JPS61233815A - 化学反応室内圧力制御装置 - Google Patents
化学反応室内圧力制御装置Info
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- JPS61233815A JPS61233815A JP7377485A JP7377485A JPS61233815A JP S61233815 A JPS61233815 A JP S61233815A JP 7377485 A JP7377485 A JP 7377485A JP 7377485 A JP7377485 A JP 7377485A JP S61233815 A JPS61233815 A JP S61233815A
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- JP
- Japan
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- reaction chamber
- digital
- pressure
- valves
- gas
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D16/00—Control of fluid pressure
- G05D16/20—Control of fluid pressure characterised by the use of electric means
- G05D16/2006—Control of fluid pressure characterised by the use of electric means with direct action of electric energy on controlling means
- G05D16/2013—Control of fluid pressure characterised by the use of electric means with direct action of electric energy on controlling means using throttling means as controlling means
- G05D16/2026—Control of fluid pressure characterised by the use of electric means with direct action of electric energy on controlling means using throttling means as controlling means with a plurality of throttling means
- G05D16/204—Control of fluid pressure characterised by the use of electric means with direct action of electric energy on controlling means using throttling means as controlling means with a plurality of throttling means the plurality of throttling means being arranged in parallel
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、半導体製造におけるＣＶＤ法の気相ガスによ
る化学反応を行なう反応室内の圧力制御を、該室内から
吸い取られるガスの流量調整により行なうことを特徴と
する装置に関するものである。
る化学反応を行なう反応室内の圧力制御を、該室内から
吸い取られるガスの流量調整により行なうことを特徴と
する装置に関するものである。
（従来の技術）
従来流体の流量調整用としては多くバルブ形式が多かっ
た、即ち弁の開度を調節して流量を決定する例えば、ニ
ードルバルブ、メタリングバルブ、サマールバルブ或は
又バタフライバルブ等々のいはゆるアナログバルブが種
々あり、又一定量の流量しか得られない、弁が全開か全
閉かの例えば電磁弁、エアバルブ等瞬間的に開閉作動が
行なわれる、いはゆるデジタルバルブに大きく分類でき
る。
た、即ち弁の開度を調節して流量を決定する例えば、ニ
ードルバルブ、メタリングバルブ、サマールバルブ或は
又バタフライバルブ等々のいはゆるアナログバルブが種
々あり、又一定量の流量しか得られない、弁が全開か全
閉かの例えば電磁弁、エアバルブ等瞬間的に開閉作動が
行なわれる、いはゆるデジタルバルブに大きく分類でき
る。
しかして従来流量調整特に前記ガスシステムにおけるガ
スの流量調整には前記アナログバルブが用いられていて
、ねじなどの調節で弁の開閉量を決定していた、しかし
てこの調節された流量で反応室内の圧力制御を行なうも
ので、このガスの流量の調整如何が問題となっていた。
スの流量調整には前記アナログバルブが用いられていて
、ねじなどの調節で弁の開閉量を決定していた、しかし
てこの調節された流量で反応室内の圧力制御を行なうも
ので、このガスの流量の調整如何が問題となっていた。
（発明が解決しようとする問題点）
上記従来のアナログバルブではねじ等による機構的なり
リヤランスで微細調節が不可能なばかりか振動等の外部
からの影響も受けやすいし、弁の中開きのために安定性
に欠けるものであった。
リヤランスで微細調節が不可能なばかりか振動等の外部
からの影響も受けやすいし、弁の中開きのために安定性
に欠けるものであった。
そこで、弁が全開か全開の作動しかしない、流量の安定
したデジタルバルブを使用しようとすると、従来の半導
体製造用のガスラインのキャリヤガスとしてのＨ２が、
１０１ ／ｌｌｌ１ｎで流れていて、これをｌｌ／ｓｉ
ｎのガス流量にして反応室内の圧力を得るためには、ｌ
Ｑ １ ／ｓｉｎめ流量をもつデジタルバルブを６秒
間全開にすれば実質的には１１／ｌｌｌ１ｎの流量にな
ったことになる。しかしこれでは６秒流れた後の５４秒
間は全上流れないことになり反応室内の圧力はＯに近い
ものになってしまう、これではほぼ均一した反応圧力と
もいえずＣＶＤ法には不適当である。しかしてＩＩｌの
ガスを１分間にわたって均一にガスライン内を流すため
には１個のデジタルバルブの使用では１１流量のデジタ
ルバルブを用いる以外手段はなかった。
したデジタルバルブを使用しようとすると、従来の半導
体製造用のガスラインのキャリヤガスとしてのＨ２が、
１０１ ／ｌｌｌ１ｎで流れていて、これをｌｌ／ｓｉ
ｎのガス流量にして反応室内の圧力を得るためには、ｌ
Ｑ １ ／ｓｉｎめ流量をもつデジタルバルブを６秒
間全開にすれば実質的には１１／ｌｌｌ１ｎの流量にな
ったことになる。しかしこれでは６秒流れた後の５４秒
間は全上流れないことになり反応室内の圧力はＯに近い
ものになってしまう、これではほぼ均一した反応圧力と
もいえずＣＶＤ法には不適当である。しかしてＩＩｌの
ガスを１分間にわたって均一にガスライン内を流すため
には１個のデジタルバルブの使用では１１流量のデジタ
ルバルブを用いる以外手段はなかった。
しかし異なった流量による反応室内の一定圧力が必要な
場合は上記デジタルバルブを流量により交換しなければ
ならないので実質上デジタルバルブを使用することは不
可能であったので専らアナログバルブを使用していた。
場合は上記デジタルバルブを流量により交換しなければ
ならないので実質上デジタルバルブを使用することは不
可能であったので専らアナログバルブを使用していた。
しかし流量精度がよく多くの利点を有するデジタルバル
ブを用いることを可能としたものである。
ブを用いることを可能としたものである。
（問題点を解決するための手段）
上記した如き微量調整に好適なデジタルバルブを多数並
列にガスライン中に接続して設け、所望の流量と時間と
にその合計が等しくなるようにこれらを各デジタルバル
ブに細分割し、各バルブを順次操作して開弁することを
特徴とするものである。
列にガスライン中に接続して設け、所望の流量と時間と
にその合計が等しくなるようにこれらを各デジタルバル
ブに細分割し、各バルブを順次操作して開弁することを
特徴とするものである。
（実施例）
図面に示した本発明の１実施例は、４個のデジタルバル
ブＶ、−Ｖ４を使用した、半導体の気相成長装置の反応
室内自動圧力調整装置を示したもので、気相ガスのキャ
リヤガス（一般にはＨ２が１〜２０１ ／ｎ＋ｉｎ程度
で使用されている）が供給管１より可変バルブ２並びに
フローメータ３を介して反応室４内に導かれるように配
管され、この反応室４内は一定の圧力（例えば１００Ｔ
ｏｒ１００Ｔｏｒｒ（１００に保たれて、図示されてい
ないが前記キャリヤガスに導かれて進入する気相ガスと
熱とによって半導体の基板上に反応雷４内でＣＶＤ法に
よる膜を形成するものであり、反応室４内のガスは、４
個のデジタルバルブＶ、 、Ｖ、、ｖ３及びｖ４がガス
ライン５に対して並列に設置されて吸引ポンプＰに接続
されている。
ブＶ、−Ｖ４を使用した、半導体の気相成長装置の反応
室内自動圧力調整装置を示したもので、気相ガスのキャ
リヤガス（一般にはＨ２が１〜２０１ ／ｎ＋ｉｎ程度
で使用されている）が供給管１より可変バルブ２並びに
フローメータ３を介して反応室４内に導かれるように配
管され、この反応室４内は一定の圧力（例えば１００Ｔ
ｏｒ１００Ｔｏｒｒ（１００に保たれて、図示されてい
ないが前記キャリヤガスに導かれて進入する気相ガスと
熱とによって半導体の基板上に反応雷４内でＣＶＤ法に
よる膜を形成するものであり、反応室４内のガスは、４
個のデジタルバルブＶ、 、Ｖ、、ｖ３及びｖ４がガス
ライン５に対して並列に設置されて吸引ポンプＰに接続
されている。
反応室４には圧力計６を有し、この圧力計６と連動して
いるコントローラ７を経て前記デジタルバルブｖＩ乃至
■４と連動している。
いるコントローラ７を経て前記デジタルバルブｖＩ乃至
■４と連動している。
（作用）
吸引ポンプＰを作動して、デジタルバルブｖＩ〜ｖ４を
介して反応室４内のガスを吸引して反応室４内の圧力を
常にニ定に保つ、そのために圧力計６の計測による変化
が常にコントローラに感知されこれがデジタルバルブＶ
、〜Ｖ４を作動する。
介して反応室４内のガスを吸引して反応室４内の圧力を
常にニ定に保つ、そのために圧力計６の計測による変化
が常にコントローラに感知されこれがデジタルバルブＶ
、〜Ｖ４を作動する。
今反応室４内に常に質量流量１ｊ？／ｗｉｎのガスが流
れて均一な圧力、例として、１００Ｔｏｒｒを保持させ
る場合、１個のデジタルバルブを解放して、反応室４内
の圧力１００Ｔｏｒｒが得られるデジタルバルブを４個
■１〜ｖ４を使用する。
れて均一な圧力、例として、１００Ｔｏｒｒを保持させ
る場合、１個のデジタルバルブを解放して、反応室４内
の圧力１００Ｔｏｒｒが得られるデジタルバルブを４個
■１〜ｖ４を使用する。
しかして、１個のデジタルバルブの解放時間を１／４
ａｋｉｎとし、且つ各デジタルバルブｖ１〜Ｖ４が連続
して１ ｓｉｎサイクルで作動するように設定第２図の
全質量流量は１１であり全時間はｌ ｍｉｎである。
ａｋｉｎとし、且つ各デジタルバルブｖ１〜Ｖ４が連続
して１ ｓｉｎサイクルで作動するように設定第２図の
全質量流量は１１であり全時間はｌ ｍｉｎである。
このサイクルで繰返し続けることによりＩ ｌ１ｌｉｎ
当りＩｆの質量流量が正確に得られる訳である。
当りＩｆの質量流量が正確に得られる訳である。
しかしこれを１個のデジタルバルブで行なった場合は、
アナログバルブと異なり中間の弁調整が不可能であるか
ら、必要流量の変化に応じてデジタルバルブを交換する
ことは、容易ではないし、又現実的でもない、従ってア
ナログパルプを使用するより手段はなかった。
アナログバルブと異なり中間の弁調整が不可能であるか
ら、必要流量の変化に応じてデジタルバルブを交換する
ことは、容易ではないし、又現実的でもない、従ってア
ナログパルプを使用するより手段はなかった。
更に、２ｊ！／ｗｉｎの質量流量ガスラインの場合、１
個のデジタルバルブの解放時間を、２／４ ｍｉｎとし
且つ各デジタルバルブＶ１〜■４が、１／４ ｍｉｎお
きに連続してｌ ｌｌ１ｉｎサイクルで作動するように
設定する。即ち第３図において、０〜１／４ ｍｉｎ間
は、■４と■１が１／４〜２／４ ｍｉｎ間は、Ｖ、と
Ｖｚ 、２／４〜３／４ ｍｉｎ間はＶ２とＶ３．３／
４〜ｌｌ１ｉｎ間は、■３とＶ４が稼動する。即ち連続
して１１のデジタルバルブが各２個づつ順次連続して稼
動していることとなり質量流量２１ ／ｗｉｎが得られ
る。また、更に１００ｃｃ／ｍｉｎの質量流量のガスラ
インの場合、１個のデジタルバルブの開放時間を、１／
４０ｍ１ｎとし且つ各デジタルバルブＶ、〜Ｖ４が、１
／４ ｌｌｌ１ｎおきに連続して、１ ｗｉｎサイクル
で作動するように設定する。即ち、第４図において、０
〜１／４０ｍ１ｎは、■、が稼動し１１の１７４０、即
ち２５ｃｃのｔ量流量が得られる。また１／４〜２／４
１ｉＲＤ１／４０ｍ１ｎ １１は ■２により、２７４
〜３７４間のこのように本発明においては、小流量のデ
ジタルバルブを多数個並例に接続することにより広範囲
に流量が選択できて有利である。
個のデジタルバルブの解放時間を、２／４ ｍｉｎとし
且つ各デジタルバルブＶ１〜■４が、１／４ ｍｉｎお
きに連続してｌ ｌｌ１ｉｎサイクルで作動するように
設定する。即ち第３図において、０〜１／４ ｍｉｎ間
は、■４と■１が１／４〜２／４ ｍｉｎ間は、Ｖ、と
Ｖｚ 、２／４〜３／４ ｍｉｎ間はＶ２とＶ３．３／
４〜ｌｌ１ｉｎ間は、■３とＶ４が稼動する。即ち連続
して１１のデジタルバルブが各２個づつ順次連続して稼
動していることとなり質量流量２１ ／ｗｉｎが得られ
る。また、更に１００ｃｃ／ｍｉｎの質量流量のガスラ
インの場合、１個のデジタルバルブの開放時間を、１／
４０ｍ１ｎとし且つ各デジタルバルブＶ、〜Ｖ４が、１
／４ ｌｌｌ１ｎおきに連続して、１ ｗｉｎサイクル
で作動するように設定する。即ち、第４図において、０
〜１／４０ｍ１ｎは、■、が稼動し１１の１７４０、即
ち２５ｃｃのｔ量流量が得られる。また１／４〜２／４
１ｉＲＤ１／４０ｍ１ｎ １１は ■２により、２７４
〜３７４間のこのように本発明においては、小流量のデ
ジタルバルブを多数個並例に接続することにより広範囲
に流量が選択できて有利である。
（発明の効果）
従来利用不可能とされていたデジタルバルブを使用し、
このバルブの精度の高い流量を利用して広範囲にわたる
流量の変化が容易に且つ正確に得られるのでＣＶＤ法に
おける反応室の内圧が良好に得られるものである。
このバルブの精度の高い流量を利用して広範囲にわたる
流量の変化が容易に且つ正確に得られるのでＣＶＤ法に
おける反応室の内圧が良好に得られるものである。
１１図は本発明の実施例として示したＣＶＤ法の装置の
正面図、第２図、第３図及び第４図は作用を示すグラフ
である。 符号、４は反応室、５はガスライン、 ■ｌ〜ｖ４はデジタルバルブ、Ｐは吸引ポンプ。 第１図
正面図、第２図、第３図及び第４図は作用を示すグラフ
である。 符号、４は反応室、５はガスライン、 ■ｌ〜ｖ４はデジタルバルブ、Ｐは吸引ポンプ。 第１図
Claims (1)
- ＣＶＤ法における反応室内の圧力の吸引制御において、
ガスの所定流量を小流量に分割した複数個のデジタルバ
ルブを用い、これを並列に接続し、反応室と吸引ポンプ
との間のガスライン中に設け、それら複数のデジタルバ
ルブを自動的に順次開閉操作することにより反応室内の
ガス吸引流量を変化させ、該室内の圧力を制御すること
を特徴とする化学反応室内圧力制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7377485A JPS61233815A (ja) | 1985-04-08 | 1985-04-08 | 化学反応室内圧力制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7377485A JPS61233815A (ja) | 1985-04-08 | 1985-04-08 | 化学反応室内圧力制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61233815A true JPS61233815A (ja) | 1986-10-18 |
Family
ID=13527889
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7377485A Pending JPS61233815A (ja) | 1985-04-08 | 1985-04-08 | 化学反応室内圧力制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61233815A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2652192A1 (fr) * | 1989-09-18 | 1991-03-22 | Commissariat Energie Atomique | Systeme de regulation de pression dans une enveloppe siege d'une reaction chimique periodique de dissolution. |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5942888A (ja) * | 1982-09-04 | 1984-03-09 | Agency Of Ind Science & Technol | 術生物によるエステル結合加水分解酵素の製造法 |
| JPS6026663A (ja) * | 1983-07-25 | 1985-02-09 | Toshiba Ceramics Co Ltd | Ｃｖｄ炉用水素排ガス回収装置 |
-
1985
- 1985-04-08 JP JP7377485A patent/JPS61233815A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5942888A (ja) * | 1982-09-04 | 1984-03-09 | Agency Of Ind Science & Technol | 術生物によるエステル結合加水分解酵素の製造法 |
| JPS6026663A (ja) * | 1983-07-25 | 1985-02-09 | Toshiba Ceramics Co Ltd | Ｃｖｄ炉用水素排ガス回収装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2652192A1 (fr) * | 1989-09-18 | 1991-03-22 | Commissariat Energie Atomique | Systeme de regulation de pression dans une enveloppe siege d'une reaction chimique periodique de dissolution. |
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