JPS61214120A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS61214120A JPS61214120A JP5536185A JP5536185A JPS61214120A JP S61214120 A JPS61214120 A JP S61214120A JP 5536185 A JP5536185 A JP 5536185A JP 5536185 A JP5536185 A JP 5536185A JP S61214120 A JPS61214120 A JP S61214120A
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- JP
- Japan
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- iron
- cobalt
- thin film
- film layer
- atomic ratio
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は強磁性金属薄膜層を記録層とする磁気記録媒
体に関し、さらに詳しくは柱状の結晶構造を有する強磁
性金属薄膜層を記録層とする磁気記録媒体に関する。
体に関し、さらに詳しくは柱状の結晶構造を有する強磁
性金属薄膜層を記録層とする磁気記録媒体に関する。
強磁性金属薄膜層を記録層とする磁気記録媒体は、通常
、プラスチックフィルムなどの基体を真空蒸着装置内に
取りつけた円筒状キャンの周側面に沿って移動させ、こ
の基体に金属もしくはそれらの合金などを真空蒸着する
ことによってつくられており、磁気特性を向上させるた
め、たとえば、コバルトまたはコバルト−ニッケル合金
を斜め入射蒸着するか(特公昭41−19389号)、
あるいは酸素ガ°ス雰囲気中で斜め入射蒸着したりして
(特公昭56−23208号、特開昭56−15014
号)強磁性金属薄膜層を形成することが行われている。
、プラスチックフィルムなどの基体を真空蒸着装置内に
取りつけた円筒状キャンの周側面に沿って移動させ、こ
の基体に金属もしくはそれらの合金などを真空蒸着する
ことによってつくられており、磁気特性を向上させるた
め、たとえば、コバルトまたはコバルト−ニッケル合金
を斜め入射蒸着するか(特公昭41−19389号)、
あるいは酸素ガ°ス雰囲気中で斜め入射蒸着したりして
(特公昭56−23208号、特開昭56−15014
号)強磁性金属薄膜層を形成することが行われている。
〔発明が解決しようとする問題点)
ところが、これらの方法で形成される強磁性金属薄膜層
は、耐食性がいまひとつ充分に良好でなく、この耐食性
を改善するため、たとえば、前記特開昭56−1501
4号では、コバルト−ニッケル合金からなる強磁性金属
薄膜層を酸素ガス雰囲気中で作成し、強磁性金属薄膜層
を構成する柱状粒子表面に酸化被膜を形成することが試
みられているが、この方法では、摩擦係数が経時変化し
て走行不良が生じるという難点がある。
は、耐食性がいまひとつ充分に良好でなく、この耐食性
を改善するため、たとえば、前記特開昭56−1501
4号では、コバルト−ニッケル合金からなる強磁性金属
薄膜層を酸素ガス雰囲気中で作成し、強磁性金属薄膜層
を構成する柱状粒子表面に酸化被膜を形成することが試
みられているが、この方法では、摩擦係数が経時変化し
て走行不良が生じるという難点がある。
この発明は、かかる現状に鑑み種々検討を行った結果な
されたもので、基体上に形成される強磁性金属薄膜層を
、柱状の結晶構造を有し、かつ強磁性金属薄膜層の組成
を、鉄に対するコバルトの原子数比(F e/G o)
で0.1〜1の範囲内とし、酸素に対する鉄とコバルト
の原子数比〔O/(F6+C0))で0.05〜0.5
の範囲内とすることによって、摩擦係数の経時変化を充
分に小さくして走行性を充分に向上させたものである。
されたもので、基体上に形成される強磁性金属薄膜層を
、柱状の結晶構造を有し、かつ強磁性金属薄膜層の組成
を、鉄に対するコバルトの原子数比(F e/G o)
で0.1〜1の範囲内とし、酸素に対する鉄とコバルト
の原子数比〔O/(F6+C0))で0.05〜0.5
の範囲内とすることによって、摩擦係数の経時変化を充
分に小さくして走行性を充分に向上させたものである。
この発明における柱状の結晶構造を有する粒子で構成さ
れた強磁性金属薄膜層は、鉄−コバルト合金を酸素雰囲
気中で斜め入射蒸着することによって形成される。
れた強磁性金属薄膜層は、鉄−コバルト合金を酸素雰囲
気中で斜め入射蒸着することによって形成される。
このようにして形成される強磁性金属薄膜層の組成は、
鉄に対するコバルトの原子数比(Fe/Co)で0.1
〜1の範囲内にあり、かつ酸素に対する鉄とコバルトの
原子数比〔O/(Fe+C。
鉄に対するコバルトの原子数比(Fe/Co)で0.1
〜1の範囲内にあり、かつ酸素に対する鉄とコバルトの
原子数比〔O/(Fe+C。
)〕で0.05〜0.5の範囲内にあることが好ましく
、鉄原子が少なすぎては、摩擦係数の経時変化が充分に
小さくならず、走行性が充分に改善されない、また反対
にコバルト原子が少なすぎては良好な結晶磁気異方性が
得られず、安定で保磁力が高い強磁性金属薄膜層が得ら
れない上、耐摩耗性が充分に改善されない、また強磁性
金属薄膜層中に含有される酸素原子が少なすぎては耐摩
耗性が充分に改善されず、反対に多すぎると酸化膜が硬
くなり、強磁性金属薄膜層が脆くなって耐摩耗性がかえ
って劣化する。
、鉄原子が少なすぎては、摩擦係数の経時変化が充分に
小さくならず、走行性が充分に改善されない、また反対
にコバルト原子が少なすぎては良好な結晶磁気異方性が
得られず、安定で保磁力が高い強磁性金属薄膜層が得ら
れない上、耐摩耗性が充分に改善されない、また強磁性
金属薄膜層中に含有される酸素原子が少なすぎては耐摩
耗性が充分に改善されず、反対に多すぎると酸化膜が硬
くなり、強磁性金属薄膜層が脆くなって耐摩耗性がかえ
って劣化する。
以下、図面を参照しながらこの発明について説明する。
第1図はこの発明の強磁性金属薄膜層を形成する際に使
用する真空蒸着装置の断面図を示したものであり、1は
真空槽でこの真空槽1の内部は排気系2により真空に保
持される。3は真空槽1の中央部に配設された円筒状キ
ャンであり、プラスチックフィルム等の基体4は原反ロ
ール5よりガイドロール6を介してこの円筒状キャン3
の周側面に沿って移動し、ガイドロール7を介して巻き
取りロール8に巻き取られる。この間円筒状キャン3の
周側面に沿って移動する基体4に対向して真空槽1の下
部に配設された強磁性材蒸発源9で鉄−コバルト合金1
0が加熱蒸発され、この蒸気流が円筒状キャン3の下方
に配置された防着板11の作用で基体4に斜め入射蒸着
されるが、このとき同時に真空槽1の側壁に取りつけら
れたガス導入管12から、酸素ガスが真空槽1内に導入
される。
用する真空蒸着装置の断面図を示したものであり、1は
真空槽でこの真空槽1の内部は排気系2により真空に保
持される。3は真空槽1の中央部に配設された円筒状キ
ャンであり、プラスチックフィルム等の基体4は原反ロ
ール5よりガイドロール6を介してこの円筒状キャン3
の周側面に沿って移動し、ガイドロール7を介して巻き
取りロール8に巻き取られる。この間円筒状キャン3の
周側面に沿って移動する基体4に対向して真空槽1の下
部に配設された強磁性材蒸発源9で鉄−コバルト合金1
0が加熱蒸発され、この蒸気流が円筒状キャン3の下方
に配置された防着板11の作用で基体4に斜め入射蒸着
されるが、このとき同時に真空槽1の側壁に取りつけら
れたガス導入管12から、酸素ガスが真空槽1内に導入
される。
このような真空蒸着を行うに際し、使用する鉄−コバル
ト合金は、真空蒸着によって得られる強磁性金属薄膜層
中の鉄とコバルトの組成比が、鉄に対するコバルトの原
子数比(Fe/Co)で、0.1〜1の範囲内となるよ
うな組成のものを使用するのが好ましく、鉄原子が少な
すぎては摩擦係数の経時変化が充分小さくならない。ま
た反対にコバルト原子が少なすぎては良好な結晶磁気異
方性を有するものが得られず、安定で保磁力が高い強磁
性金属薄膜層が得られない上、耐摩耗性が充分に改善さ
れない。また、酸素ガスは、強磁性金属薄膜層中の酸素
と、鉄およびコバルトの組成比が、酸素に対する鉄とコ
バルトの原子数比〔0/(Fa+Co))で0.05〜
0.5の範囲内となるように調整して使用するのが好ま
しく、このため真空槽1内における酸素ガスのガス圧は
5X10−5トール〜5X104)−ルの範囲内にする
のが好ましい、このように、強磁性金属薄膜層中の酸素
と鉄およびコバルトの組成比がこの範囲内にある強磁性
金属薄膜層が構成されると、摩擦係数の経時変化がなく
、耐摩耗性が充分に向上された磁気記録媒体が得られる
。
ト合金は、真空蒸着によって得られる強磁性金属薄膜層
中の鉄とコバルトの組成比が、鉄に対するコバルトの原
子数比(Fe/Co)で、0.1〜1の範囲内となるよ
うな組成のものを使用するのが好ましく、鉄原子が少な
すぎては摩擦係数の経時変化が充分小さくならない。ま
た反対にコバルト原子が少なすぎては良好な結晶磁気異
方性を有するものが得られず、安定で保磁力が高い強磁
性金属薄膜層が得られない上、耐摩耗性が充分に改善さ
れない。また、酸素ガスは、強磁性金属薄膜層中の酸素
と、鉄およびコバルトの組成比が、酸素に対する鉄とコ
バルトの原子数比〔0/(Fa+Co))で0.05〜
0.5の範囲内となるように調整して使用するのが好ま
しく、このため真空槽1内における酸素ガスのガス圧は
5X10−5トール〜5X104)−ルの範囲内にする
のが好ましい、このように、強磁性金属薄膜層中の酸素
と鉄およびコバルトの組成比がこの範囲内にある強磁性
金属薄膜層が構成されると、摩擦係数の経時変化がなく
、耐摩耗性が充分に向上された磁気記録媒体が得られる
。
なお、鉄−コバルト合金を斜め入射蒸着する際の入射角
は、60度より大きくすると、蒸着効率が悪くなり、量
産に適さないため、60度以下にするのが好ましい。
は、60度より大きくすると、蒸着効率が悪くなり、量
産に適さないため、60度以下にするのが好ましい。
基体としては、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミド
等一般に使用されている高分子成形物からなるプラスチ
ックフィルムおよび銅などの非磁性金属からなる金属フ
ィルムが使用される。
等一般に使用されている高分子成形物からなるプラスチ
ックフィルムおよび銅などの非磁性金属からなる金属フ
ィルムが使用される。
次に、この発明の実施例について説明する。
実施例1
第1図に示す真空蒸着装置を使用し、約10μ厚のポリ
エステルベースフィルム4ヲ、TjX反ロール5よりガ
イドロール6を介して円筒状回転キャン3の周側面に沿
って移動させ、ガイドロール7を介して巻き取りロール
8に巻き取るようにセットするとともに、強磁性材蒸発
源9内に鉄とコバルトの組成が種々に異なる鉄−コバル
ト合金10をセットした。次いで排気系2で真空槽1内
を約5X10−6)−ルにまで真空排気し、鉄−コバル
ト合金10を加熱蒸発させて、最低入射角50度、蒸着
速度100人/sacで斜め入射蒸着を開始すると同時
に、ガス導入管12から酸素ガスを、導入量を種々に変
えて導入し、ポリエステルベースフィルム4上に、鉄と
コバルトと酸素の含有量が種々に異なる強磁性金属薄膜
層を形成した。しかる後、所定の幅に裁断して多数の磁
気テープをつ(った。
エステルベースフィルム4ヲ、TjX反ロール5よりガ
イドロール6を介して円筒状回転キャン3の周側面に沿
って移動させ、ガイドロール7を介して巻き取りロール
8に巻き取るようにセットするとともに、強磁性材蒸発
源9内に鉄とコバルトの組成が種々に異なる鉄−コバル
ト合金10をセットした。次いで排気系2で真空槽1内
を約5X10−6)−ルにまで真空排気し、鉄−コバル
ト合金10を加熱蒸発させて、最低入射角50度、蒸着
速度100人/sacで斜め入射蒸着を開始すると同時
に、ガス導入管12から酸素ガスを、導入量を種々に変
えて導入し、ポリエステルベースフィルム4上に、鉄と
コバルトと酸素の含有量が種々に異なる強磁性金属薄膜
層を形成した。しかる後、所定の幅に裁断して多数の磁
気テープをつ(った。
第2図は、このようにして得られた多数の磁気テープを
60℃、90%RHの雰囲気下に1週間静置し、磁気テ
ープをつくった直後と1週間静置後の摩擦係数を測定し
て、摩擦係数と鉄に対するコバルトの原子数比(Fe/
Co)との関係をグラフで表したものである。このグラ
フから明らかなように、鉄に対するコバルトの原子数比
(Fe/ Co )が0.1より小さいと、酸素に対す
る鉄とコバルトの原子数比〔O/ (Fe+Co))の
値に関係なく摩擦係数が1週間で急激に大きくなるが、
鉄に対するコバルトの原子数比(F a / C。
60℃、90%RHの雰囲気下に1週間静置し、磁気テ
ープをつくった直後と1週間静置後の摩擦係数を測定し
て、摩擦係数と鉄に対するコバルトの原子数比(Fe/
Co)との関係をグラフで表したものである。このグラ
フから明らかなように、鉄に対するコバルトの原子数比
(Fe/ Co )が0.1より小さいと、酸素に対す
る鉄とコバルトの原子数比〔O/ (Fe+Co))の
値に関係なく摩擦係数が1週間で急激に大きくなるが、
鉄に対するコバルトの原子数比(F a / C。
)が0.1 以上になると、摩擦係数が非常に小さく
なり、磁気テープをつくった直後の摩擦係数と同じにな
る。従って、摩擦係数を充分に小さくするには、強磁性
金属薄膜層中の鉄とコバルトの組成比を、鉄に対するコ
バルトの原子数比(F、e/Co)で0.1以上にする
のが好ましいことがわかる。
なり、磁気テープをつくった直後の摩擦係数と同じにな
る。従って、摩擦係数を充分に小さくするには、強磁性
金属薄膜層中の鉄とコバルトの組成比を、鉄に対するコ
バルトの原子数比(F、e/Co)で0.1以上にする
のが好ましいことがわかる。
また第3図は、このようにして得られた多数の磁気テー
プのスチル特性を調べ、酸素に対する鉄およびコバルト
の原子数比〔O/ (Fe+Co)〕をパパラメタにし
て、スチル時間と鉄に対するコバルトの原子数比(Fe
/Co)との関係をグラフで表したものである。これら
のグラフから明らかなように、鉄に対するコバルトの原
子数比(F e/G o)が1より大きくなるとスチル
時間が急激に小さくなってスチル特性が大きく劣化する
が、鉄に対するコバルトの原子数比(Fe/C。
プのスチル特性を調べ、酸素に対する鉄およびコバルト
の原子数比〔O/ (Fe+Co)〕をパパラメタにし
て、スチル時間と鉄に対するコバルトの原子数比(Fe
/Co)との関係をグラフで表したものである。これら
のグラフから明らかなように、鉄に対するコバルトの原
子数比(F e/G o)が1より大きくなるとスチル
時間が急激に小さくなってスチル特性が大きく劣化する
が、鉄に対するコバルトの原子数比(Fe/C。
)が1以下であればスチル時間が充分に長くなり、スチ
ル特性が極めて良好となる。また酸素に対する鉄および
コバルトの原子数比〔O/(Fe+Co))が0.05
より小さかったり、0.5より大きいとスチル時間が短
(て良好なスチル特性が得られないが、酸素に対する鉄
およびコバルトの原子数比〔O/ (F e +G o
) )が0.05〜0.5の範囲内であると、スチル時
間が充分に長くなり、極めて良好なスチル特性が得られ
る。従って、鉄に対するコバルトの原子数比(p’e/
Co)が1以下で、かつ酸素に対する鉄とコバルトの原
子数比〔0/ (Fe+Co))が0.05〜0.5の
範囲内であると、スチル特性が極めて良好になり、耐摩
耗性が改善されることがわかる。
ル特性が極めて良好となる。また酸素に対する鉄および
コバルトの原子数比〔O/(Fe+Co))が0.05
より小さかったり、0.5より大きいとスチル時間が短
(て良好なスチル特性が得られないが、酸素に対する鉄
およびコバルトの原子数比〔O/ (F e +G o
) )が0.05〜0.5の範囲内であると、スチル時
間が充分に長くなり、極めて良好なスチル特性が得られ
る。従って、鉄に対するコバルトの原子数比(p’e/
Co)が1以下で、かつ酸素に対する鉄とコバルトの原
子数比〔0/ (Fe+Co))が0.05〜0.5の
範囲内であると、スチル特性が極めて良好になり、耐摩
耗性が改善されることがわかる。
実施例2
実施例1において、鉄対コバルトの重量比が20=80
の鉄−コバルト合金を使用し、酸素ガスをt ompt
Z分の流量で導入して、酸素ガス圧を8X10()−ル
とした以外は、実施例1と同様にして磁気テープをつく
った。このようにして得られた磁気テープの強磁性金属
薄膜層中の鉄に対するコバルトの原子数比(pe/Co
)は0.25で、酸素に対する鉄とコバルトの原子数比
〔O/(Fe+Co))は0.25であった。なお、こ
のようにして得られた磁気テープの保磁力は800エル
ステツドで、飽和磁化は600ガウスであった。
の鉄−コバルト合金を使用し、酸素ガスをt ompt
Z分の流量で導入して、酸素ガス圧を8X10()−ル
とした以外は、実施例1と同様にして磁気テープをつく
った。このようにして得られた磁気テープの強磁性金属
薄膜層中の鉄に対するコバルトの原子数比(pe/Co
)は0.25で、酸素に対する鉄とコバルトの原子数比
〔O/(Fe+Co))は0.25であった。なお、こ
のようにして得られた磁気テープの保磁力は800エル
ステツドで、飽和磁化は600ガウスであった。
比較例1
実施例2において、酸素ガスの導入を省いた以外は実施
例2と同様にして磁気テープをつくった。このようにし
て得られた磁気テープの、強磁性金属薄膜層中の鉄に対
するコバルトの原子数比(F e / Co )は0.
25で、酸素に対する鉄とコバルトの原子数比(0’/
(F e +Co) )は0.03であった。
例2と同様にして磁気テープをつくった。このようにし
て得られた磁気テープの、強磁性金属薄膜層中の鉄に対
するコバルトの原子数比(F e / Co )は0.
25で、酸素に対する鉄とコバルトの原子数比(0’/
(F e +Co) )は0.03であった。
比較例2
実施例2において、酸素ガスの導入量を10m1/分か
ら50m1t1分に変更し、酸素ガス圧を7xlO’ト
ールとした以外は実施例2と同様にして磁気テープをつ
くった。このようにして得られた磁気テープの強磁性金
属薄膜層中の、鉄に対するコバルトの原子数比(Fe/
Co)は0.25で、酸素に対する鉄とコバルトの原子
数比〔0/(Fe+Co))は0.65であった。
ら50m1t1分に変更し、酸素ガス圧を7xlO’ト
ールとした以外は実施例2と同様にして磁気テープをつ
くった。このようにして得られた磁気テープの強磁性金
属薄膜層中の、鉄に対するコバルトの原子数比(Fe/
Co)は0.25で、酸素に対する鉄とコバルトの原子
数比〔0/(Fe+Co))は0.65であった。
比較例3
実施例2において、鉄対コバルトの重量比が20:80
の鉄−コバルト合金に代えて、鉄対コバルトの重量比が
5:95の鉄−コバルト合金を使用した以外は実施例2
と同様にして磁気テープをつくった。このようにして得
られた磁気テープの、強磁性金属薄膜層中の鉄に対する
コバルトの原子数比(Fe/Co)は0.05で、酸素
に対する鉄とコバルトの原子数比〔O/ (Fe+Go
))は0.25であった。
の鉄−コバルト合金に代えて、鉄対コバルトの重量比が
5:95の鉄−コバルト合金を使用した以外は実施例2
と同様にして磁気テープをつくった。このようにして得
られた磁気テープの、強磁性金属薄膜層中の鉄に対する
コバルトの原子数比(Fe/Co)は0.05で、酸素
に対する鉄とコバルトの原子数比〔O/ (Fe+Go
))は0.25であった。
比較例4
実施例2において、鉄対コバルトの重量比が20=80
の鉄−コバルト合金に代えて、鉄対コバルトの重量比が
70:30の鉄−コバルト合金を使用した以外は実施例
2と同様にして磁気テープをつ(った。このようにして
得られた磁気テープの強磁性金属薄膜層中の鉄に対する
コバルトの原子数比(Fe/Co)は2.33で、酸素
に対する鉄とコバルトの原子数比〔O/ (Fe+Go
))は0.25であった。
の鉄−コバルト合金に代えて、鉄対コバルトの重量比が
70:30の鉄−コバルト合金を使用した以外は実施例
2と同様にして磁気テープをつ(った。このようにして
得られた磁気テープの強磁性金属薄膜層中の鉄に対する
コバルトの原子数比(Fe/Co)は2.33で、酸素
に対する鉄とコバルトの原子数比〔O/ (Fe+Go
))は0.25であった。
比較例5
実施例2において、鉄対コバルトの重量比が20二80
の鉄−コバルト合金に代えて、コバルト対ニッケルの重
量比が80:20のコバルト−ニッケル合金を使用した
以外は、実施例2と同様にして磁気テープをつくった。
の鉄−コバルト合金に代えて、コバルト対ニッケルの重
量比が80:20のコバルト−ニッケル合金を使用した
以外は、実施例2と同様にして磁気テープをつくった。
このようにして得られた磁気テープの強磁性金属薄膜層
中のニッケルに対するコバルトの原子数比(Ni/Co
)は0025で、酸素に対するニッケルとコバルトの原
子数比〔O/ (Ni+Go))は0.25であった。
中のニッケルに対するコバルトの原子数比(Ni/Co
)は0025で、酸素に対するニッケルとコバルトの原
子数比〔O/ (Ni+Go))は0.25であった。
各実施例および各比較例で得られた磁気テープについて
、長手方間および幅方向の角型比を測定した。また、磁
気テープを60℃、90%RHの雰囲気下に1週間静置
して、磁気テープ製造直後と1週間静置後の摩擦係数を
測定した。さらにスチル時間を測定してスチル特性を調
べた。
、長手方間および幅方向の角型比を測定した。また、磁
気テープを60℃、90%RHの雰囲気下に1週間静置
して、磁気テープ製造直後と1週間静置後の摩擦係数を
測定した。さらにスチル時間を測定してスチル特性を調
べた。
下表はその結果である。
上表から明らかなように、この発明で得られた磁気テー
プ(実施例2)は、比較例1ないし5で得られた磁気テ
ープに比し、放置後の摩擦係数が小さくてスチル時間が
長く、−このことからこの発明で得られる磁気記録媒体
は、磁気特性に優れる゛とともに走行性および耐摩耗性
に優れていることがわかる。
プ(実施例2)は、比較例1ないし5で得られた磁気テ
ープに比し、放置後の摩擦係数が小さくてスチル時間が
長く、−このことからこの発明で得られる磁気記録媒体
は、磁気特性に優れる゛とともに走行性および耐摩耗性
に優れていることがわかる。
第1図はこの発明の磁気記録媒体を製造するのに使用す
る真空蒸着装置の概略断面図、第2図はこの発明で得ら
れた磁気テープの製造直後と1週間静置後の摩擦係数と
鉄に対するコバルトの原子数比(Fe/Co)との関係
図、第3図は、この発明で得られた磁気テープのスチル
時間と鉄に対するコバルトの原子数比(F e / C
o )との関係を、酸素に対する鉄およびコバルトの原
子数比〔0/ (Fe+Co))をパラメータとして示
した関係図である。 特許出願人 日立マクセル株式会社 第1図 第2図 原 子 数 比 (Fe/Co )第3図
る真空蒸着装置の概略断面図、第2図はこの発明で得ら
れた磁気テープの製造直後と1週間静置後の摩擦係数と
鉄に対するコバルトの原子数比(Fe/Co)との関係
図、第3図は、この発明で得られた磁気テープのスチル
時間と鉄に対するコバルトの原子数比(F e / C
o )との関係を、酸素に対する鉄およびコバルトの原
子数比〔0/ (Fe+Co))をパラメータとして示
した関係図である。 特許出願人 日立マクセル株式会社 第1図 第2図 原 子 数 比 (Fe/Co )第3図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、基体上に、強磁性金属薄膜層の組成が鉄に対するコ
バルトの原子数比(Fe/Co)で0.1〜1の範囲内
にあり、かつ酸素に対する鉄とコバルトの原子数比〔O
/(Fe+Co)〕で0.05〜0.5の範囲内にある
強磁性金属薄膜層を設けたことを特徴とする磁気記録媒
体 2、強磁性金属薄膜層の磁化容易軸が、磁気記録媒体の
長尺方向にある特許請求の範囲第1項記載の磁気記録媒
体
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5536185A JPS61214120A (ja) | 1985-03-19 | 1985-03-19 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5536185A JPS61214120A (ja) | 1985-03-19 | 1985-03-19 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61214120A true JPS61214120A (ja) | 1986-09-24 |
Family
ID=12996349
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5536185A Pending JPS61214120A (ja) | 1985-03-19 | 1985-03-19 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61214120A (ja) |
-
1985
- 1985-03-19 JP JP5536185A patent/JPS61214120A/ja active Pending
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