JPS61229834A - トリフルオロエトキシベンゼン又はトリフルオロエチルチオベンゼンの製造方法 - Google Patents
トリフルオロエトキシベンゼン又はトリフルオロエチルチオベンゼンの製造方法Info
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- JPS61229834A JPS61229834A JP61065021A JP6502186A JPS61229834A JP S61229834 A JPS61229834 A JP S61229834A JP 61065021 A JP61065021 A JP 61065021A JP 6502186 A JP6502186 A JP 6502186A JP S61229834 A JPS61229834 A JP S61229834A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C321/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C319/00—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
- C07C319/14—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of sulfides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C41/00—Preparation of ethers; Preparation of compounds having groups, groups or groups
- C07C41/01—Preparation of ethers
- C07C41/16—Preparation of ethers by reaction of esters of mineral or organic acids with hydroxy or O-metal groups
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はトリフルオロエトキシベンゼン又はトリフルオ
ロエチルチオベンゼンの製造方法に関する。
ロエチルチオベンゼンの製造方法に関する。
（従来の技術）
仏国特許第２．４６８，５７６号公報に記載のように、
フェノールとトリフルオロメタンスルホン酸２．２．２
−）リフルオロエチルとの反応又はジブロモベンゼンと
トリフルオロエタノールとの反応を水素化す）９ウム及
び銅触媒の存在下に行なうことにヨシトリフルオロエト
キシベンゼンを製造することは公知である。
フェノールとトリフルオロメタンスルホン酸２．２．２
−）リフルオロエチルとの反応又はジブロモベンゼンと
トリフルオロエタノールとの反応を水素化す）９ウム及
び銅触媒の存在下に行なうことにヨシトリフルオロエト
キシベンゼンを製造することは公知である。
（解決すべき問題点）
上記の第一の方法は出発材料としてトリフルオロメタン
スルホン酸２，２．２−）リフルオロエチルを使用して
いるが、この物質は商業的には多量に入手できないため
トリフルオロエトキシベンゼンを工業的に製造する際の
製造コストが救いようもなく高いという欠点を有する。
スルホン酸２，２．２−）リフルオロエチルを使用して
いるが、この物質は商業的には多量に入手できないため
トリフルオロエトキシベンゼンを工業的に製造する際の
製造コストが救いようもなく高いという欠点を有する。
上記の第二の方法は、一方では、工業的に実施すると場
合によって再現性に乏しく、他方において、再使用の困
難な高価な非プロトン性溶媒の使用を必要としそのため
に工業的使用が限定されるという欠点を有する。
合によって再現性に乏しく、他方において、再使用の困
難な高価な非プロトン性溶媒の使用を必要としそのため
に工業的使用が限定されるという欠点を有する。
シンセシス（８ｙｎｔｈ＠ａ１ｍ ） １９８０（９）
、７２７−８に記載されているように、ヘキサメチルホ
スホロトリアミド中で強塩基の存在下フェノールとメタ
ンスルホン酸λ２，２−）リフルオロエチルヲ縮合する
ことによ、？２．２．２−）リフルオロアリールエーテ
ル類を製造することは公知である。溶媒のへキサメチル
ホスホロトリアミドは毒性があるため工業的に使用でき
ない。
、７２７−８に記載されているように、ヘキサメチルホ
スホロトリアミド中で強塩基の存在下フェノールとメタ
ンスルホン酸λ２，２−）リフルオロエチルヲ縮合する
ことによ、？２．２．２−）リフルオロアリールエーテ
ル類を製造することは公知である。溶媒のへキサメチル
ホスホロトリアミドは毒性があるため工業的に使用でき
ない。
前記の方法はいずれも工業的利用を思いつくようなコス
トでトリフルオロエトキシベンゼン又はトリフルオロエ
チルチオベンゼンを得ることができない。
トでトリフルオロエトキシベンゼン又はトリフルオロエ
チルチオベンゼンを得ることができない。
（発明の構成）
本発明は上記の問題点を解決するものである。
すなわち、本発明はフェノール又はチオフェノールと次
式（１） ％式％（） （式中、Ｒ′トリフルオロアセチル基、メタンスルホニ
／１４、パ？）ルエンスルホニル基、トリクロロメタン
スルホニル基及ヒクロロスルホニル基よ構成る群から選
ばれた置換基を表わす。）の誘導体を固体の強アルカリ
性塩基及び次式（ＩＩ）ＮモＣＨＲｔ −ＣＨＲｚ −
０＋ＣＨＲｓ −ＣＨＲ４−ｏ←−１〕ｘ （１）（式
中、ｎは０≦ｎ≦１０の整数を表わす。Ｒ１、Ｒ１、Ｒ
３及びＲ４は互いに同一又は相異なってそれぞれ水素原
子又は炭素数１〜４個のアルキル基を表わす。Ｒ，は炭
素数１〜１２個のアルキル基モジくはシクロアルキル基
、フェニル基又は−ＣｍＨ２ｍ−Ｃ＠Ｈｉ 基もしくは
ＣｍＨ２ｍ＋１−Ｃ＠Ｌ−基（ただし、ｍは１〜１２で
ある。）を表わす。）の金属イオン封鎖剤の一種以上の
存在下で反応させることを特徴とするトリフルオロエト
キシベンゼン又はトリフルオロエチルチオベンゼンの製
造方法を提供する。
式（１） ％式％（） （式中、Ｒ′トリフルオロアセチル基、メタンスルホニ
／１４、パ？）ルエンスルホニル基、トリクロロメタン
スルホニル基及ヒクロロスルホニル基よ構成る群から選
ばれた置換基を表わす。）の誘導体を固体の強アルカリ
性塩基及び次式（ＩＩ）ＮモＣＨＲｔ −ＣＨＲｚ −
０＋ＣＨＲｓ −ＣＨＲ４−ｏ←−１〕ｘ （１）（式
中、ｎは０≦ｎ≦１０の整数を表わす。Ｒ１、Ｒ１、Ｒ
３及びＲ４は互いに同一又は相異なってそれぞれ水素原
子又は炭素数１〜４個のアルキル基を表わす。Ｒ，は炭
素数１〜１２個のアルキル基モジくはシクロアルキル基
、フェニル基又は−ＣｍＨ２ｍ−Ｃ＠Ｈｉ 基もしくは
ＣｍＨ２ｍ＋１−Ｃ＠Ｌ−基（ただし、ｍは１〜１２で
ある。）を表わす。）の金属イオン封鎖剤の一種以上の
存在下で反応させることを特徴とするトリフルオロエト
キシベンゼン又はトリフルオロエチルチオベンゼンの製
造方法を提供する。
本発明において使用するフェノール又はチオフェノール
は次式（１）で表わされる。
は次式（１）で表わされる。
Ｒｎ−Ａｒ−λＨ
（式中、Ａｒ は単環式、多環式又はヘテロ環式芳香族
基を表わす。人は硫黄原子又は酸素原子を表わす。Ｒは
水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、
アルキルチオ基、フェノキシ基、ニトロ基、アルコキシ
カルボニル基、ハロアルキル基、へロアルコキシ基、へ
ロアルキルチオ基、フェニル基、ベンゾイル基及びシア
ノ基よ構成る群から選ばれた一種以上の置換基を表わす
。ｎは１≦ｎ≦５の整数を表わす。） 式（１）においてｎ＝１又は２であるフェノール又はチ
オフェノールを使用するのが好ましい。
基を表わす。人は硫黄原子又は酸素原子を表わす。Ｒは
水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、
アルキルチオ基、フェノキシ基、ニトロ基、アルコキシ
カルボニル基、ハロアルキル基、へロアルコキシ基、へ
ロアルキルチオ基、フェニル基、ベンゾイル基及びシア
ノ基よ構成る群から選ばれた一種以上の置換基を表わす
。ｎは１≦ｎ≦５の整数を表わす。） 式（１）においてｎ＝１又は２であるフェノール又はチ
オフェノールを使用するのが好ましい。
パラトルエンスルホン！２．２．２− ）リスルオロエ
チルトトリクロロメタンスルホン９２，２．２−）リフ
ルオロエチルを一般式（１）の誘導体として使用するの
が好ましい。
チルトトリクロロメタンスルホン９２，２．２−）リフ
ルオロエチルを一般式（１）の誘導体として使用するの
が好ましい。
パラトルエンスルホン酸λλ２−トリフルオロエチルを
使用するとさらに有利である。
使用するとさらに有利である。
本発明方法において使用する塩基はアルカリ金属及びア
ルカリ土類金属の水酸化物と炭酸塩°よ構成る群から選
ぶのが好ましい。そのような化合物の例としては特に水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム及び石灰が挙げられる。
ルカリ土類金属の水酸化物と炭酸塩°よ構成る群から選
ぶのが好ましい。そのような化合物の例としては特に水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム及び石灰が挙げられる。
本発明の好適な実施態様に従えば、式（ＩＩ）において
Ｒ４、Ｒ雪、Ｒｓ及びＲ４が水素原子又はメチル基を表
わし、Ｒｓ及びｎが上記と同じ意味を有する金属イオン
封鎖剤が使用される。
Ｒ４、Ｒ雪、Ｒｓ及びＲ４が水素原子又はメチル基を表
わし、Ｒｓ及びｎが上記と同じ意味を有する金属イオン
封鎖剤が使用される。
これらのうち、ｎが０≦ｎ≦６であシ、Ｒ１１が炭素′
Ｉｋ１〜４個のアルキル基を表わす金属イオン封鎖剤を
使用するのがさらに好ましい。
Ｉｋ１〜４個のアルキル基を表わす金属イオン封鎖剤を
使用するのがさらに好ましい。
金属イオン封鎖剤の具体例としては次のものを挙げるこ
とができる。
とができる。
トリス（３−オキサブチル）アミン：
Ｎ（ＣＨＩ −ＣＨｊ−０−ＣＨｓ）ｓトリス（へ６−
ジオキサヘブチル）アミン：Ｎ（ＣＨｚ −ＣＨｔ −
０−ＣＨ２−ＣＨ２−０−ＣＨｄａトリス（！、、４９
−）リオキサデシル）アミン：Ｎ（ＣＨ冨−ＣＨＩ−０
−ＣＨｚ−ＣＨｔ−０−ＣＨｚ−ＣＨ２−０−ＣＨｓ）
ｓトリス（３，６−シオキサオクチル）アミン：Ｎ （
ＣＨＩ−ＣＨｚ −０−ＣＨｚ−ＣＨ２−０−ＣｇＨｓ
）ｘトリス（４４９−）リオキサウンデシル）アミン：
Ｎ（ＣＨｒＣＨ＊−０−ＣＨＩ−ＣＨｔ −０−ＣＨ
ｘ −ＣＨｔ −０−Ｃｍ Ｈｓ）ｓトリス（４６−シ
オキサノニル）アミン：Ｎ（ＣＨｘ−ＣＨｚ−０−ＣＨ
ｚ−ＣＨｚ−０−ＣｓＨｙ）ｓトリス（４４９−）リオ
キサドデシル）アミン：Ｎ（ＣＨｓ−ＣＨＩ −０−Ｃ
Ｈｔ−ＣＨ２−０−ＣＨ２−ＣＨ＊−０−Ｃａ Ｈｔ）
ｓトリス（３，６−シオキサデシル）アミン：Ｎ（ＣＨ
２−ＣＩ（２−０−ＣＨ２−ＣＨ２−０−Ｃ４Ｈ＠）Ｂ
トリス（４４９−）リオキサトリデシル）アミン： Ｎ
（ＣＨ２−ＣＨｚ−０−ＣＨｚ−ＣＨｔ−０−ＣＨｓ
−ＣＨ２−０−Ｃａ Ｈｅ ）ｓトリス（５，４９，１
２−テトラオキサトリデシル）アミン＝ Ｎ（−ＣＨ２−ＣＨ２−０（−ＣＨ２−Ｃ市−〇÷３Ｃ
山〕３トリス（４４ｐ、１２，１５．１８−ヘキサオキ
サノナデシル）アミン： Ｎ＋ＣＨ＊−ＣＨ２−０＋ＣＨｚ −ＣＨｘ −０−）
ｙ ＣＨｓ ）ｓトリス（へ６−シオキサー４−メチル
へブチル）アミン： Ｎ＋ＣＨ＊−ＣＨｚ−０−ＣＨ（ＣＨｓ）−ＣＨｚ−〇
−ＣＨ，）。
ジオキサヘブチル）アミン：Ｎ（ＣＨｚ −ＣＨｔ −
０−ＣＨ２−ＣＨ２−０−ＣＨｄａトリス（！、、４９
−）リオキサデシル）アミン：Ｎ（ＣＨ冨−ＣＨＩ−０
−ＣＨｚ−ＣＨｔ−０−ＣＨｚ−ＣＨ２−０−ＣＨｓ）
ｓトリス（３，６−シオキサオクチル）アミン：Ｎ （
ＣＨＩ−ＣＨｚ −０−ＣＨｚ−ＣＨ２−０−ＣｇＨｓ
）ｘトリス（４４９−）リオキサウンデシル）アミン：
Ｎ（ＣＨｒＣＨ＊−０−ＣＨＩ−ＣＨｔ −０−ＣＨ
ｘ −ＣＨｔ −０−Ｃｍ Ｈｓ）ｓトリス（４６−シ
オキサノニル）アミン：Ｎ（ＣＨｘ−ＣＨｚ−０−ＣＨ
ｚ−ＣＨｚ−０−ＣｓＨｙ）ｓトリス（４４９−）リオ
キサドデシル）アミン：Ｎ（ＣＨｓ−ＣＨＩ −０−Ｃ
Ｈｔ−ＣＨ２−０−ＣＨ２−ＣＨ＊−０−Ｃａ Ｈｔ）
ｓトリス（３，６−シオキサデシル）アミン：Ｎ（ＣＨ
２−ＣＩ（２−０−ＣＨ２−ＣＨ２−０−Ｃ４Ｈ＠）Ｂ
トリス（４４９−）リオキサトリデシル）アミン： Ｎ
（ＣＨ２−ＣＨｚ−０−ＣＨｚ−ＣＨｔ−０−ＣＨｓ
−ＣＨ２−０−Ｃａ Ｈｅ ）ｓトリス（５，４９，１
２−テトラオキサトリデシル）アミン＝ Ｎ（−ＣＨ２−ＣＨ２−０（−ＣＨ２−Ｃ市−〇÷３Ｃ
山〕３トリス（４４ｐ、１２，１５．１８−ヘキサオキ
サノナデシル）アミン： Ｎ＋ＣＨ＊−ＣＨ２−０＋ＣＨｚ −ＣＨｘ −０−）
ｙ ＣＨｓ ）ｓトリス（へ６−シオキサー４−メチル
へブチル）アミン： Ｎ＋ＣＨ＊−ＣＨｚ−０−ＣＨ（ＣＨｓ）−ＣＨｚ−〇
−ＣＨ，）。
トリス（４６−シオキサー２．４−ジメチルヘプチル）
アミン： Ｎ（−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨＤ−〇−ＣＨ（Ｃ）ｌＪｃＨ
，−０−Ｃ山〕３本発明方法で使用するアミン類はそれ
自体従来公知である。因みに仏国特許第’１，５０２，
５６５号公報には第三アミン０Ｎ（ＣＨ２−ＣＨ２−０
−ＣＨ３）ｓ 及びＮ（ＣＨｇ−ＣＨｚ−０−ＣＨｚ−
ＣＨｚ−０−ＣＨｓ）ａ が相当する第一アミン及び第
二アミンの合成の副生物として得られることが記載され
ている。
アミン： Ｎ（−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨＤ−〇−ＣＨ（Ｃ）ｌＪｃＨ
，−０−Ｃ山〕３本発明方法で使用するアミン類はそれ
自体従来公知である。因みに仏国特許第’１，５０２，
５６５号公報には第三アミン０Ｎ（ＣＨ２−ＣＨ２−０
−ＣＨ３）ｓ 及びＮ（ＣＨｇ−ＣＨｚ−０−ＣＨｚ−
ＣＨｚ−０−ＣＨｓ）ａ が相当する第一アミン及び第
二アミンの合成の副生物として得られることが記載され
ている。
本発明の特別の使用法に従えば、第三の溶媒が使用され
る。この溶媒は一定の条件を満たしていなければならな
い。すなわち、金属イオン封鎖剤を溶解するが溶解すべ
き化合物に対しては化学的に不活性でなければならない
。この溶媒は例えばクロロベンゼン、オルトジクロロベ
ンゼン、１２゜４−トリクロロベンゼン又は四塩化炭素
のような非極性又は弱極性の非プロトン性溶媒から選ぶ
のが好ましい。これらの溶媒はすべて比較的に安価であ
る。トリクロロベンゼンを使用するのが好ましい。
る。この溶媒は一定の条件を満たしていなければならな
い。すなわち、金属イオン封鎖剤を溶解するが溶解すべ
き化合物に対しては化学的に不活性でなければならない
。この溶媒は例えばクロロベンゼン、オルトジクロロベ
ンゼン、１２゜４−トリクロロベンゼン又は四塩化炭素
のような非極性又は弱極性の非プロトン性溶媒から選ぶ
のが好ましい。これらの溶媒はすべて比較的に安価であ
る。トリクロロベンゼンを使用するのが好ましい。
第三溶媒を使用しないこともできる。この場合はフェノ
ールやチオフェノールが溶媒として働く。
ールやチオフェノールが溶媒として働く。
フェノールやチオフェノールの融点が高過ぎたり、それ
らの反応性が高過ぎたルする場合には溶媒を使用するの
が好ましい。
らの反応性が高過ぎたルする場合には溶媒を使用するの
が好ましい。
フェノール又はチオフェノールの式（１）の誘導体に対
するモル比は１５〜５が好ましく、さらに好ましくはｃ
Ｌ７〜ｔ５である。
するモル比は１５〜５が好ましく、さらに好ましくはｃ
Ｌ７〜ｔ５である。
本発明の特別の使用法に従えば、塩基の使用量は塩基の
フェノール又はチオフェノールに対するモル比が１５〜
ｔ１となるような量である。
フェノール又はチオフェノールに対するモル比が１５〜
ｔ１となるような量である。
式（ＩＩ）のアミンの式（■の７エノールに対するモル
比はα０１〜１１２が好ましい。
比はα０１〜１１２が好ましい。
反応媒体の温度は８０℃〜２００℃が好ましい。
反応は大気圧で行なうのが好ましいが、本発明において
は大気圧より高い気圧で行なってもよい。
は大気圧より高い気圧で行なってもよい。
圧力は工程の経済効率に適合しさえすれば適当に選定し
てよい。
てよい。
反応混合物からの最終生成物の単離は戸別した後蒸留す
ることにより行ない、他に追加処理を要さないので、従
来法に比較して有利である。
ることにより行ない、他に追加処理を要さないので、従
来法に比較して有利である。
本発明方法に従って得られた化合物の例としては、λ２
，２−）リフルオロエトキシベンゼン、クロロ−２，２
，２−トリフルオロエトキシベンゼン、メチル−２，２
，２−）リフルオロエトキシベンゼン、メトキシ−２，
２，２−トリフルオロエトキシベンゼン、ニトロ−２，
２，２−トリフルオロエトキシベンゼン、シアノ−２，
２，２−）リフルオロエトキシベンゼン、トリフルオロ
メチル−２，２，２−トリフルオロエトキシベンゼン、
フルオロ−２，２，２−）リフルオロエトキシベンゼン
、２− （２，２，２−）リフルオロエトキシ）す７タ
レン、２，２．２−トリフルオロエチルチオベンゼン、
クロロ−２，２，２−）リフルオロエトキシベンゼン及
びニトロ−２，２゜２−トリフルオロエチルチオベンゼ
ンが挙げられる。
，２−）リフルオロエトキシベンゼン、クロロ−２，２
，２−トリフルオロエトキシベンゼン、メチル−２，２
，２−）リフルオロエトキシベンゼン、メトキシ−２，
２，２−トリフルオロエトキシベンゼン、ニトロ−２，
２，２−トリフルオロエトキシベンゼン、シアノ−２，
２，２−）リフルオロエトキシベンゼン、トリフルオロ
メチル−２，２，２−トリフルオロエトキシベンゼン、
フルオロ−２，２，２−）リフルオロエトキシベンゼン
、２− （２，２，２−）リフルオロエトキシ）す７タ
レン、２，２．２−トリフルオロエチルチオベンゼン、
クロロ−２，２，２−）リフルオロエトキシベンゼン及
びニトロ−２，２゜２−トリフルオロエチルチオベンゼ
ンが挙げられる。
本発明のトリフルオロエトキシベンゼン類又はトリフル
オロエチルチオベンゼン類は医薬、動物医薬、植物保護
剤としての作用をもつ誘導体を製造する中間体として使
用されるとともに潤滑剤工業においても使用される（仏
国特許第２，４６８，５７６号）。
オロエチルチオベンゼン類は医薬、動物医薬、植物保護
剤としての作用をもつ誘導体を製造する中間体として使
用されるとともに潤滑剤工業においても使用される（仏
国特許第２，４６８，５７６号）。
（実施例）
以下の実施例を参照して本発明をさらに詳細に説明する
が、本発明はこれらの実施例に限定されない。
が、本発明はこれらの実施例に限定されない。
機械式攪拌装置、温度計及び短いビクレー蒸留塔を備え
た５０〇−容の丸フラスコにＬ２．４−）ジクロロベン
ゼン２００ ｍｌ ｓ水Ｗ！！侶ナトリウム微粉末４Ｉ
ｉ（ｃ１モル）、トリス（４６−ジオキサヘブチル）ア
ミン１６Ｎ（ｓｘｌｏ モル）、及びパラクロロフェ
ノール１ｚ９Ｉｉ（ＩＩＬ１モ／Ｌ／）を装入する。
た５０〇−容の丸フラスコにＬ２．４−）ジクロロベン
ゼン２００ ｍｌ ｓ水Ｗ！！侶ナトリウム微粉末４Ｉ
ｉ（ｃ１モル）、トリス（４６−ジオキサヘブチル）ア
ミン１６Ｎ（ｓｘｌｏ モル）、及びパラクロロフェ
ノール１ｚ９Ｉｉ（ＩＩＬ１モ／Ｌ／）を装入する。
この懸濁液を攪拌して１００℃に加熱すると水が蒸留さ
れて出始める。混合物を形成された水が留去されなくな
るまで１００℃〜１５０℃に維持する。
れて出始める。混合物を形成された水が留去されなくな
るまで１００℃〜１５０℃に維持する。
次いで、反応混合物を約５０℃に冷却して、これにトリ
クロロメタンスルホン酸２，２．２−トリフルオロエチ
ル２ＪＬ２．ｆ（０．１モル）を添加する。
クロロメタンスルホン酸２，２．２−トリフルオロエチ
ル２ＪＬ２．ｆ（０．１モル）を添加する。
蒸留塔を還流冷却器に取シ替えて反応混合物を攪拌下１
４５℃に加熱し、この温度に４時間維持する。
４５℃に加熱し、この温度に４時間維持する。
内部標準を用いたガスクロマトグラフィー分析では粗４
−クロロ−（２，２，２−）リフルオロエトキシ）ベン
ゼンの収率は５８％であった。
−クロロ−（２，２，２−）リフルオロエトキシ）ベン
ゼンの収率は５８％であった。
冷却後、得られた混合物をｐ過し、ｐ液を減圧下スピニ
ング・バンド・カラム（ａｐｉｎｎｌｎｇ ｂａｎｄｅ
ｏｌｕｍｕ ） を使用して蒸留し、４−クロｏ−（
２゜２．２−）リフルオロエトキシ）ベンゼン１１６Ｉ
！を補集した。収率は５５％であった。
ング・バンド・カラム（ａｐｉｎｎｌｎｇ ｂａｎｄｅ
ｏｌｕｍｕ ） を使用して蒸留し、４−クロｏ−（
２゜２．２−）リフルオロエトキシ）ベンゼン１１６Ｉ
！を補集した。収率は５５％であった。
（Ｂ、ｐ、２５７７７℃へ７７５℃）。
他の実施例
表１に他の実施例についてまとめた。
Claims (16)
- （１）フェノール又はチオフェノールと次式（ I ）Ｃ
Ｆ３ＣＨ′ＯＲ′（ I ） （式中、Ｒ′トリフルオロアセチル基、メタンスルホニ
ル基、パラトルエンスルホニル基、トリクロロメタンス
ルホニル基及びクロロスルホニル基より成る群から選ば
れた置換基を表わす。）の誘導体を固体の強アルカリ性
塩基及び次式（II）Ｎ−〔ＣＨＲ＿１ＣＨＲ＿２−Ｏ−
（ＣＨＲ＿３−ＣＨＲ＿４−Ｏ）−＿ｎＲ＿５〕＿３（
II）（式中、ｎは０≦ｎ≦１０の整数を表わす。Ｒ＿１
、Ｒ＿２、Ｒ＿３及びＲ＿４は互いに同一又は相異なつ
てそれぞれ水素原子又は炭素数１〜４個のアルキル基を
表わす。Ｒ＿５は炭素数１〜１２個のアルキル基もしく
はシクロアルキル基、フェニル基又は −Ｃ＿ｍＨ＿２＿ｍ−Ｃ＿６Ｈ＿５基もしくはＣ＿ｍＨ
＿２＿ｍ＿＋＿１−Ｃ＿６Ｈ＿４−基（ただし、ｍは１
〜１２である。）を表わす。）の金属イオン封鎖剤の一
種以上の存在下で反応させることを特徴とするトリフル
オロエトキシベンゼン又はトリフルオロエチルチオベン
ゼンの製造方法。 - （２）フェノール又はチオフェノールが次式（III）Ｒ
＿ｎ−Ａｒ−ＡＨ（III） （式中、Ａｒは単環式、多環式又はヘテロ環式芳香族基
を表わす。Ａは硫黄原子又は酸素原子を表わす。Ｒは水
素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ア
ルキルチオ基、フェノキシ基、ニトロ基、アルコキシカ
ルボニル基、ハロアルキル基、ハロアルコキシ基、ハロ
アルキルチオ基、フェニル基、ベンゾイル基及びシアノ
基より成る群から選ばれた一種以上の置換基を表わす。 ｎは１≦ｎ≦５の整数を表わす。）に相当する化合物で
あることを特徴とする、特許請求の範囲第（１）項に記
載の方法。 - （３）式（III）において、ｎが１又は２であることを
特徴とする、特許請求の範囲第（１）又は（２）項に記
載の方法。 - （４）式（ I ）において、Ｒ′がパラトルエンスルホ
ニル基又はトリクロロメタンスルホニル基より成る群か
ら選ばれた置換基を表わすことを特徴とする、特許請求
の範囲第（１）項に記載の方法。 - （５）塩基がアルカリ金属又はアルカリ金属の水酸化物
及び炭酸塩より成る群から選ばれることを特徴とする、
特許請求の範囲第（１）項に記載の方法。 - （６）式（II）において、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３及び
Ｒ＿４が水素原子又はメチル基を表わすことを特徴とす
る、特許請求の範囲第（１）項に記載の方法。 - （７）式（II）において、ｎが０≦ｎ≦６の整数を表わ
すことを特徴とする特許請求の範囲第（１）項に記載の
方法。 - （８）式（II）において、Ｒ＿５が炭素数１〜４個のア
ルキル基を表わすことを特徴とする、特許請求の範囲（
１）項に記載の方法。 - （９）式（II）において、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３及び
Ｒ＿４が互いに同一又は相異なつてそれぞれ水素原子又
はメチル基を表わし、ｎが０≦ｎ≦６の整数を表わし、
Ｒ＿５が炭素数１〜４個のアルキル基を表わすことを特
徴とする、特許請求の範囲第（１）項に記載の方法。 - （１０）式（II）の金属イオン封鎖剤が次式Ｎ（ＣＨ＿
２−ＣＨ＿２−Ｏ−ＣＨ＿２−ＣＨ＿２−Ｏ−ＣＨ＿３
）＿３で表わされるトリス（３，６−ジオキサヘブチル
）アミンであることを特徴とする、特許請求の範囲第（
９）項に記載の方法。 - （１１）反応が溶媒の存在下で行なわれることを特徴と
する、特許請求の範囲第（１）項に記載の方法。 - （１２）溶媒が非極性又は弱極性の非プロトン性溶媒で
あることを特徴とする、特許請求の範囲第（１）項に記
載の方法。 - （１３）フェノール又はチオフェノールの式（ I ）の
誘導体に対するモル比が０．５〜５）好ましくは０．７
〜１．５であることを特徴とする、特許請求の範囲第（
１）項に記載の方法。 - （１４）塩基のフェノールに対するモル比が０．５〜１
．１であることを特徴とする、特許請求の範囲第（１）
項に記載の方法。 - （１５）式（II）の誘導体のフェノールに対するモル比
が０．０１〜０．２であることを特徴とする、特許請求
の範囲第（１）項に記載の方法。 - （１６）反応温度が８０℃〜２００℃であることを特徴
とする、特許請求の範囲第（１）項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
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