JPS61231155A - 薄板円筒内面への溶射方法 - Google Patents
薄板円筒内面への溶射方法Info
- Publication number
- JPS61231155A JPS61231155A JP60073085A JP7308585A JPS61231155A JP S61231155 A JPS61231155 A JP S61231155A JP 60073085 A JP60073085 A JP 60073085A JP 7308585 A JP7308585 A JP 7308585A JP S61231155 A JPS61231155 A JP S61231155A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cylinder
- spraying
- thermal
- cylindrical body
- thermal spraying
- Prior art date
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- Granted
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は金属薄板円筒の内面に溶射皮膜を形成する方法
に関する。
に関する。
従来から、金属板へ金属やセラミックスを溶射するに際
しては、被溶射体である素地表面を清浄化したのち、グ
リツドによるブラスト処理を行って粗面化し、溶射物と
素地との投錨効果によって溶射皮膜の密着性を高め、さ
らに高い密着性を必要とする場合には素材を予熱して下
地処理を行っている。
しては、被溶射体である素地表面を清浄化したのち、グ
リツドによるブラスト処理を行って粗面化し、溶射物と
素地との投錨効果によって溶射皮膜の密着性を高め、さ
らに高い密着性を必要とする場合には素材を予熱して下
地処理を行っている。
しかしながら、例えば内面ステーター耐摩耗用材のよう
に、被溶射体が厚みが1u以下の薄日筒体の内面に溶射
皮膜を施す場合には、予熱処理や粗面化処理によって溶
射熱による歪の発生が大きく、円筒体自体の反りのみで
はなく、母材の焼損を引き起こし健全な状態の溶射皮膜
を得ることも不可能である。
に、被溶射体が厚みが1u以下の薄日筒体の内面に溶射
皮膜を施す場合には、予熱処理や粗面化処理によって溶
射熱による歪の発生が大きく、円筒体自体の反りのみで
はなく、母材の焼損を引き起こし健全な状態の溶射皮膜
を得ることも不可能である。
本発明の目的は金属薄板円筒への健全な溶射皮膜の形成
を可能にし、金属薄板円筒自体の変形を防止するととも
に、表面状態がよく、また素地との密着性の良い溶射被
覆を得る方法を提供することにある。
を可能にし、金属薄板円筒自体の変形を防止するととも
に、表面状態がよく、また素地との密着性の良い溶射被
覆を得る方法を提供することにある。
前記本発明の目的は、溶射の前処理の粗面化を軽度のブ
ラスト処理によって行ない、溶射に際しては円筒体を円
筒軸を中心に回転しつつ円筒体の外方から冷却流体を当
て、円筒体の軸に沿って円筒内を走行する溶射装置から
冷却位置に溶射材料を当てることによって達成される。
ラスト処理によって行ない、溶射に際しては円筒体を円
筒軸を中心に回転しつつ円筒体の外方から冷却流体を当
て、円筒体の軸に沿って円筒内を走行する溶射装置から
冷却位置に溶射材料を当てることによって達成される。
本発明におけるブラストによる粗面化は、薄板の厚みが
1mm以下の場合、母材の表面粗度はRz20鶴以下が
良いことが実験によりf!認された。
1mm以下の場合、母材の表面粗度はRz20鶴以下が
良いことが実験によりf!認された。
そのためのブラスト条件は、普通鋼板の場合、3 kg
/mm2のブラスト圧のもとで、#60の研掃材を用い
て100〜150mm間隔で処理したときに上記の粗度
が得られる。
/mm2のブラスト圧のもとで、#60の研掃材を用い
て100〜150mm間隔で処理したときに上記の粗度
が得られる。
添付の図は、本発明に基づいて、粗面化した円筒体の内
面に溶射処理を施すに当たって使用する装置の例を示す
。
面に溶射処理を施すに当たって使用する装置の例を示す
。
同図において、粗面化した円筒体1は大型の回転装置の
保護スリーブ2を介してチャック3に固定し、その他端
開口部を冷却水侵入防止用スリーブ4を嵌合する。回転
装置に取付けた円筒体1の上方には、前記円筒体1の全
長に亘って下方に開口する水噴出ノズル6を有する冷却
管5が配置されている。7は図示しない走行アームに支
持され、且つ溶射材料粉末供給管8を有し、上方に指向
した溶射ノズル9から溶射材料を噴出するプラズマ溶射
装置を示す。同溶射装置7は回転する円筒体1の軸aと
平行に移動して、円筒体1内面との溶射距離が常に一定
になるように構成されている。
保護スリーブ2を介してチャック3に固定し、その他端
開口部を冷却水侵入防止用スリーブ4を嵌合する。回転
装置に取付けた円筒体1の上方には、前記円筒体1の全
長に亘って下方に開口する水噴出ノズル6を有する冷却
管5が配置されている。7は図示しない走行アームに支
持され、且つ溶射材料粉末供給管8を有し、上方に指向
した溶射ノズル9から溶射材料を噴出するプラズマ溶射
装置を示す。同溶射装置7は回転する円筒体1の軸aと
平行に移動して、円筒体1内面との溶射距離が常に一定
になるように構成されている。
被溶射体としての円筒体lが回転装置によって回転せし
められ、水噴出ノズル6から冷却水が円筒体1の上面に
噴出した状態で、プラズマ溶射装置7を始動して、円筒
体1の軸に沿って移動させながら、溶射材料を冷却位置
に向かって溶射する。
められ、水噴出ノズル6から冷却水が円筒体1の上面に
噴出した状態で、プラズマ溶射装置7を始動して、円筒
体1の軸に沿って移動させながら、溶射材料を冷却位置
に向かって溶射する。
溶射処理は一回当たりの材料供給量を減少せしめて、プ
ラズマ溶射装置7を往復運動させながら複数回の溶射を
行なって溶射被膜層10を形成する。
ラズマ溶射装置7を往復運動させながら複数回の溶射を
行なって溶射被膜層10を形成する。
本発明の溶射方法を適用するに当たっては、母材と溶射
材は何等制限を受けるものではなく、溶射材としては、
金属アルミニウム、アルミナ、ジルコニア等任意の溶射
材が適用できる。
材は何等制限を受けるものではなく、溶射材としては、
金属アルミニウム、アルミナ、ジルコニア等任意の溶射
材が適用できる。
80m5φ×250−1長xO,4fl厚の’fR鋼板
円筒内面に3kg/−のブラスト圧のもとで#60の研
掃材を用いて、内径専用ノズルによってブラスト処理を
行い、表面粗度15μ麟の粗面化を行った。次いで、図
示するようにこの粗面化した鋼板円筒体lをチャッキン
グ用保護スリーブ2を介して、回転用チャック3に固定
し、他端に冷却水侵入防止用スリーブ4を嵌合し200
rpmの回転数で回転させ、外面より冷却水を当てなが
ら、500As+p、 75vの条件下で粒径15〜4
5μ鋼のCr2O3粉末を15g/分で送給しながら、
プラズマ溶射をエクステンションガンによって行った。
円筒内面に3kg/−のブラスト圧のもとで#60の研
掃材を用いて、内径専用ノズルによってブラスト処理を
行い、表面粗度15μ麟の粗面化を行った。次いで、図
示するようにこの粗面化した鋼板円筒体lをチャッキン
グ用保護スリーブ2を介して、回転用チャック3に固定
し、他端に冷却水侵入防止用スリーブ4を嵌合し200
rpmの回転数で回転させ、外面より冷却水を当てなが
ら、500As+p、 75vの条件下で粒径15〜4
5μ鋼のCr2O3粉末を15g/分で送給しながら、
プラズマ溶射をエクステンションガンによって行った。
プラズマ溶射の送り速度は640m/分で3パス処理を
行い、厚みが45μMで全体に均一なCr2O3被膜を
得た。溶射後の鋼板円筒の反り、変形はなく、Cr2O
3被膜の密着強度も極めて優れたものであった。
行い、厚みが45μMで全体に均一なCr2O3被膜を
得た。溶射後の鋼板円筒の反り、変形はなく、Cr2O
3被膜の密着強度も極めて優れたものであった。
本発明の溶射法によって、極薄の金属円筒においても母
材そのものに曲がり、歪を発生することがなく、密着性
においてもまた、表面状態においても優れた溶射皮膜を
得ることができ、薄板円筒体内面への溶射皮膜の形成を
実現化できた。
材そのものに曲がり、歪を発生することがなく、密着性
においてもまた、表面状態においても優れた溶射皮膜を
得ることができ、薄板円筒体内面への溶射皮膜の形成を
実現化できた。
図面は本発明の溶射法の実施態様を示す図である。
に円筒体 2:保護スリーブ
3:チャック 4:冷却水侵入防止用スリーブ5:冷
却管 6:水噴出ノズル 7:プラズマ溶射装置 8:溶射材料粉末供給管
却管 6:水噴出ノズル 7:プラズマ溶射装置 8:溶射材料粉末供給管
Claims (1)
- 1、被溶射体である金属薄板円筒の内面を表面粗度Rz
20μm以下に粗面化したのち、同粗面化した円筒の全
長さにわたって外方から冷却水を噴射しつつ円筒軸を中
心に回転せしめ、同回転円筒内を円筒軸に沿って走行す
る溶射ガンによって円筒内面の冷却位置に溶射処理を施
すことを特徴とする薄板円筒内面への溶射方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60073085A JPS61231155A (ja) | 1985-04-05 | 1985-04-05 | 薄板円筒内面への溶射方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60073085A JPS61231155A (ja) | 1985-04-05 | 1985-04-05 | 薄板円筒内面への溶射方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61231155A true JPS61231155A (ja) | 1986-10-15 |
JPS64462B2 JPS64462B2 (ja) | 1989-01-06 |
Family
ID=13508140
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60073085A Granted JPS61231155A (ja) | 1985-04-05 | 1985-04-05 | 薄板円筒内面への溶射方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61231155A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0280549A (ja) * | 1988-09-14 | 1990-03-20 | Hitachi Chem Co Ltd | 金属箔へのセラミックの溶射方法 |
JPH0280548A (ja) * | 1988-09-14 | 1990-03-20 | Hitachi Chem Co Ltd | セラミック溶射金属箔の製造方法 |
US5626674A (en) * | 1992-04-28 | 1997-05-06 | Progressive Technologies, Inc. | High pressure water jet apparatus for preparing low density metallic surface for application of a coating material |
US5648123A (en) * | 1992-04-02 | 1997-07-15 | Hoechst Aktiengesellschaft | Process for producing a strong bond between copper layers and ceramic |
US6634179B2 (en) | 1999-02-19 | 2003-10-21 | Volkswagen Ag | Process and configuration for producing wear-resistant surfaces |
-
1985
- 1985-04-05 JP JP60073085A patent/JPS61231155A/ja active Granted
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0280549A (ja) * | 1988-09-14 | 1990-03-20 | Hitachi Chem Co Ltd | 金属箔へのセラミックの溶射方法 |
JPH0280548A (ja) * | 1988-09-14 | 1990-03-20 | Hitachi Chem Co Ltd | セラミック溶射金属箔の製造方法 |
US5648123A (en) * | 1992-04-02 | 1997-07-15 | Hoechst Aktiengesellschaft | Process for producing a strong bond between copper layers and ceramic |
JP2944215B2 (ja) * | 1992-04-02 | 1999-08-30 | ヘキスト・アクチェンゲゼルシャフト | 銅層とセラミックとの間に強力な結合を作り出す方法 |
US5626674A (en) * | 1992-04-28 | 1997-05-06 | Progressive Technologies, Inc. | High pressure water jet apparatus for preparing low density metallic surface for application of a coating material |
US6634179B2 (en) | 1999-02-19 | 2003-10-21 | Volkswagen Ag | Process and configuration for producing wear-resistant surfaces |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS64462B2 (ja) | 1989-01-06 |
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