)によりたとえば時計方向に駆動
される回転軸30と、中空の支柱31と、ベアリング受
け32と、回転軸の上部に取り付けられたハウジング3
3と、回転軸30の上端に押さえ金具35で取り付けら
れた円板34と、給気用のマニホールド36と、円板3
4に取り付けられる上部カバー37と、スペーサ38を
介して支柱31に固定される下部カバー39とを有して
いる。ロータリ機構16は駆動源で回転軸30を間欠回
転することにより、電子部品を前記各処理部4〜15間
で順次搬送することができる。
The rotary mechanism 16 of the solder dip part l has a structure that can rotate and move up and down, and as shown in FIG. , a hollow support 31, a bearing receiver 32, and a housing 3 attached to the upper part of the rotating shaft.
3, a disk 34 attached to the upper end of the rotating shaft 30 with a presser fitting 35, an air supply manifold 36, and a disk 3
4, and a lower cover 39 that is fixed to the support column 31 via a spacer 38. The rotary mechanism 16 can sequentially transport electronic components between the processing units 4 to 15 by intermittently rotating the rotating shaft 30 using a drive source.

その場合、電子部品をクランプするため、クランプ機構
40がロータリ機構16の外周側に各処理部4〜15に
対応して合計12ケ所に設けられている。すなわち、ク
ランプ機構40は第3図および第4図に示すように、前
記マニホールド36と給気パイプ41を介して接続され
、フランジ42で保持されたバルブ43と、該バルブ4
3で制御されるロータリアクチュエータ44と、このロ
ータリアクチェエータ44で上下方向に開閉され、電子
部品45を上下から挟持する一対のクランプアーム46
とを有している。
In this case, in order to clamp the electronic components, clamp mechanisms 40 are provided at a total of 12 locations on the outer peripheral side of the rotary mechanism 16 corresponding to each of the processing sections 4 to 15. That is, as shown in FIGS. 3 and 4, the clamp mechanism 40 is connected to the manifold 36 via an air supply pipe 41, and includes a valve 43 held by a flange 42, and a valve 43 connected to the manifold 36 through an air supply pipe 41.
3, and a pair of clamp arms 46 that are opened and closed in the vertical direction by the rotary actuator 44 and clamp the electronic component 45 from above and below.
It has

このクランプアーム46はそのクランプ面で電子部品4
5の上下面の全面を上下からクランプするように構成す
ることにより、半田ディップ時に半田の熱が電子部品4
5内の素子に伝導されて素子を破壊することを防止でき
る。
This clamp arm 46 has a clamping surface that supports the electronic component 4.
By configuring the entire upper and lower surfaces of the electronic components 5 to be clamped from above and below, the heat of the solder is transferred to the electronic components 4 during solder dipping.
It is possible to prevent the conduction to the elements within 5 and the destruction of the elements.

前記ロータリ機構16およびクランプ機構40は全体的
に上下動可能である。この上下動のための昇降部47は
第5図に示すように、昇降用シリンダ48と、昇降ベー
ス49と、該シリンダ48の上端に取付部材50で取り
付けたブラケット51と、このブラケット51に固定さ
れたガイド軸52と、このガイド軸52が挿通された軸
受53とからなる。この昇降部47でロータリ機構7お
よびクランプ機構40を全体的に上下動させることによ
り、該クランプ機構40で保持した電子部品45を各処
理装置まで下降させ、所要の処理を施すことができる。
The rotary mechanism 16 and the clamp mechanism 40 are entirely movable up and down. As shown in FIG. 5, the elevating part 47 for vertical movement includes an elevating cylinder 48, an elevating base 49, a bracket 51 attached to the upper end of the cylinder 48 with a mounting member 50, and fixed to this bracket 51. It consists of a guide shaft 52 and a bearing 53 into which the guide shaft 52 is inserted. By moving the rotary mechanism 7 and the clamp mechanism 40 up and down as a whole using the elevating section 47, the electronic components 45 held by the clamp mechanism 40 can be lowered to each processing device and subjected to required processing.

昇降部47の昇降ストロークは第5図にSで示されてい
る。
The lifting stroke of the lifting section 47 is indicated by S in FIG.

半田ディツプされた電子部品45を洗浄乾燥部2に送る
前に予備洗浄して洗浄効果を高めるため、本実施例では
、第6図に示すように各予備洗浄槽11.12.13は
扇形に円周方向に等間隔で配置されている0本実施例に
おける電子部品45は一度に4個ずつ1つの予備洗浄槽
内で同時に予備洗浄される。
In order to enhance the cleaning effect by pre-cleaning the solder-dipped electronic components 45 before sending them to the cleaning/drying section 2, in this embodiment, each pre-cleaning tank 11, 12, 13 is arranged in a fan shape as shown in FIG. The electronic components 45 in this embodiment, which are arranged at equal intervals in the circumferential direction, are pre-cleaned simultaneously in one pre-cleaning tank, four at a time.

予備洗浄槽11,12.13は第7図に示すように、そ
の下部に振動子54と発振器55とを備えた超音波式の
洗浄槽構造を有しており、その高さは一定であり、電子
部品45は昇降部47によるクランプ部40の上下動で
各予備洗浄槽11゜12.13内の洗浄水中に出し入れ
されて予備洗浄される。なお、符号56は洗浄水のオー
バーフロー用パイプ、57は給水口である。
As shown in FIG. 7, the preliminary cleaning tanks 11, 12, and 13 have an ultrasonic cleaning tank structure with a vibrator 54 and an oscillator 55 at the bottom, and their height is constant. The electronic components 45 are preliminarily washed by being moved in and out of the washing water in each of the pre-washing tanks 11, 12, and 13 by the vertical movement of the clamp part 40 by the elevating part 47. Note that the reference numeral 56 is a wash water overflow pipe, and the reference numeral 57 is a water supply port.

半田ディップ部1から洗浄乾燥部2への電子部品の受け
渡し移載のための移載部1日は第8図〜第10図に示す
ように、受渡し部14から受渡し手段(図示せず)によ
り受け渡された電子部品45を載せるシュート58と、
該シュート58の先端に設けたストッパ59と、該シュ
ート58を支持する支持ブラケット60および支持体6
1と、シュート58上の電子部品45を該シュート58
上で第8図の左方向から右方向に一度に2列、合計8個
ずつ移送する二叉のフォーク状の搬送爪62と、この搬
送爪62でシュート58上の右側位置に移送されて来た
電子部品45を一度に2列ずつ、合計8個真空吸着して
受取り部19のトレー29の保持孔63の中に移載する
真空チャック64とを存している。なお、符号65は水
槽である。
As shown in FIGS. 8 to 10, the transfer section for transferring electronic components from the solder dipping section 1 to the washing and drying section 2 is transferred from the transfer section 14 to the cleaning and drying section 2 by a transfer means (not shown). A chute 58 on which the delivered electronic component 45 is placed;
A stopper 59 provided at the tip of the chute 58, a support bracket 60 and a support body 6 that support the chute 58.
1 and the electronic component 45 on the chute 58.
Above, there is a two-pronged fork-shaped transport claw 62 that transports eight pieces in two rows at a time from the left to the right in FIG. A vacuum chuck 64 vacuum-chucks electronic components 45, two rows at a time, eight in total, and transfers them into the holding holes 63 of the tray 29 of the receiving section 19. In addition, the code|symbol 65 is a water tank.

洗浄乾燥部2のロータリ機構28は、前記した半田ディ
ップ部1のロータリ機構16と同様にインデックス式に
間欠回転できかつ上下動できる構造であるが、洗浄乾燥
用の処理部の個数が8つであるので、2回の間欠回転角
度は45度である点等において異なる。また、洗浄乾燥
部2では、電子部品45は第12図に示すようなトレー
29内の保持孔63内に収容された状態で保持されなが
ら洗浄乾燥等の各処理を順次受ける点も半田ディップ部
1の場合とは異なる。
The rotary mechanism 28 of the cleaning/drying section 2 has a structure in which it can rotate intermittently in an index type and can move up and down like the rotary mechanism 16 of the solder dip section 1 described above, but the number of processing sections for cleaning and drying is 8. Therefore, the two intermittent rotation angles are 45 degrees. Furthermore, in the cleaning and drying section 2, the electronic component 45 is sequentially subjected to various processes such as cleaning and drying while being held in the holding hole 63 in the tray 29 as shown in FIG. This is different from case 1.

すなわち、洗浄乾燥部2のロータリ機構28は第11図
に示すように、後述するモータ87 (第15図)の如
き駆動源によりたとえば時計方向に駆動される回転軸6
6と、中空の支柱67と、ベアリング受け68と、回転
軸66の上部に取り付けられたハウジング69と、回転
軸66の上端に押さえ金具71で取り付けられて該回転
軸66と共に回転可能な円板70と、該円板70に固定
されかつ下部が中空状の回転可能な軸72の上部にベア
リング73およびベアリングケース74を介して装着さ
れた回転不能な円板75と、上部カバー76と、支柱6
7を覆う下部カバー77とを有している。
That is, as shown in FIG. 11, the rotary mechanism 28 of the washing/drying section 2 has a rotating shaft 6 driven, for example, clockwise by a drive source such as a motor 87 (FIG. 15), which will be described later.
6, a hollow support 67, a bearing receiver 68, a housing 69 attached to the upper part of the rotating shaft 66, and a disc attached to the upper end of the rotating shaft 66 with a presser metal fitting 71 and rotatable together with the rotating shaft 66. 70, a non-rotatable disk 75 which is fixed to the disk 70 and is attached to the upper part of a rotatable shaft 72 having a hollow lower part via a bearing 73 and a bearing case 74, an upper cover 76, and a support column. 6
7.

また、前記円板70の下面には、前記トレー29を支持
するための支持アーム78が取り付けられている。なお
、トレー29の上には、電子部品45の飛び出しを防止
するために蓋79が設けられる。
Furthermore, a support arm 78 for supporting the tray 29 is attached to the lower surface of the disc 70. Note that a lid 79 is provided on the tray 29 to prevent the electronic components 45 from flying out.

洗浄乾燥部20ロータリ機構28等を全体的に上下動さ
せる昇降部としては、前記した半田ディップ部lの昇降
用の昇降部47と同様の構造のものを用いることができ
る。このような昇降部により、トレー29内の電子部品
45は第11図に実線で示す如く洗浄槽20〜23の洗
浄水80の中に浸漬されて洗浄されたり、二点鎖線で示
す如く洗浄水80から引き上げたりすることができる。
As the elevating section for vertically moving the cleaning/drying section 20 rotary mechanism 28 and the like as a whole, a structure similar to the elevating section 47 for elevating and lowering the solder dip section 1 described above can be used. With such an elevating section, the electronic components 45 in the tray 29 are immersed and cleaned in the cleaning water 80 of the cleaning tanks 20 to 23 as shown by the solid line in FIG. It can be raised from 80.

洗浄槽20,21,22.23は第13図に示すように
扇形に円周方向に等間隔で離間して配置されている。洗
浄槽20〜23の構造は第14図に示すように、振動子
81と、発振器82とを有する超音波振動型洗浄槽構造
である。なお、第14図の符号83は洗浄水のオーバー
フロー用パイプである。また、第13図の符号84.8
5はそれぞれ洗浄水の供給口と、ドレン口である。
As shown in FIG. 13, the cleaning tanks 20, 21, 22, and 23 are arranged in a fan shape at equal intervals in the circumferential direction. The structure of the cleaning tanks 20 to 23 is an ultrasonic vibration type cleaning tank structure having a vibrator 81 and an oscillator 82, as shown in FIG. Note that the reference numeral 83 in FIG. 14 is a pipe for overflowing the wash water. Also, reference numeral 84.8 in FIG.
5 are a cleaning water supply port and a drain port, respectively.

洗浄乾燥部2のロータリ機構28のインデックス駆動部
86は第15図に示すように、モータ87と、互いに噛
み合う平歯車88.89と、ローラギアインデックス9
0と、フランジ91と、これらを取り付けるベース92
と、35度カムや90度カム等からなるカム部93とを
有している。
As shown in FIG. 15, the index drive section 86 of the rotary mechanism 28 of the washing/drying section 2 includes a motor 87, spur gears 88 and 89 that mesh with each other, and a roller gear index 9.
0, a flange 91, and a base 92 to which these are attached.
and a cam portion 93 consisting of a 35 degree cam, a 90 degree cam, or the like.

なお、このインデックス駆動部86と類似した機構は前
記半田ディップ部1のインデックス駆動部として用いる
ことができる。
Note that a mechanism similar to this index drive section 86 can be used as the index drive section of the solder dip section 1.

洗浄済みの電子部品45から残留水分を除去するための
水切り機構24は、第16図に示されるように、保持ア
ーム78で支持されたトレー29の保持孔63内の電子
部品45に対して圧縮空気を噴射するエアノズル94を
上下に一対として設けた構造よりなる。なお、符号95
は水分除去部、96.97はフレームと、ドレンパイプ
である。
The drain mechanism 24 for removing residual moisture from the cleaned electronic components 45 is compressed against the electronic components 45 in the holding holes 63 of the tray 29 supported by the holding arms 78, as shown in FIG. It has a structure in which a pair of upper and lower air nozzles 94 are provided for injecting air. In addition, the code 95
96.97 is the frame and drain pipe.

水切り機構24を設けることにより、電子部品45の乾
燥を効率的に行うことができる。
By providing the draining mechanism 24, the electronic components 45 can be dried efficiently.

さらに、乾燥部25は第17図にも示されるように、プ
ロワ98と、ヒータ99と、エアパイプ100とを有す
る乾燥炉101よりなる。
Further, as shown in FIG. 17, the drying section 25 includes a drying oven 101 having a blower 98, a heater 99, and an air pipe 100.

なお、第18図(al、 (blに示すように、本実施
例で使用される電子部品の例としては第18図のような
PLCC型半導体装置に対して本発明を適用することが
できる。PLCC型半導体装置はパッケージ45の周囲
四方に延び出したリード45aをパッケージ裏面の方向
に向けて内側に折り曲げてなるものである。この型式の
電子部品は側面をクランプできないので、その取り扱い
が極めて困難であるが、本実施例により、これらの電子
部品も極めて容易に半田処理することが可能である。
As shown in FIGS. 18A and 18B, the present invention can be applied to a PLCC type semiconductor device as shown in FIG. 18 as an example of the electronic component used in this embodiment. The PLCC type semiconductor device is made by bending the leads 45a extending in all directions around the package 45 inward toward the back surface of the package.Since the sides of this type of electronic component cannot be clamped, it is extremely difficult to handle it. However, according to this embodiment, it is possible to solder these electronic components extremely easily.

次に本実施例の作用について説明する。Next, the operation of this embodiment will be explained.

まず、半田処理される電子部品45は供給部3から半田
ディップ部1の受取り部4に供給され、クランプ部5で
ロータリ機構16に設けたクランプ機構40のクランプ
アーム46で上下から挟持される。
First, the electronic component 45 to be soldered is supplied from the supply section 3 to the receiving section 4 of the solder dip section 1, and is clamped from above and below by the clamp arm 46 of the clamp mechanism 40 provided in the rotary mechanism 16 in the clamp section 5.

その後、ロータリ機構16を所定角度、本実施例では3
0度だけ時計回りに回転させることにより、電子部品4
5はフラックス被着部6に移送される。ここで、ロータ
リ機構16およびクランプ機構40を昇降部47の昇降
用シリンダ48により全体的にストロークSだけ下降さ
せると、クランプアーム46で保持された電子部品45
はフラックス槽の中に浸漬され、リード45aにフラッ
クスを被着され、半田の漏れ性を向上させられる。
After that, the rotary mechanism 16 is rotated at a predetermined angle, 3 in this embodiment.
By rotating clockwise by 0 degrees, electronic component 4
5 is transferred to the flux application section 6. Here, when the rotary mechanism 16 and the clamp mechanism 40 are lowered by the stroke S as a whole by the lifting cylinder 48 of the lifting section 47, the electronic component 45 held by the clamp arm 46
is immersed in a flux bath, and flux is applied to the leads 45a to improve solder leakage.

次いで、ロータリ機構16およびクランプ機構40を昇
降用シリンダ48で上昇位置に上昇させた後、所定角度
だけ回転させてフラックス除去部7に移送する。このフ
ラックス除去部7では、前記と同様に昇降用シリンダ4
8でロータリ機構16およびクランプ機構40を下降さ
せて余分なフラックス除去処理を行った後、再度上昇さ
せて、さらに所定角度でけロータリ機構16およびクラ
ンプ機構40を全体的に間欠回転させ、電子部品45を
ブレヒート部8に移送する。
Next, the rotary mechanism 16 and the clamp mechanism 40 are raised to the raised position by the lifting cylinder 48, and then rotated by a predetermined angle and transferred to the flux removing section 7. In this flux removing section 7, the lifting cylinder 4 is
At step 8, the rotary mechanism 16 and the clamp mechanism 40 are lowered to remove excess flux, and then raised again, and the rotary mechanism 16 and the clamp mechanism 40 are entirely rotated intermittently at a predetermined angle. 45 is transferred to the Breheat section 8.

このブレヒート部8でも、昇降用シリンダ48でロータ
リ機構16およびクランプ機構40を下降させて電子部
品45のリード45aを予熱し、フラックスを活性化し
た後、再び上昇させる。
In this breech section 8 as well, the rotary mechanism 16 and the clamp mechanism 40 are lowered by the lifting cylinder 48 to preheat the lead 45a of the electronic component 45 and activate the flux, and then raised again.

その後、電子部品45はロータリ機構16の間欠回転に
より半田槽9の位置に移送され、この位置で昇降用シリ
ンダ48によりロータリ機構16およびクランプ機構4
0を下降させることによってリード45aに半田ディッ
プ処理を施こされる。
Thereafter, the electronic component 45 is transferred to the position of the solder bath 9 by the intermittent rotation of the rotary mechanism 16, and at this position, the rotary mechanism 16 and the clamp mechanism 4 are moved by the lifting cylinder 48.
By lowering the lead 45a, the lead 45a is subjected to solder dipping.

この時、クランプアーム46のクランプ面の全面が電子
部品45の上下面と接触して挟持を行うようにすること
により、半田の熱が電子部品45内の素子に伝導される
ことが制御され、素子の熱破壊が防止される。
At this time, by making the entire clamping surface of the clamp arm 46 contact and clamp the upper and lower surfaces of the electronic component 45, conduction of the heat of the solder to the elements within the electronic component 45 is controlled. Thermal destruction of the element is prevented.

半田ディツプを終了した電子部品45はロータリ機構1
6およびクランプ機構40の上昇により再び上昇させら
れ、さらに所定角度だけ間欠回転され、空ステージ10
に送られる。空ステージIOにおいては、電子部品45
は、他の処理部での各処理を行う必要上、ロータリ機構
16およびクランプ機構40が全体的に下降および上昇
されるのに伴って下降および上昇されるが、半田処理は
受けることなく、次の予備洗浄位置に所定角度だけ間欠
送りされる。
The electronic component 45 that has been soldered is moved to the rotary mechanism 1.
6 and the clamp mechanism 40, the empty stage 10 is raised again, and further rotated intermittently by a predetermined angle.
sent to. In the empty stage IO, the electronic component 45
is lowered and raised as the rotary mechanism 16 and clamp mechanism 40 are lowered and raised as a whole in order to carry out each process in other processing parts, but the next process is performed without undergoing soldering process. is intermittently fed to the pre-cleaning position by a predetermined angle.

予備洗浄位置では、まず最初の予備洗浄槽11で電子部
品45をロータリ機構16およびクランプ機構40の下
降および上昇に伴って下降および上昇させる。電子部品
45は下降位置で洗浄水中に浸漬され、発振器55およ
び振動子54による超音波振動エネルギで予備洗浄され
る。この予備洗浄操作は予備洗浄槽llに続いて、他の
予備洗浄槽12.13においても同様にして順次行われ
る。
At the preliminary cleaning position, the electronic component 45 is first lowered and raised in the first preliminary cleaning tank 11 as the rotary mechanism 16 and the clamp mechanism 40 are lowered and raised. The electronic component 45 is immersed in cleaning water in the lowered position and is preliminarily cleaned with ultrasonic vibration energy from the oscillator 55 and the vibrator 54 . This preliminary cleaning operation is sequentially performed in the other preliminary cleaning tanks 12, 13 in the same manner following the preliminary cleaning tank 11.

最後の予備洗浄槽13での予備洗浄を終了した電子部品
45はロータリ機構16の間欠回転で受渡し部14に送
られる。
The electronic component 45 that has been pre-washed in the last pre-wash tank 13 is sent to the delivery section 14 by the intermittent rotation of the rotary mechanism 16.

受渡し部14における電子部品45は図示しない移載手
段で移載部18のシュート58上に移載され、二叉状の
搬送爪62によって一度に2列ずつ、合計8個ずつ第8
図で見て左から右に順次移送され、ストッパ59で所定
位置に停止させられる。
The electronic components 45 in the delivery section 14 are transferred onto the chute 58 of the transfer section 18 by a transfer means (not shown), and the electronic components 45 are transferred to the eighth column by two rows at a time, eight in total, by a forked conveyance claw 62.
It is sequentially transferred from left to right as seen in the figure, and is stopped at a predetermined position by a stopper 59.

搬送爪62による移送操作を2回行うことによりシュー
ト58の所定位置に移送された合計16個の電子部品4
5は真空チャック64によって上面を真空吸着して、洗
浄乾燥部2の受取り部19に待機しているトレー29の
保持孔63内に移載収納される。
A total of 16 electronic components 4 are transferred to a predetermined position on the chute 58 by performing the transfer operation using the transfer claw 62 twice.
5 is vacuum-adsorbed on its upper surface by a vacuum chuck 64, and transferred and stored in the holding hole 63 of the tray 29 waiting in the receiving section 19 of the washing and drying section 2.

トレー29はロータリ機構28に取り付けられた支持ア
ーム7日で支持されているので、ロータリ機構28をモ
ータ87で時計回りに所定角度、すなわち本実施例の洗
浄乾燥部2の場合には45度だけ間欠回転することによ
り、最初の洗浄槽21の位置に移送される。
Since the tray 29 is supported by a support arm attached to the rotary mechanism 28, the rotary mechanism 28 is rotated clockwise by the motor 87 at a predetermined angle, that is, in the case of the cleaning and drying section 2 of this embodiment, only 45 degrees. By intermittent rotation, it is transferred to the first cleaning tank 21 position.

この洗浄槽21においては、前記昇降用シリンダ4日の
如き昇降手段(図示せず)でロータリ機構28を全体的
に下降させることにより、電子部品45はトレー29ご
と洗浄水80の中に浸漬し、発振器82と振動子81で
超音波振動エネルギを与えることによって洗浄される。
In this cleaning tank 21, the electronic components 45 are immersed together with the tray 29 in the cleaning water 80 by lowering the rotary mechanism 28 as a whole using a lifting means (not shown) such as the lifting cylinder 4. , by applying ultrasonic vibration energy using the oscillator 82 and the vibrator 81.

洗浄後の電子部品45はロータリ機構28の上昇に伴っ
て所定位置まで上昇された後、該ロータリ機構28の間
欠回転で次の洗浄槽21に移送される。
The electronic components 45 after cleaning are raised to a predetermined position as the rotary mechanism 28 is raised, and then transferred to the next cleaning tank 21 by the intermittent rotation of the rotary mechanism 28.

洗浄槽21における電子部品45は洗浄槽20の場合と
同様に、下降、洗浄、上昇の順に操作および処理された
後、第3の洗浄槽22、さらには第4の洗浄槽23に送
られ、同様にして洗浄処理される。
The electronic components 45 in the cleaning tank 21 are operated and processed in the order of lowering, cleaning, and raising, as in the case of the cleaning tank 20, and are then sent to the third cleaning tank 22 and then to the fourth cleaning tank 23. Cleaning treatment is carried out in the same manner.

したがって、本実施例における電子部品45は半田ディ
ップ部1の予備洗浄槽11,12.13による予備洗浄
および洗浄乾燥部2の洗浄槽20゜21.22.23に
よる洗浄を共に受けることにより、半田かす等の異物を
確実かつ十分に洗浄除去される。
Therefore, the electronic component 45 in this embodiment is subjected to preliminary cleaning by the preliminary cleaning tanks 11, 12, 13 of the solder dip section 1 and cleaning by the cleaning tanks 20, 21, 22, 23 of the cleaning/drying section 2, thereby making it possible to solder Foreign matter such as dregs is reliably and thoroughly washed away.

洗浄処理を終了した電子部品45は水切り機構24に間
欠送りされ、下降位置でその上下のエアノズル94から
圧縮空気を噴射することにより、洗浄によって付着した
まま残留している水分等を飛散除去される。
After the cleaning process, the electronic components 45 are intermittently fed to the draining mechanism 24, and in the lowered position, compressed air is sprayed from the upper and lower air nozzles 94, thereby scattering and removing residual moisture etc. .

その後、電子部品45は乾燥部25に間欠送りされて下
降され、ブロワ98からヒータ99を経て吹き込まれる
熱風により、乾燥炉101内で完全に乾燥される。
Thereafter, the electronic component 45 is intermittently sent to the drying section 25 and lowered, and is completely dried in the drying oven 101 by hot air blown from the blower 98 through the heater 99.

乾燥を完了した電子部品45は放出部26に間欠送りさ
れた後、図示しない放出手段により収納部27に放出し
て収納される。それによって、電子部品45に対する1
サイクルの半田ディツプおよび洗浄乾燥処理が完了する
The electronic component 45 that has completed drying is intermittently fed to the discharge section 26, and then discharged and stored in the storage section 27 by a discharge means (not shown). Thereby, 1 for the electronic component 45
The solder dip and wash dry process of the cycle is completed.

以上説明した半田ディップ部1および洗浄乾燥部2にお
ける各種の処理は電子部品45を順次次工程に送ること
により、それぞれの処理部で所要の処理を同時に行うも
のである。すなわち、たとえば半田ディップ部1におけ
るロータリ機構16が下降された時には、各クランプ機
構40でクランプされている各電子部品45は全部同時
に下降されるが、その時の回転位置に応じて、それぞれ
異なる処理を受け、さらにロータリ機構16の間欠回転
と共にそれぞれが次の処理位置で次工程の異なる各処理
を同時に受けることになる。このことは、洗浄乾燥部2
においても同様であり、ロータリ機構28の回転位置に
応じて各処理部の電子部品45はそれぞれに異なる各処
理を同時に受け、その繰り返しにより順次洗浄乾燥を自
動的に完了することになる。
The various processes in the solder dipping section 1 and the cleaning/drying section 2 described above are performed simultaneously in each processing section by sending the electronic components 45 to the processes in sequence. That is, for example, when the rotary mechanism 16 in the solder dip section 1 is lowered, all the electronic components 45 clamped by the respective clamp mechanisms 40 are lowered at the same time, but each undergoes different processing depending on the rotational position at that time. In addition, with the intermittent rotation of the rotary mechanism 16, each of them simultaneously undergoes different processes in the next process at the next processing position. This means that the cleaning and drying section 2
The same applies to the electronic components 45 of each processing section depending on the rotational position of the rotary mechanism 28, and the electronic components 45 of each processing section are simultaneously subjected to different processing, and by repeating the processing, the cleaning and drying is automatically completed in sequence.

なお、本発明は前記実施例に限定されるものではなく、
他の様々な変形が可能である。
Note that the present invention is not limited to the above embodiments,
Various other variations are possible.

たとえば、各処理部の個数や配置、さらにはその駆動機
構の構造等は前記以外のものとすることができる。
For example, the number and arrangement of each processing section, the structure of the drive mechanism, etc. may be other than those described above.

〔効果〕〔effect〕

(1)、供給部から送られた電子部品に半田ディップ処
理を施すロータリ型の半田ディップ部と、この半田ディ
ップ部から受け渡された半田ディップ済みの電子部品を
洗浄する洗浄機構および洗浄された電子部品を乾燥する
乾燥機構を有するロータリ型の洗浄乾燥部とからなるこ
とにより、電子部品のリードへの半田ディツプおよび洗
浄乾燥を一貫自動処理により効率良く確実に行うことが
できる。
(1) A rotary type solder dip unit that performs solder dipping on electronic components sent from the supply unit, a cleaning mechanism that cleans solder-dipped electronic components delivered from this solder dip unit, and By comprising a rotary type cleaning and drying section having a drying mechanism for drying electronic components, solder dipping to leads of electronic components and cleaning and drying can be performed efficiently and reliably through integrated automatic processing.

(2)、前記il+により、半田ディップ部と洗浄乾燥
部とが共にロータリ型の構造であり、しかも画処理部が
1台の装置として一体的に組み込まれた装置構造である
ので、コンパクトで多機能を有する半田処理装置を得る
ことができる。
(2) With the above-mentioned il+, both the solder dip part and the cleaning/drying part have a rotary structure, and the image processing part is integrated into one device, so it is compact and versatile. It is possible to obtain a solder processing device having functions.

(3)、電子部品が面装着型の半導体装置であっても半
田処理を確実に施すことができる。
(3) Even if the electronic component is a surface-mounted semiconductor device, soldering can be performed reliably.

(4)、少なくとも半田ディップ部における電子部品の
上下方向からの挟持を、挟持部材の挟持面が面装着型電
子部品の上下面のほぼ全面と接触する状態で行うことに
より、半田からの熱が上下面から電子部品内の素子に伝
導されて素子の破壊を防止することができる。
(4) By holding the electronic component from above and below at least at the solder dip part with the holding surface of the holding member in contact with almost the entire top and bottom surfaces of the surface-mounted electronic component, heat from the solder can be removed. It can be conducted from the upper and lower surfaces to the elements in the electronic component, thereby preventing the elements from being destroyed.

(5)、供給部から送られた電子部品に半田ディップ処
理を施すロータリ型の半田ディップ部と、この半田ディ
ップ部から受け渡された半田ディンプ済みの電子部品を
洗浄する洗浄機構および洗浄された電子部品を乾燥する
乾燥機構を有するロータリ型の洗浄乾燥部とからなり、
前記半田ディップ部は、回転軸の回りで所定角度ごとに
間欠回転しかつ昇降可能なロータリ機構、およびこのロ
ータリ機構の外側部分に各半田処理位置に対応して設け
られかつ電子部品を上下から挟持するクランプ機構を備
え、前記洗浄乾燥部は、回転軸の回りで所定角度ごとに
間欠回転しかつ昇降可能なロータリ機構、およびこのロ
ータリ機構の外側部分に各洗浄乾燥処理位置に対応して
設けられかつ電子部品を収容したトレーを保持する支持
機構を備えてなることにより、ロータリ機構の下降によ
って各処連部で電子部品に対して同時に異なる処理を施
すことができ、半田ディツプや洗浄乾燥の各処理が容易
でかつ効率が良くなる上に、コンパクトな構造とするこ
とができる。
(5) A rotary type solder dipping section that performs solder dipping on electronic components sent from the supply section, a cleaning mechanism that cleans solder-dipped electronic components delivered from this solder dipping section, and It consists of a rotary type washing and drying section that has a drying mechanism for drying electronic components.
The solder dip section is provided with a rotary mechanism that rotates intermittently around a rotation axis at predetermined angles and that can be raised and lowered, and is provided on the outside of this rotary mechanism in correspondence with each soldering position and that holds electronic components from above and below. The cleaning/drying section includes a rotary mechanism that rotates intermittently around a rotation axis at predetermined angles and can be raised and lowered, and a rotary mechanism provided outside the rotary mechanism corresponding to each cleaning/drying processing position. In addition, by being equipped with a support mechanism that holds the tray containing electronic components, it is possible to perform different processing on electronic components at the same time in each processing section by lowering the rotary mechanism. Processing is easy and efficient, and the structure can be compact.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の半田処理装置の一実施例を示す概略的
全体平面図、第2図はその概略的断面図、第3図は半田
ディップ部のロータリ機構の断面図、第4図はクランプ
部の側面図、第5図は昇降部の駆動部の部分断面図、第
6図は予備洗浄部の平面図、第7図はその断面図、第8
図は移載部の平面図、第9図(al、 (bl、 Tc
)はそれぞれ第8図のA−A。 B−B、C−C断面図、第1O図は同じく移載部の部分
断面図、第1I図は洗浄乾燥部のロータリ機構の断面図
、第12図はトレーの平面図、第13図は洗浄部の平面
図、第14図はその断面図、第15図はインデックス駆
動部の断面図、第16図は水切り機構の断面図、第17
図は乾燥炉の概略断面図、第18図(al、 (blは
それぞれ本発明を適用できるプラスチックリーデツドチ
ップキャリア型の半導体装置の斜視図と断面図である。 ■・・・半田ディップ部、2・・・洗浄乾燥部、3・・
・供給部、    4・・・受取り部、5・・・クラン
プ部、 6・・・フラックス被着部、 7・・・フラックス除去部、 8・・・プレヒート部、  9・・・半田槽、10・・
・空ステージ、 11.12.13・・・予備洗浄槽、 14・・・受渡し部、  15・・・空ステージ、16
・・・ロータリ機構、17・・・ベース、18・・・移
載部、   19・・・受取り部、20.21.22.
23・・・洗浄槽、24・・・水切り機構、 25・・
・乾燥部、26・・・放出部、   27・・・収納部
、28・・・ロータリ機構、29・・・トレー、30・
・・回転軸、    31・・・中空の支柱、32・・
・ベアリング受け、 33・・・ハウジング、 34・・・円板、35・・・
押さえ金具、 36・・・マニホールド、 37・・・上部カバー、 38・・・スペーサ、39・
・・下部カバー、 40・・・クランプ機構、41・・・給気パイプ、42
・・・フランジ、   43・・・バルブ、44・・・
ロータリアクチュエータ、 45・・・電子部品、 46・・・クランプアーム、 47・・・昇降部、 48・・・昇降用シリンダ、 49・・・昇降ベース、  5o・・・取付部材、51
・・・プラケット、  52・・・ガイド軸、53・・
・軸受、    54・・・振動子、55・・・発振器
、 56・・・洗浄水のオーバーフロー用パイプ、57・・
・給水口、    5日・・・シュート、59・・・ス
トッパ、 60・・・支持ブラケット、 61・・・支持体、    62・・・搬送爪、63・
・・保持孔、 64・・・真空チャック、65・・・水槽、66・・・
回転軸、   67・・・中空の支柱、68・・・ベア
リング受け、 69・・・ハウジング、 70・・・円板、71・・・
金具、    72・・・軸、73・・・ベアリング、 74・・・ベアリングケース、 75・・・円板、     76・・・上部カバー、7
7・・・下部カバー、 78・・・支持アーム、79・
・・蓋、      80・・・洗浄水、81・・・振
動子、   82・・・発振器、83・・・洗浄水のオ
ーバーフロー用パイプ、84・・・供給口、    8
5・・・ドレン口、86・・・インデックス駆動部、 87・・・モータ、 88.89・・・平歯車、 90・・・ローラギアインデックス、 91・・・フランジ、   92・・・ベース、93・
・・カム部、   94・・・エアノズル、95・・・
水分除去部、 96・・・フレーム、97・  ・ドレ
ンバイブ、98・・・プロワ、99・・・ヒータ、 100・・・エアパイプ、101・・・乾燥炉。
FIG. 1 is a schematic overall plan view showing an embodiment of the solder processing apparatus of the present invention, FIG. 2 is a schematic cross-sectional view thereof, FIG. 3 is a cross-sectional view of the rotary mechanism of the solder dip part, and FIG. A side view of the clamp section, FIG. 5 is a partial sectional view of the drive section of the lifting section, FIG. 6 is a plan view of the pre-cleaning section, FIG. 7 is a sectional view thereof, and FIG.
The figure is a plan view of the transfer section, Figure 9 (al, (bl, Tc
) are A-A in Fig. 8, respectively. BB and CC sectional views, FIG. 1O is a partial sectional view of the transfer section, FIG. 1I is a sectional view of the rotary mechanism of the washing and drying section, FIG. 12 is a plan view of the tray, and FIG. 13 is a partial sectional view of the transfer section. A plan view of the cleaning section, FIG. 14 is a sectional view thereof, FIG. 15 is a sectional view of the index drive section, FIG. 16 is a sectional view of the draining mechanism, and FIG. 17 is a sectional view of the cleaning section.
The figure is a schematic sectional view of a drying oven, and FIGS. 18 (al and bl) are a perspective view and a sectional view, respectively, of a plastic leaded chip carrier type semiconductor device to which the present invention can be applied. 2... Washing and drying section, 3...
- Supply section, 4... Receiving section, 5... Clamping section, 6... Flux application section, 7... Flux removal section, 8... Preheating section, 9... Solder tank, 10・・・
・Empty stage, 11.12.13...Preliminary cleaning tank, 14...Delivery section, 15...Empty stage, 16
... Rotary mechanism, 17... Base, 18... Transfer section, 19... Receiving section, 20.21.22.
23...Cleaning tank, 24...Draining mechanism, 25...
・Drying section, 26... Discharging section, 27... Storage section, 28... Rotary mechanism, 29... Tray, 30.
...Rotating shaft, 31...Hollow support, 32...
・Bearing receiver, 33... Housing, 34... Disc, 35...
Holding metal fitting, 36... Manifold, 37... Upper cover, 38... Spacer, 39...
...Lower cover, 40...Clamp mechanism, 41...Air supply pipe, 42
...Flange, 43...Valve, 44...
Rotary actuator, 45... Electronic component, 46... Clamp arm, 47... Lifting section, 48... Lifting cylinder, 49... Lifting base, 5o... Mounting member, 51
... Placket, 52... Guide shaft, 53...
・Bearing, 54... Vibrator, 55... Oscillator, 56... Washing water overflow pipe, 57...
・Water supply port, 5th...Chute, 59...Stopper, 60...Support bracket, 61...Support body, 62...Transportation claw, 63.
...Holding hole, 64...Vacuum chuck, 65...Water tank, 66...
Rotating shaft, 67...Hollow support column, 68...Bearing receiver, 69...Housing, 70...Disc, 71...
Metal fittings, 72...Shaft, 73...Bearing, 74...Bearing case, 75...Disc, 76...Top cover, 7
7... Lower cover, 78... Support arm, 79...
... Lid, 80 ... Washing water, 81 ... Vibrator, 82 ... Oscillator, 83 ... Washing water overflow pipe, 84 ... Supply port, 8
5... Drain port, 86... Index drive unit, 87... Motor, 88.89... Spur gear, 90... Roller gear index, 91... Flange, 92... Base, 93・
...Cam part, 94...Air nozzle, 95...
Moisture removal section, 96... Frame, 97... Drain vibe, 98... Prower, 99... Heater, 100... Air pipe, 101... Drying oven.

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)、供給部から送られた電子部品に半田ディップ処
理を施すロータリ型の半田ディップ部と、この半田ディ
ップ部から受け渡された半田ディップ済みの電子部品を
洗浄する洗浄機構および洗浄された電子部品を乾燥する
乾燥機構を有するロータリ型の洗浄乾燥部とからなる半
田処理装置。
(1) A rotary type solder dip unit that performs solder dipping on electronic components sent from the supply unit, a cleaning mechanism that cleans solder-dipped electronic components delivered from this solder dip unit, and A solder processing device consisting of a rotary type cleaning and drying section that has a drying mechanism for drying electronic components.
(2)、半田ディップ部が、フラックス処理部と、半田
槽とを円周方向に配置してなり、各処理部における電子
部品は回転軸の回りで所定の間隔で間欠送りされながら
処理されることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の半田処理装置。
(2) The solder dip section consists of a flux processing section and a solder tank arranged in the circumferential direction, and the electronic components in each processing section are processed while being intermittently fed around the rotation axis at predetermined intervals. A solder processing apparatus according to claim 1, characterized in that:
(3)、半田ディップ部が半田槽の後段に、予備洗浄部
と、洗浄機構への電子部品の受渡し部とを備えてなるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の半田処理装
置。
(3) The solder processing apparatus according to claim 2, wherein the solder dip section is provided with a pre-cleaning section and a delivery section for electronic components to the cleaning mechanism downstream of the solder tank. .
(4)、洗浄乾燥部が、半田ディップ部から受け渡され
た電子部品を洗浄する複数の超音波型の洗浄槽と、洗浄
済みの電子部品を熱風により乾燥する乾燥部とを円周方
向に配置してなり、各処理部における電子部品は回転軸
の回りで所、定の間隔で間欠送りされながら処理される
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半田処理
装置。
(4) The cleaning and drying section includes a plurality of ultrasonic cleaning tanks that clean the electronic components delivered from the solder dip section, and a drying section that dries the cleaned electronic components with hot air in the circumferential direction. 2. The solder processing apparatus according to claim 1, wherein the electronic components in each processing section are processed while being intermittently fed at predetermined intervals around a rotating shaft.
(5)、最後段の洗浄槽と乾燥炉との間に、気体の噴射
により電子部品の残留水分を吹き飛ばす水切り機構を備
えてなることを特徴とする特許請求の範囲第4項記載の
半田処理装置。
(5) The soldering process according to claim 4, characterized in that a draining mechanism is provided between the last-stage cleaning tank and the drying oven to blow away residual moisture from the electronic components by jetting gas. Device.
(6)、電子部品が面装着型の半導体装置であることを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半田処理装置。
(6) The solder processing apparatus according to claim 1, wherein the electronic component is a surface-mounted semiconductor device.
(7)、半導体装置がプラスチックリーデッドチップキ
ャリア型の半導体装置であることを特徴とする特許請求
の範囲第6項記載の半田処理装置。
(7) The solder processing apparatus according to claim 6, wherein the semiconductor device is a plastic leaded chip carrier type semiconductor device.
(8)、少なくとも半田ディップ部における電子部品が
上下面を挟持された状態で搬送されることを特徴とする
特許請求の範囲第6項記載の半田処理装置。
(8) The solder processing apparatus according to claim 6, wherein the electronic component at least in the solder dip portion is conveyed with its upper and lower surfaces sandwiched.
(9)、電子部品の挟持部材が電子部品の上下面とほぼ
全面で接触した状態で該電子部品を挟持することを特徴
とする特許請求の範囲第8項記載の半田処理装置。
(9) The solder processing apparatus according to claim 8, wherein the electronic component is held in a state in which the holding member for the electronic component is in contact with the top and bottom surfaces of the electronic component over almost the entire surface thereof.
(10)、洗浄乾燥部における電子部品が複数個の収納
孔を持つトレー内に複数個収納されて搬送されることを
特徴とする特許請求の範囲第6項記載の半田処理装置。
(10) The solder processing apparatus according to claim 6, wherein a plurality of electronic components in the cleaning/drying section are stored and transported in a tray having a plurality of storage holes.
(11)、供給部から送られた電子部品に半田ディップ
処理を施すロータリ型の半田ディップ部と、この半田デ
ィップ部から受け渡された半田ディップ済みの電子部品
を洗浄する洗浄機構および洗浄された電子部品を乾燥す
る乾燥機構を有するロータリ型の洗浄乾燥部とからなり
、前記半田ディップ部は、回転軸の回りで所定角度ごと
に間欠回転しかつ昇降可能なロータリ機構、およびこの
ロータリ機構の外側部分に各半田処理位置に対応して設
けられかつ電子部品を上下から挟持するクランプ機構を
備え、前記洗浄乾燥部は、回転軸の回りで所定角度ごと
に間欠回転しかつ昇降可能なロータリ機構、およびこの
ロータリ機構の外側部分に各洗浄乾燥処理位置に対応し
て設けられかつ電子部品を収容したトレーを保持する支
持機構を備えてなる半田処理装置。
(11) A rotary type solder dipping section that performs solder dipping on electronic components sent from the supply section, a cleaning mechanism that cleans solder-dipped electronic components delivered from this solder dipping section, and The solder dip part consists of a rotary type washing and drying section having a drying mechanism for drying electronic components, and the solder dip section includes a rotary mechanism that rotates intermittently at predetermined angles around a rotation axis and can be raised and lowered, and a rotary mechanism outside the rotary mechanism. a rotary mechanism that is provided with a clamp mechanism that is provided in the part corresponding to each soldering processing position and that clamps the electronic component from above and below; and a solder processing apparatus comprising a support mechanism provided outside the rotary mechanism corresponding to each washing and drying processing position and holding a tray containing electronic components.
(12)、半田ディップ部および洗浄乾燥部の各処理部
の位置が固定されていることを特徴とする特許請求の範
囲第11項記載の半田処理装置。
(12) The solder processing apparatus according to claim 11, characterized in that the positions of each processing section, such as a solder dip section and a cleaning/drying section, are fixed.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51121774A (en) * 1975-04-17 1976-10-25 Tokyo Shibaura Electric Co Device for soldering lead wires of electronic parts
JPS55115394A (en) * 1979-02-28 1980-09-05 Hitachi Ltd Lead soldering unit for flat pack part
JPS57128051A (en) * 1981-02-02 1982-08-09 Hitachi Ltd Soldering method and apparatus for semiconductor product

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