JPS61219786A - 酸化物単結晶の引上げ方法 - Google Patents
酸化物単結晶の引上げ方法Info
- Publication number
- JPS61219786A JPS61219786A JP6012085A JP6012085A JPS61219786A JP S61219786 A JPS61219786 A JP S61219786A JP 6012085 A JP6012085 A JP 6012085A JP 6012085 A JP6012085 A JP 6012085A JP S61219786 A JPS61219786 A JP S61219786A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- single crystal
- crucible
- heat
- oxide single
- pulling
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の技術分野1
本発明は、酸化物の単結晶を!J造する酸化物単結晶の
引上げ方法に関する。
引上げ方法に関する。
[発明の技術的背景とその問題点]
一般に、電気炉は電力効率や、炉内の均熱性を要求され
ることから、その熱源は耐熱性の保温材で覆われている
。チョクラルスキー法により、単結晶を作成するための
炉も同様で、高周波加熱炉では、熱源となるるつぼは、
耐熱性の保温材で覆われている。
ることから、その熱源は耐熱性の保温材で覆われている
。チョクラルスキー法により、単結晶を作成するための
炉も同様で、高周波加熱炉では、熱源となるるつぼは、
耐熱性の保温材で覆われている。
第7図は、チョクラルスキー法により単結晶を作成する
高周波加熱炉を示すもので、符号1は白金るつぼを示し
ている。白金るっぽ1は、その周囲をアルミするつぼ2
、バブルアルミナ3等により覆われた状態で、高周波ワ
ークコイル4によりM導加熱され、原料融液5が作られ
る。単結晶6を製造するには、原料融液5の温石制御を
しながら、シードボルダ−7に取りつけられた種子結晶
8を融液5に接触させ、回転しながら引上げることによ
りl733tされる。
高周波加熱炉を示すもので、符号1は白金るつぼを示し
ている。白金るっぽ1は、その周囲をアルミするつぼ2
、バブルアルミナ3等により覆われた状態で、高周波ワ
ークコイル4によりM導加熱され、原料融液5が作られ
る。単結晶6を製造するには、原料融液5の温石制御を
しながら、シードボルダ−7に取りつけられた種子結晶
8を融液5に接触させ、回転しながら引上げることによ
りl733tされる。
一般に、製造する単結晶6の種類により、融点、熱伝導
度、熱応力等が責なるために、炉内の熱環境の設定は作
成する単結晶6の種類により変化させる必要がある。一
方結晶化のための熱エネルギーは主に成長した単結晶6
への伝導や輻射によって放散される。したがって熱源で
ある白金るっぽ1は充分に保温され、白金るっぽ1の上
部の保温状態を調節することによって、成長界面の温度
勾配が制御される。このとき、熱歪によるクラックが生
じやすいような単結晶6では、白金るっぽ1の上部に反
射板9、アルミナ保温筒10などが設置され温度勾配を
緩くしてクラックを防止している。
度、熱応力等が責なるために、炉内の熱環境の設定は作
成する単結晶6の種類により変化させる必要がある。一
方結晶化のための熱エネルギーは主に成長した単結晶6
への伝導や輻射によって放散される。したがって熱源で
ある白金るっぽ1は充分に保温され、白金るっぽ1の上
部の保温状態を調節することによって、成長界面の温度
勾配が制御される。このとき、熱歪によるクラックが生
じやすいような単結晶6では、白金るっぽ1の上部に反
射板9、アルミナ保温筒10などが設置され温度勾配を
緩くしてクラックを防止している。
以上のような方法で多くの高品質単結晶が製造されてい
るが、このような方法では、次のような問題点がある。
るが、このような方法では、次のような問題点がある。
すなわち、融点の低い結晶では、熱放散は成長した結晶
への伝導によるものが主で、Ltz8<07等の融点が
低く熱伝導度の小さい結晶では、結晶化のための熱エネ
ルギーの放散が充分に行なわれにくい。しかも結晶は非
常にわれやすく、融液面上の温度勾配を大きくすること
もできない。
への伝導によるものが主で、Ltz8<07等の融点が
低く熱伝導度の小さい結晶では、結晶化のための熱エネ
ルギーの放散が充分に行なわれにくい。しかも結晶は非
常にわれやすく、融液面上の温度勾配を大きくすること
もできない。
その結果引上げ成長中の結晶が、自然に液面から切りは
なれる、気泡の混入で白濁する、結晶が成長するにつれ
て曲がる等の現象が起きる。
なれる、気泡の混入で白濁する、結晶が成長するにつれ
て曲がる等の現象が起きる。
LizB*07単結晶の気泡は、結晶の直径が急変した
部分に混入する場合が多い。一方、単結晶の径制御は、
融液温度を変化させて行う。したがって炉の熱応答特性
が悪いと、単結晶の径制御は困難になる。特に大容量の
炉は熱容量が大きくなり、濃度が安定化する反面温度追
従性が悪くなり、種子つけ等の際、所定の温度にするの
に非常に時間がかかる。1−izB*07のように低融
点で熱伝導が小さく、粘性が大ぎい融液では、その傾向
はいっそう強くなる。したがって温度変化の直線性も悪
く結晶の径111部が困難となり、気泡混入の原因にな
るという問題がある。
部分に混入する場合が多い。一方、単結晶の径制御は、
融液温度を変化させて行う。したがって炉の熱応答特性
が悪いと、単結晶の径制御は困難になる。特に大容量の
炉は熱容量が大きくなり、濃度が安定化する反面温度追
従性が悪くなり、種子つけ等の際、所定の温度にするの
に非常に時間がかかる。1−izB*07のように低融
点で熱伝導が小さく、粘性が大ぎい融液では、その傾向
はいっそう強くなる。したがって温度変化の直線性も悪
く結晶の径111部が困難となり、気泡混入の原因にな
るという問題がある。
白金るつぼ1のような貴金属るつぼは、原料融液の融解
、凝固を繰返すために、次第に変形する。
、凝固を繰返すために、次第に変形する。
融点の高い結晶では、るつぼの軟化もあり、より変形し
やすい。るつぼの変形が進むと熱的条件も次第に変化し
、多結晶化やクラックによる歩留の低下を引きおこす。
やすい。るつぼの変形が進むと熱的条件も次第に変化し
、多結晶化やクラックによる歩留の低下を引きおこす。
さらに、ついにはるつぼに亀裂が生じたり、高周波の誘
導加熱が不均一となって、るつぼが溶断する原因にもな
る。酸化物単結晶ではPt 5Pt−Rh 、I r等
の貴金属るつぼが使用される。このるつぼは非常に高価
なため、るつぼのか命は製品価格に対し、非常に影響が
大きくなる。特に大口径の結晶が要求され、大容量のる
つぼを用いる場合には、そのるつぼの寿命を長くすると
いうことが重要な問題となる。
導加熱が不均一となって、るつぼが溶断する原因にもな
る。酸化物単結晶ではPt 5Pt−Rh 、I r等
の貴金属るつぼが使用される。このるつぼは非常に高価
なため、るつぼのか命は製品価格に対し、非常に影響が
大きくなる。特に大口径の結晶が要求され、大容量のる
つぼを用いる場合には、そのるつぼの寿命を長くすると
いうことが重要な問題となる。
[R明の目的]
本発明は、かかる従来の事情に対処してなされたもので
、クラックや気泡のない高品質の酸化物単結晶を安価に
製造することのできる、酸化物単結晶の引きあげ方法を
提供しようとするものである。
、クラックや気泡のない高品質の酸化物単結晶を安価に
製造することのできる、酸化物単結晶の引きあげ方法を
提供しようとするものである。
[発明の概要]
すなわち本発明は、高周波誘導加熱によりるつぼ内の原
材料をWI!!シ、この溶融した原材料を種結晶を用い
て引上げて酸化物単結晶を製造する酸化物単結晶の引上
げ方法において、前記引上げを、前記溶融した原材料か
らの自然放熱を許した状態で、または放熱を促進しなが
ら行うことを特徴とする酸化物単結晶の引上げ方法であ
る。
材料をWI!!シ、この溶融した原材料を種結晶を用い
て引上げて酸化物単結晶を製造する酸化物単結晶の引上
げ方法において、前記引上げを、前記溶融した原材料か
らの自然放熱を許した状態で、または放熱を促進しなが
ら行うことを特徴とする酸化物単結晶の引上げ方法であ
る。
[発明の実施例]
以下本発明方法の詳細を、図面を用いて実施例について
説明する。
説明する。
第1図は、本発明の酸化物単結晶の引上げ方法に使用す
る炉を示すもので、図において符号1は白金るつぼを示
している。白金るっぽ1の周囲は、従来の炉と異なりア
ルミするつぼ、バブルアルミす等により覆われておらず
、直接高周波ワークコイル4により誘導加熱され、1−
izB407の原料融液5が製造される。なお白金るつ
ぼ1の上部は、結晶のクラックを防止するために、従来
通り反射板9アルミナ保温筒10により保温されている
。
る炉を示すもので、図において符号1は白金るつぼを示
している。白金るっぽ1の周囲は、従来の炉と異なりア
ルミするつぼ、バブルアルミす等により覆われておらず
、直接高周波ワークコイル4により誘導加熱され、1−
izB407の原料融液5が製造される。なお白金るつ
ぼ1の上部は、結晶のクラックを防止するために、従来
通り反射板9アルミナ保温筒10により保温されている
。
このような炉を用いて、本発明方法は、B4O7の酸化
物単結晶の引上げが、原材料からの自然放熱を許した状
態で行われる。
物単結晶の引上げが、原材料からの自然放熱を許した状
態で行われる。
すなわちこの実施例では、白金るつぼ1の周囲に保温材
を使用しないために、ワークコイル4の出力変動に対し
て、白金るつぼ1の温度追従性が向上する。したがって
、酸化物単結晶の引上中に単結晶の径制御が簡単に行え
るために、結晶中に気泡の混入することを防ぐことがで
きる。
を使用しないために、ワークコイル4の出力変動に対し
て、白金るつぼ1の温度追従性が向上する。したがって
、酸化物単結晶の引上中に単結晶の径制御が簡単に行え
るために、結晶中に気泡の混入することを防ぐことがで
きる。
また、白金るつぼ1の温度追従性が良いので、ワークコ
イル4の出り変動幅を大きく取る必要がないために、白
金るつぼ1の寿命も向上する。さらに白金るつぼ1の温
度追従性が良いために、結晶成長の前段階で、溶液を所
定の濃度に変化させることも容易になり操作性が向上す
る。
イル4の出り変動幅を大きく取る必要がないために、白
金るつぼ1の寿命も向上する。さらに白金るつぼ1の温
度追従性が良いために、結晶成長の前段階で、溶液を所
定の濃度に変化させることも容易になり操作性が向上す
る。
実際に、この方法により、Li 2B407の単結晶の
引上げを行ったところ、クラック、曲がり、気泡等のな
い直径50nで長さ50n程度の結晶を再現性良く作成
することができた。
引上げを行ったところ、クラック、曲がり、気泡等のな
い直径50nで長さ50n程度の結晶を再現性良く作成
することができた。
第2図及び第3図は第1図における白金6つ番工1の代
りに使用するるつぼ11を示すもので、るつぼ11のま
わりに冷却ひれ12を設けることによって、熱放散を向
上させ、温度追従性をさらに向上させたものである。
りに使用するるつぼ11を示すもので、るつぼ11のま
わりに冷却ひれ12を設けることによって、熱放散を向
上させ、温度追従性をさらに向上させたものである。
実際に、るつぼ11を使用して行った酸化物中結晶の引
上げでは、Li 2 B407およびl−1−1zTa
の単結晶がさらに安定して作成できることが確認された
。また、従来100回程度の引上げでるつぼ1の微小な
りラックから原料融液5のしみたしが起こっていたが、
るつぼ11を使用することによって200回以上の引上
げに安定して −使用できることが確認された。さらに
歩留も、従来100回の引上げで75%程痕であったが
、200回の引上げで90%程度に向上した。
上げでは、Li 2 B407およびl−1−1zTa
の単結晶がさらに安定して作成できることが確認された
。また、従来100回程度の引上げでるつぼ1の微小な
りラックから原料融液5のしみたしが起こっていたが、
るつぼ11を使用することによって200回以上の引上
げに安定して −使用できることが確認された。さらに
歩留も、従来100回の引上げで75%程痕であったが
、200回の引上げで90%程度に向上した。
第4図は従来の白金るつぼ1を用いて、その周囲にBe
05M0O,A120:+、5iOz、513N4等か
らなる熱放散体13を設け、熱放散性を高めた炉による
実施例を示すもので、熱放散体13は、第5図及び第6
図に示されるように、内部にるつぼ1を収容できる円筒
状の形状を有し、外部に熱放散用の冷却ひれを配設され
ている。
05M0O,A120:+、5iOz、513N4等か
らなる熱放散体13を設け、熱放散性を高めた炉による
実施例を示すもので、熱放散体13は、第5図及び第6
図に示されるように、内部にるつぼ1を収容できる円筒
状の形状を有し、外部に熱放散用の冷却ひれを配設され
ている。
この構造の熱放散体13を用いても前記実施例と同様に
クラックや気泡のない酸化物単結晶を得られることが確
認された。
クラックや気泡のない酸化物単結晶を得られることが確
認された。
[発明の効果1
以上述べたように、本発明の酸化物単結晶の引上げ方法
では、単結晶の引上げ中に、熱放散性の高いるつぼを使
用して、vArIL追従性を向上させ、炉内の温度制御
を正確に行うことができるために、クラック、曲がり、
気泡のない単結晶を安定して得ることができる。
では、単結晶の引上げ中に、熱放散性の高いるつぼを使
用して、vArIL追従性を向上させ、炉内の温度制御
を正確に行うことができるために、クラック、曲がり、
気泡のない単結晶を安定して得ることができる。
また、るつぼの耐久性も増し、歩留も向上するために、
コストも大幅に低減することができる。
コストも大幅に低減することができる。
第1図は本発明の酸化物単結晶の引上げ方法を示す炉の
縦断面図、第2図は他の実施例を示するつぼの横断面図
、第3図は第2図の縦断面図、第4図は他の実施例を示
す炉の縦断面図、第5図は第4図に使用される熱放散体
の横断面図、第6図は第5図の縦断面図、第7図は従来
の炉を示す縦断面図である。 1・・・・・・・・・白金るつぼ 5・・・・・・・・・原料融液 6・・・・・・・・・単結晶 8・・・・・・・・・種子結晶 出願人 株式会社 東芝 代理人弁理士 須 山 佐 − 第1図 第2図 第3図 M4図 第5図 第6図
縦断面図、第2図は他の実施例を示するつぼの横断面図
、第3図は第2図の縦断面図、第4図は他の実施例を示
す炉の縦断面図、第5図は第4図に使用される熱放散体
の横断面図、第6図は第5図の縦断面図、第7図は従来
の炉を示す縦断面図である。 1・・・・・・・・・白金るつぼ 5・・・・・・・・・原料融液 6・・・・・・・・・単結晶 8・・・・・・・・・種子結晶 出願人 株式会社 東芝 代理人弁理士 須 山 佐 − 第1図 第2図 第3図 M4図 第5図 第6図
Claims (6)
- (1)高周波誘導加熱によりるつぼ内の原材料を溶融し
、この溶融した原材料を種結晶を用いて引上げて酸化物
単結晶を製造する酸化物単結晶の引上げ方法において、
前記引上げを、前記溶融した原材料からの自然放熱を許
した状態で、または放熱を促進しながら行うことを特徴
とする酸化物単結晶の引上げ方法。 - (2)自然放熱は、前記るつぼの周囲に保温材を配置し
ないことによって行われる特許請求の範囲第1項記載の
酸化物単結晶の引上げ方法。 - (3)放熱の促進は、前記るつぼの周囲に配置された熱
放散体によって行われる特許請求の範囲第1項記載の酸
化物単結晶の引上げ方法。 - (4)熱放散体は、冷却ひれを有する特許請求の範囲第
3項記載の酸化物単結晶の引上げ方法。 - (5)熱放散体は、BeO、MgO、Al_2O_3、
SiO_2、Si_3N_4より選ばれた少なくとも1
つを主体とする材料よりなる特許請求の範囲第4項記載
の酸化物単結晶の引上げ方法。 - (6)原材料は、Li_2B_4O_7またはLiTa
O_3である特許請求の範囲第1項ないし第5項のいず
れか1項記載の酸化物単結晶の引上げ方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6012085A JPS61219786A (ja) | 1985-03-25 | 1985-03-25 | 酸化物単結晶の引上げ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6012085A JPS61219786A (ja) | 1985-03-25 | 1985-03-25 | 酸化物単結晶の引上げ方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61219786A true JPS61219786A (ja) | 1986-09-30 |
Family
ID=13132942
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6012085A Pending JPS61219786A (ja) | 1985-03-25 | 1985-03-25 | 酸化物単結晶の引上げ方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61219786A (ja) |
-
1985
- 1985-03-25 JP JP6012085A patent/JPS61219786A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW444513B (en) | Electrical resistance heater for crystal growing apparatus | |
CN101445954A (zh) | 一种控制直拉硅单晶生长过程中晶体和熔体界面处的温度梯度及热历史的方法 | |
CN111748844A (zh) | 一种碳化硅单晶生长装置及碳化硅单晶的生长方法 | |
EP0798404B1 (en) | Apparatus for manufacturing single crystal of silicon | |
JP3662962B2 (ja) | 単結晶の製造方法及び装置 | |
JP3907727B2 (ja) | 単結晶引き上げ装置 | |
JP3121192B2 (ja) | 酸化物単結晶の製造方法 | |
JPS61219786A (ja) | 酸化物単結晶の引上げ方法 | |
JPH11228285A (ja) | 単結晶の製造方法及び装置 | |
JP2000203987A (ja) | 単結晶製造装置 | |
JPH11189487A (ja) | 酸化物単結晶製造装置 | |
JP2878794B2 (ja) | 単結晶引上げ装置 | |
JP2828118B2 (ja) | 単結晶の製造方法および単結晶引上げ装置 | |
JP3659693B2 (ja) | 硼酸リチウム単結晶の製造方法 | |
JP2665778B2 (ja) | 半導体単結晶引上げ装置 | |
JPS6389488A (ja) | 単結晶の製造方法 | |
JPH04285091A (ja) | 酸化物単結晶の製造装置 | |
JP2713986B2 (ja) | 酸化物単結晶の製造装置 | |
JPS5932430B2 (ja) | 帯状シリコン結晶の製造装置 | |
CN1196405A (zh) | 高温相偏硼酸钡(α-BaB2O4)晶体的生长方法 | |
JP2991585B2 (ja) | 単結晶育成装置および単結晶の製造方法 | |
JPH0733586A (ja) | 酸化物単結晶の製造方法 | |
JPH05208891A (ja) | 単結晶成長装置 | |
JPS63201086A (ja) | 単結晶成長法 | |
JP2686662B2 (ja) | 酸化物単結晶の製造装置 |