JPS61207903A - ヘテロダイン干渉計システム - Google Patents

ヘテロダイン干渉計システム

Info

Publication number
JPS61207903A
JPS61207903A JP61053505A JP5350586A JPS61207903A JP S61207903 A JPS61207903 A JP S61207903A JP 61053505 A JP61053505 A JP 61053505A JP 5350586 A JP5350586 A JP 5350586A JP S61207903 A JPS61207903 A JP S61207903A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
interferometer system
heterodyne interferometer
output
phase difference
signal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61053505A
Other languages
English (en)
Inventor
ゲイリー・イー・ソマーグレン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Zygo Corp
Original Assignee
Zygo Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Zygo Corp filed Critical Zygo Corp
Publication of JPS61207903A publication Critical patent/JPS61207903A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02Interferometers
    • G01B9/02041Interferometers characterised by particular imaging or detection techniques
    • G01B9/02045Interferometers characterised by particular imaging or detection techniques using the Doppler effect
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02Interferometers
    • G01B9/02001Interferometers characterised by controlling or generating intrinsic radiation properties
    • G01B9/02002Interferometers characterised by controlling or generating intrinsic radiation properties using two or more frequencies
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02Interferometers
    • G01B9/02083Interferometers characterised by particular signal processing and presentation
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J9/00Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength
    • G01J9/04Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by beating two waves of a same source but of different frequency and measuring the phase shift of the lower frequency obtained
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B2290/00Aspects of interferometers not specifically covered by any group under G01B9/02
    • G01B2290/70Using polarization in the interferometer

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は光干渉計型の測定装置に関する。さらに詳しく
は、本発明は長さの変化あるいは光学的長さの変化を正
確に測定するために二つの光周波数を使用する装置に関
する。
(従来の技術) 長さ、距離あるいは光学的長さの変化を測定するのに光
干渉測定法を使用することは、レーザー、光センサーお
よびマイクロエレクトロニクスにおける技術進歩に因る
のみならず、常に増大する高度に精密正確な測定への要
請に因っても著しく発展してきた。従来の技術水準の干
渉計は使用する信号処理技術によって一般に二つの型、
すなわちホモダイン方式とヘテロダイン方式に分類され
る〔例えば、H1松本1安定レーザーを使用する最近の
干渉測定J ; Precision Enginee
ring Vol+6゜PP、87〜94(1984年
4月)参照〕。ヘテロダイン技術に基ずく干渉計は、1
)低周波数ドリフトおよびノイズに鈍感であり 2)分
解能をより容易に拡大できるため一般に好まれる。ヘテ
ロダイン型の干渉計のうちで特に美味のあるのは二つの
光周波数の使用に基づくものである〔例えば、G。
Bouwhuis  「午渉測定に適したガスレーザー
」:Ned、 T、 Natuurk Vol、 34
 、 PP、225〜232  ((1968年8月)
、Bagl ey他:米国特許3.458゜259(1
969年7月29日) : Hewlett Pack
ardJournal (1970年8月)、Bagl
 ey他:米国特許 3,656,853  :  )
iewlett  Packard  Journal
  (1983年4月)参照〕0 (発明の構成) 本発明は、(1)安定な単一周波数の直線偏光入力ビー
ム源、最も好ましくはレーザー源、(2)周波数foの
電気的基準信号を供給するための手段、最も好ましくは
周波数の安定した高周波発振器、(3)前記入力ビーム
を、二つの光周波数を有し、その二つの異なる周波数が
直交偏光されており、そしてその二つの周波数間の周波
数の差がfoに等しいビームに変換するための手段、最
も好ましくは音響光学的装置、(4)前記二つの周波数
の一方が通。
過する長さの固定した光路と前記二つの周波数の他方が
通過する長さの変動する光路とを有する手段、最も好ま
しくは干渉計、(5)前記ビームを前記干渉計通過後に
混合するための手段、最も好ましくは偏光器、(6)電
気的測定信号を出すための手段、最も好ましくは光電検
出器、(7)前記基準信号と前記測定信号との間の位相
差を示すための手段、最も好ましくは位相計/アキュム
レータ、および(8)前記干渉計の前記長さの変動する
光路の長さの変化である前記位相差から出力信号を出す
ための手段から成る、長さの変化あるいは光学的長さの
変化を正確に測定することのできるヘテロダイン干渉計
システムを提供するものである。
第1図に本発明の一実施態様を図式で示す。この装置は
広範囲の放射線源に適用できるが、以下の記載は例とし
て光学測定系について行う。ここに言う1−放射エネル
ギー」とは全ての周波数範囲の電磁エネルギーを包含す
るが、それに限定されるものではない。光源αa、最も
好ましくはレーザーは単一の安定な周波数を有し直線偏
光されている光エネルギーのビーム(社)を供給する。
光源αaは種々様々なレーザーのいずれであることもで
きる。
例えばそれはガスレーザー、例えば当業者によく知られ
た種々の技術の任意のものでビーム@を出すように安定
化されたヘリウム・ネオンレーザ−であることができる
〔例えば、T’、Baer他[Q、(533pm He
−Ne縦Zeemanレーザーの周波数安定化J HA
pplied 0ptics Vol 、 19 、 
pp、3173〜3177(1980年)、Burgw
ald他:米国特許3.889.207(1975年6
月10日)、およびSandstrom他:米国特許3
,662.279(1972年5月9日)参照〕。また
光源(1Gは当業者に知られた技術の任意の一つでビー
ム(2)を出すように周波数の安定化されたダイオード
レーザ−であることかできる〔例えば、”r、0kos
hi 、 K、 Kikuchi 「ヘテロダイン型光
通信系用の半導体レーザーの周波数安定化J : El
ectronic Letters Vol、16 +
 PP。
179〜181(1980年)およびS、 Yamag
uchi、M、 5uzuki 「クリプトンのオプト
ガルバニック効果を使用するA4GaAs 半導体レー
ザーの周波数と出力の同時安定化J : IEEE J
、 QuantumElectronics Vol、
QE−19、9P、 1514〜1519(1983年
)参照〕。ビームα2の直径と発散(divergen
ce )  は光源U〔に使用する装置によって決まる
。幾つかの光源、例えダイオードレーザーには接続する
機素に適した直径と発散を有する入力ビーム(1印を供
給するためにビーム生成光学素子αの、例えば顕微鏡対
物レンズを使用する必要がある。光源Uαがヘリウム・
ネオンレーザ−である場合には、例えばビーム生成光学
素子α4が必要なことがある。機素uGおよびα4は仕
切り箱αeの中に示されている。箱α口は一つの安定な
周波数fLを有し直線偏光されている入力ビーλ/81
の源である。
高周波発振器(至)は周波数foの周波数安定基準電気
信号@を出力増幅器(至)に供給する。出力増幅器図の
電気出力(至)は音響光学的(A−0)装置■を駆動す
るのに使用される。A−0装置■、例えばBraggセ
ルから成るA−0装置は好ましくは同時出願、係属中の
米国特許出願[単周波数の直線偏光レーザービームを三
周波数の直交偏光ビームに変成する装置」に開示されて
いる装置である。この装置は、■安定化された単波長で
直線偏光された入力ビーム(最も好ましくは、レーザ)
源;■周波数f、及びf2の2つの電気信号を提供する
手段、最も好ましくは周波数の安定化された高周波発生
器;■該電気信号を下記手段■へ伝達するための手段、
最も好ましくは電子増幅器;■上記入力ビームを、f2
−f、の周波数差を有し、伝搬方向差か小さく、該入力
ビームと同様の偏光を有し、かつそれぞれ入力ビームの
ほぼ1/2の強度を有する2つの中間ビームに変換する
手段、最も好ましくは音響−光学ブラッグセル;■該中
間ビームを2つの直交偏光ビームに分裂することにより
、入力ビームの1/2の強度を有し2つの直交偏光成分
を有しこの直交偏光成分間に12−f、の周波数差を有
する出力ビームと、入力ビームの伝搬方向に対してわず
かに角度偏移した伝搬方向を有しかつそれぞれ入力ビー
ムの174の強度を有する2つのスプリアス(mpur
iovs)ビームを生み出す手段、最も好ましくは複屈
折プリズム;及び■該スプリアスビームを排除する手段
、最も好ましくは不透明絞り(opaque 5top
 ) 、を備えてなり、単周波数fLで直線偏光された
レーザービームを2つの直交偏光周波数のビームに変成
できる電気光学装置である。該米国出願の内容は参照す
ることによって特に本発明に組み入れられる。ビームI
とビームωは共線的(collinear )であるが
明瞭にするために第1図に位置を変えて示されており、
直交偏光されており、そして基準電気信号の周波数、す
なわちfoだけ周波数に差がある。ビーム4αおよび印
は一対の逆反射器σ4および花と偏光ビーム分割器@と
から成る干渉計(至)に適用される。勿論干渉計はこの
特定の干渉計配置に限定されるものではない。本発明は
種々様々な偏光型干渉計に使用することができる。偏光
ビーム分割器@はP偏光された光、すなわち入射平面内
に偏光ベクトルを有する光を完全に透過し、8−偏光さ
れた光、すなわち入射平面に垂直な偏光ベクトルを有す
る光を完全に反射する。
対角線−は偏光ビーム分割器@のビーム分割表面である
。すなわち、ビーム+41は偏光ビーム分割器■によっ
て透過されてビーム(転)を生じ、ビームωは偏光ビー
ム分割器(2)によって反射されてビームωを生ずる。
ビーム(支)は逆反射器間によって逆反射されてビーム
(財)を生じ、そのビーム(財)は再び偏光ビーム分割
器@によって反射されてビーム印を生ずる。逆反射器f
f4) 41偏光ビ一ム分割器□□□に関して固定され
ている。逆反射器間および(至)はそれらの出力ビーム
と入力ビームとの間の偏光状態を維持する。すなわち、
ビーム(財)は純粋なS偏光であり、ビーム(財)は純
粋なP偏光である。次に偏光ビーム分割器面はビーム霞
を反射しビーム■を透過して、共線的で直交偏光された
ビーム(至)とビーム關を生ずる。逆反射器σGはビー
ム(ハ)と平行の方向に移動することができる(第1図
の矢印参照)。     □混合偏光器lはビームにお
よび田の平行で重複している部分を混合して、相似の偏
光の構成部分をもったこれらビームの各々、すなわちビ
ーム−および(財)を供給する。これらの相似偏光ビー
ムのおよび(財)は光電検出器−で混合されて周波数f
cを有する電気信号−を生ずる。光電検出器−は二乗可
変検出特性を有する。他の図面で示されるように、位相
計/アキュムレータ缶は信号@および信号−を使用して
、干渉計面の長さの変化し得る光路の長さの変化に相当
する出力信号(イ)をだす。
測定信号−の周波数は式 (式中、foは基準信号■の周波数であり、Vは可動逆
反射器の速度であり、このVは運動がビーム分割器■の
方向に向う時は正でありビーム分割器@から離れ去る時
は負であり、χは測定ビーム(42の波長である) で与えられる。
可動逆反射器(至)の変位に比例する出力■は測定信号
間と基準信号■との間の周波数差を積分することによっ
て導かれる。
上記の減算した周波数の積分はそれらの間のサイクル毎
を基準とする位相差の和と等しい。
第2図は位相計/アキュムレーターのブロック構成図を
図式で示す。正弦波の測定信号−は方形波発生器(至)
によって、!J8図80に詳細に示されている方形波測
定信号−に変換される。正弦波の基準信号(至)は方形
波発生器(至)によって、第3図3為に詳細に示されて
いる方形波基準信号(至)に変換さ換される。信号■は
次に三角波発生器(財)によって、第3図3bに詳細に
示されている三角波基準信号@に変換される。信号■は
高速度アナログ−ディジタル変換器−によって測定信号
口の各サイクル毎にサンプリングされる〔第3図3bお
よび第3図3c〕。
アナログ−ディジタル変換器−のディジタル出力(財)
はサンプリング時の基準信号の位相に比例する。
位相差出力節は位相差計算機(至)によってアナログ−
ディジタル変換4曽のディジタル出力(財)と記憶レジ
スターに保たれていた相当する前のサイクル出力−とか
ら導かれる。位相差出力−は各サンプリング時の基準信
号■と測定信号−との間の位相差の測度である。例えば
、第3図に於てサンプル(i)の瞬間における位相差出
力■は試料(i)−試料(i−1) によって導かれる。
測定信号の各サイクル毎に計算された位相差−はアキュ
ムレータ■の内容に加算される。位相差の和であるアキ
ュムレータ(ハ)の出力−は可動逆反射器■の変位に比
例する。測定された変位dは式(式中、Nはアキュムレ
ータ(至)の出力■であり、天は測定ビーム(転)の波
長であり、mはアナログ−デ4ジタル変換器關のビット
数である)で与えられる。
で与えられる。
例えば7ビットのアナログ−デ4ジタル変換器關を使用
すると測定分解能はλ/508であり、昏斡#干渉計固
有の分解能ム/2よりも高い。
Bagley他の米国特許3,656.853(197
2年4月8日)に記載された測定系では測定分解能をλ
/4 以上に増加するために基準周波数と測定周波数の
双方に所望の係数を乗じており、そのため可動逆反射器
に許される最高速度が減小している。
すなわち、選択される分解能が高ければ高い程、許容さ
れる最高速度は低い。
対照的に、測定分解能がアナログ−ディジタル変換器−
のビット数で決まる本発明に於ては、可動逆反射器の許
容される最高速度の減小を必要とすることなく高い測定
分解能を維持することができる。
さらに、Zeeman分割レーザー源を使用して達成さ
れる制限された周波数差に対立するものとしての、ビー
ム四とビームωとの間の比較的高い周波数差の使用は可
動逆反射器σeの実質的に高い速度における本発明の測
定能力を高める。
その上、本発明におけるビームにとビームωの間の周波
数差を発生させるための発振器■の使用はその周波数か
らの基準信号@の発生を可能にしそして上述のBagl
ey他の米国特許に記載された系で必要とされる第二の
光混合器を不必要にする。
以上開示した本発明の具体例を要約すると次の通りであ
る。すなわち、本発明のヘテロダイン干渉計システムで
は光源(1Gからの単一の安定周波数直線偏光レーザー
人力ビーム(1g+を使用し、該ビームα印は該ビーム
0秒を、偏光型干渉計(至)に供給される前は周波数が
基準信号周波数だけ相違する一対の直交偏光されたビー
λ/401およびωに変換するための、発振器■からの
周波数の安定した電気的基準信号■とともに音響光学装
置IItr2IJに供給される。
混合偏光器Iはビーム−および(至)をそれらが干渉計
σeを透過した後に混合し、混合されたビーム霞および
−は光電検出器−に供給されそこで電気的測定信号(6
[11をだすのに使用される。この電気的測定他号画は
位相計/アキュムレータ關で基準信号勃とともに加工さ
れて測定信号−と基準信号■との間のサイクル毎の基準
での位相差の和である出力信号■を出す。位相計/アキ
ュムレータ轍はアナログ−ディジタル変換器−と前のサ
イクル用の記憶レジスター■を包含しており、測定分解
能はアナログ−ディジタル変換器(へ)のビット数によ
って決まる。
(発明の効果) 本発明の主たる利点は、(1)測定分解能が増加するこ
と、(2)迅速に変化する長さあるいは光学的長さを測
定する能力、(3)一つの光混合器しか必要としないこ
と、および(4)広範囲のレーザー源を使用し得ること
にある。
本発明の好ましい具体化を開示したが、特許請求の範囲
に記載した本発明の範囲を逸脱することなく自明の変更
を行うことができることは言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す概略図、IJ2図は本
発明の一実施例の電子工学処理のブロック構成図、第3
図3a〜3Cはそれぞれ本発明で測定を行うのに使用さ
れる信号の説明図である。 α1・・・光源、■・・・ビーム、α乃・・・ビーム生
成光学素子、αe・・・仕切り箱、0ト・・入力ビーム
、A・・・A−0装置、■・・・高周波発振器、■・・
・基準電気信号、(至)・・・方形波基準信号、(至)
・・・出力増幅器、(至)・・・電気出力、14G(転
)・・・ビーム、(財)・・・ビーム、−・・・ビーム
、ω・・・ビーム、@・・・ビーム、−・・・ビーム、
(至)・・・ビーム、ω・・・混合偏光器、−・・・ビ
ーム、―・・・ビーム、―・・・光電検出器、田・・・
測定信号、■・・・方形波測定信号、−・・・位相計/
アキュムレータ、囮・・・干渉計、聞・・・偏光ビーム
分割器、σ滲・・・逆反射器、(至)・・・可動逆反射
器、ffal ffl・・・方形波発生器、(イ)・・
・出力信号、(2)・・・三角波発生器、■・・・三角
波基準信号、(ハ)・・・アナログ−ディジタル変換器
、(財)・・・ディジタル出力、(至)・・・前のサイ
クル出力、田・・・位相差計算機、(資)・・・位相差
出力、關・・・アキュムレータ、(色・・・記憶レジス
タ。 FIG、2 fgl−og

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、第一の周波数を有する、直線偏光された安定な単一
    周波数の光入力ビームを供給するための光源;第二の周
    波数を有する、周波数の安定した基準電気信号を供給す
    るための手段;前記入力ビームを、周波数が相互に前記
    基準信号の第二周波数だけ相違する所定の光周波数を有
    する一対の直交偏光ビームに変換するための、前記入力
    ビーム供給手段と前記基準信号供給手段とに結合した音
    響光学的手段;干渉測定用出力ビームを供給するための
    、前記音響光学的手段に結合しており前記一対の直交偏
    光ビームの一つが通過する長さの固定した光路と前記一
    対の直交偏光ビームの他の一つが通過する長さの変動す
    る光路とを有する手段;前記干渉測定用出力ビームを混
    合するための、前記干渉測定用出力ビーム供給手段に結
    合した手段;前記の混合された干渉測定用出力ビームか
    ら電気的測定信号を供給するための、前記混合手段に結
    合した手段;および、前記干渉測定用出力ビーム供給手
    段内の長さの変動する光路の長さの変化に基づく前記基
    準信号と前記測定信号との間の位相差に基づく出力信号
    を供給するための、前記測定信号供給手段と前記基準信
    号供給手段とに結合した手段;を備えてなるヘテロダイ
    ン干渉計システム。 2、干渉測定用出力ビーム供給手段が干渉計であり、混
    合手段が干渉測定用出力ビームを、該ビームが該干渉計
    を通過した後に混合する、特許請求の範囲第1項記載の
    ヘテロダイン干渉計システム。 3、干渉計が偏光型干渉計から成る、特許請求の範囲第
    2項記載のヘテロダイン干渉計システム。 4、偏光型干渉計が一対の直交配置逆反射器と該反射器
    と光学的に心を合わせた偏光ビーム分割器とから成る、
    特許請求の範囲第3項記載のヘテロダイン干渉計システ
    ム。 5、一対の直交偏光ビームが共線的であり実質的に強度
    が等しい、特許請求の範囲第4項記載のヘテロダイン干
    渉計システム。 6、一対の直交偏光ビームが共線的であり実質的に強度
    が等しい、特許請求の範囲第1項記載のヘテロダイン干
    渉計システム。 7、光源がレーザー源から成り、入力ビームがレーザー
    ビームである、特許請求の範囲第5項記載のヘテロダイ
    ン干渉計システム。 8、基準信号供給手段が周波数の安定した高周波発振器
    から成る、特許請求の範囲第7項記載のヘテロダイン干
    渉計システム。 9、基準信号供給手段が、さらに前記発振器と音響光学
    的手段との間に電気的に結合された該音響光学的手段を
    駆動するための電力増幅器を備えてなる、特許請求の範
    囲第8項記載のヘテロダイン干渉計システム。 10、レーザーがヘリウム・ネオンガスレーザーから成
    る、特許請求の範囲第9項記載のヘテロダイン干渉計シ
    ステム。 11、レーザーがダイオードレーザーから成る、特許請
    求の範囲第9項記載のヘテロダイン干渉計システム。 12、光源がさらに、入力ビームを供給するための、前
    記ダイオードレーザーと結合したビーム生成光学素子を
    備えてなる、特許請求の範囲第11項記載のヘテロダイ
    ン干渉計システム。 13、偏光ビーム分割器が、一対の直交偏光ビームの透
    過ビームと反射ビームを供給するために、入射平面に偏
    光ベクトルを有する光を完全に透過させ入射平面に垂直
    な偏光ベクトルを有する光を完全に反射する、特許請求
    の範囲第9項記載のヘテロダイン干渉計システム。 14、一対の逆反射器の一方は偏光ビーム分割器に関し
    て固定されており、他の一方は偏光ビーム分割器に関し
    て直交偏光ビーム対の透過ビームと平行の方向に移動し
    得る、特許請求の範囲第13項記載のヘテロダイン干渉
    計システム。 15、混合手段が、電気的測定信号供給手段に同様な偏
    光成分を有する一対の混合された干渉測定用出力ビーム
    を供給するための混合偏光器から成る、特許請求の範囲
    第14項記載のヘテロダイン干渉計システム。 16、電気的測定信号供給手段が光電検出器から成る、
    特許請求の範囲第15項記載のヘテロダイン干渉計シス
    テム。 17、光電検出器が二乗可変検波特性を有する、特許請
    求の範囲第16項記載のヘテロダイン干渉計システム。 18、出力信号供給手段が位相計/アキュムレータ手段
    から成る、特許請求の範囲第17項記載のヘテロダイン
    干渉計システム。 19、出力信号供給手段が位相計/アキュムレータ手段
    から成る、特許請求の範囲第16項記載のヘテロダイン
    干渉計システム。 20、電気的測定信号が式 fc=fo+(2v/λ) (式中、foは基準信号の周波数であり、vは可動逆反
    射器の速度であつてビーム分割器に向う動きをする時は
    正でありビーム分割器から離れ去る動きをする時は負で
    あり、λは一対の直交偏光ビームの一方をビーム分割器
    を透過させることによつて導かれた測定ビームの波長で
    ある) で定義される周波数fcを有する、特許請求の範囲第1
    9項記載のヘテロダイン干渉計システム。 21、電気的測定信号が式 fc=fo+(2v/λ) (式中、foは基準信号の周波数であり、vは可動逆反
    射器の速度であつてビーム分割器に向う動きをする時は
    正でありビーム分割器から離れ去る動きをする時は負で
    あり、λは一対の直交偏光ビームの一方をビーム分割器
    を透過させることによつて導かれた測定ビームの波長で
    ある) で定義される周波数fcを有する、特許請求の範囲第1
    8項記載のヘテロダイン干渉計システム。 22、位相計/アキュムレータ手段が測定信号と、可動
    逆反射器の変位に比例する出力信号を供給するための基
    準信号との間の周波数差を積分するための手段から成る
    、特許請求の範囲第20項記載のヘテロダイン干渉計シ
    ステム。 23、積分手段が測定信号と基準信号との間の位相差を
    サイクル毎を基準として加算するための手段から成る、
    特許請求の範囲第20項記載のヘテロダイン干渉計シス
    テム。 24、サイクル毎の位相差加算手段が、サンプリング時
    の基準信号の位相に比例するディジタル出力信号を供給
    するための、測定信号供給手段と基準信号供給手段とに
    結合したアナログ→ディジタル変換手段から成る、特許
    請求の範囲第23項記載のヘテロダイン干渉システム。 25、位相差加算手段がさらに、アナログ→ディジタル
    変換手段によつて測定信号の各サイクル毎にサンプリン
    グされる三角基準信号を周波数の安定した基準信号から
    発生させるための、アナログ→ディジタル変換手段と基
    準信号供給手段との間に結合された三角波発生手段から
    成る、特許請求の範囲第24項記載のヘテロダイン干渉
    システム。 26、位相差加算手段がさらに、アナログ→ディジタル
    変換手段の相当する前のサイクル出力を記憶するための
    、アナログ→ディジタル変換手段出力に結合された記憶
    レジスタを備えてなる、特許請求の範囲第25項記載の
    ヘテロダイン干渉計システム。 27、位相差加算手段がさらに、基準信号と測定信号と
    の間の各サンプリング時における位相差の測度でありデ
    ィジタル出力信号と記憶レジスタに記憶された相当する
    前のサイクル出力とから導かれる位相差出力信号を供給
    するための、アナログ→ディジタル変換手段出力と記憶
    レジスタとに結合された位相差計算機手段から成る、特
    許請求の範囲第26項記載のヘテロダイン干渉計システ
    ム。 28、位相差加算手段がさらに、位相差の和であつて式 d=Nλ/[4(2^m−1)] (式中、Nはアキュムレータ手段の出力であり、λは測
    定ビームの波長であり、mはアナログ→ディジタル変換
    手段のビット数であり、λ/[4(2^m−1)]は系
    の測定分解能である) で定義される可動逆反射器の測定変位dに比例する出力
    信号をだす、測定信号の各サイクル毎に計算された位相
    差を加算するための、位相差計算機手段に結合されたア
    キュムレータ手段を備えてなる、特許請求の範囲第27
    項記載のヘテロダイン干渉計システム。 29、アナログ→ディジタル変換手段が7ビットのアナ
    ログ→ディジタル変換機から成り、測定分解能がλ/5
    08である、特許請求の範囲第28項記載のヘテロダイ
    ン干渉計システム。 30、光源がレーザー源から成り、入力ビームがレーザ
    ービームである、特許請求の範囲第1項記載のヘテロダ
    イン干渉計システム。 31、基準信号供給手段が周波数安定発振器から成る、
    特許請求の範囲第30項記載のヘテロダイン干渉計シス
    テム。 32、基準信号供給手段がさらに、音響光学手段を駆動
    するための、発振器と音響光学手段との間に電気的に結
    合された電力増幅器から成る、特許請求の範囲第31項
    記載のヘテロダイン干渉計システム。 33、干渉計が偏光型干渉計から成る、特許請求の範囲
    第30項記載のヘテロダイン干渉計システム。 34、偏光型干渉計が一対の直交配置された逆反射器と
    該反射器と光学的に心を合わせた偏光ビーム分割器とか
    ら成る、特許請求の範囲第33項記載のヘテロダイン干
    渉計システム。 35、一対の逆反射器の一方が偏光ビーム分割器に関し
    て固定されており、他の一方は偏光ビーム分割器に関し
    て直交偏光ビーム対の透過ビームと平行の方向に移動し
    得る、特許請求の範囲第34項記載のヘテロダイン干渉
    計システム。 36、電気的測定信号が式 fc=fo+2v/λ (式中、foは基準信号の周波数であり、vは可動逆反
    射器の速度であつてビーム分割器に向う動きをする時は
    正でありビーム分割器から離れ去る動きをする時は負で
    あり、λは一対の直交偏光ビームの一方をビーム分割器
    を透過させることによつて導かれた測定ビームの波長で
    ある) で定義される周波数fcを有する、特許請求の範囲第3
    5項記載のヘテロダイン干渉計システム。 37、出力信号供給手段が測定信号と、可動逆反射器の
    変位に比例する出力信号を供給するための基準信号との
    間の周波数差を積分するための手段から成る、特許請求
    の範囲第36項記載のヘテロダイン干渉計システム。 38、積分手段が測定信号と基準信号との間の位相差を
    サイクル毎の基準で加算するための手段から成る、特許
    請求の範囲第37項記載のヘテロダイン干渉計システム
    。 39、サイクル毎の位相差加算手段が、サンプリング時
    の基準信号の位相に比例するディジタル出力信号を供給
    するための、測定信号供給手段と基準信号供給手段とに
    結合されたアナログ→ディジタル変換手段から成る、特
    許請求の範囲第38項記載のヘテロダイン干渉計システ
    ム。 40、位相差加算手段がさらに、アナログ→ディジタル
    変換手段によつて測定信号の各サイクル毎にサンプリン
    グされる三角基準信号を周波数の安定した基準信号から
    発生させるための、アナログ→ディジタル変換手段と基
    準信号供給手段との間に結合された三角波発生手段から
    成る、特許請求の範囲第39項記載のヘテロダイン干渉
    計システム。 41、位相差加算手段がさらに、アナログ→ディジタル
    変換手段の相当する前のサイクル出力を記憶するための
    、アナログ→ディジタル変換手段出力に結合された記憶
    レジスタから成る、特許請求の範囲第40項記載のヘテ
    ロダイン干渉計システム。 42、位相差加算手段がさらに、アナログ→ディジタル
    変換手段の相当する前のサイクル出力を記憶するための
    、アナログ→ディジタル変換手段出力に結合された記憶
    レジスターから成る、特許請求の範囲第39項記載のヘ
    テロダイン干渉計システム。 43、位相差加算手段がさらに、基準信号と測定信号と
    の間の各サンプリング時における位相差の測度でありデ
    ィジタル出力信号と記憶レジスタに記憶された相当する
    前のサイクル出力とから導かれる位相差出力信号を供給
    するための、アナログ→ディジタル変換手段出力と記憶
    レジスタとに結合された位相差計算機手段から成る、特
    許請求の範囲第42項記載のヘテロダイン干渉計システ
    ム。 44、位相差加算手段がさらに、位相差の和であつて式 d=Nλ/[4(2^m−1)] (式中、Nはアキュムレータ手段の出力であり、λは測
    定ビームの波長であり、mはアナログ→ディジタル変換
    手段のビット数であり、λ/[4(2^m−1)]は系
    の測定分解能である) で定義される可動逆反射器の測定変位dに比例する出力
    信号を出す、測定信号の各サイクル毎に計算された位相
    差を加算するための、位相差計算機手段に結合されたア
    キュムレータ手段から成る、特許請求の範囲第43項記
    載のヘテロダイン干渉計システム。 45、アナログ→ディジタル変換手段が7ビットのアナ
    ログ→ディジタル変換機から成り、測定分解能がλ/5
    08である、特許請求の範囲第44項記載のヘテロダイ
    ン干渉計システム。 46、位相差加算手段がさらに、基準信号と測定信号と
    の間のサンプリング時における位相差の測度でありディ
    ジタル出力信号と記憶レジスタに記憶された相当する前
    のサイクル出力とから導かれる位相差出力信号を供給す
    るための、アナログ→ディジタル変換手段出力と記憶レ
    ジスタとに結合された位相差計算機手段から成る、特許
    請求の範囲第41項記載のヘテロダイン干渉計システム
    。 47、位相差加算手段がさらに、位相差の和であつて式 d=Nλ/[4(2^m−1)] (式中、Nはアキュムレータ手段の出力であり、λは測
    定ビームの波長であり、mはアナログ→ディジタル変換
    手段のビット数であり、λ/[4(2^m−1)]は系
    の測定分解能である) で定義される可動逆反射器の測定変位dに比例する出力
    信号を出す、測定信号の各サイクル毎に計算された位相
    差を加算するための、位相差計算機手段に結合されたア
    キュムレータ手段から成る、特許請求の範囲第46項記
    載のヘテロダイン干渉計システム。 48、アナログ→ディジタル変換手段が7ビットのアナ
    ログ→ディジタル変換機から成り、測定分解能がλ/5
    08である、特許請求の範囲第47項記載のヘテロダイ
    ン干渉計システム。 49、干渉測定用出力ビーム供給手段が偏光型干渉計か
    ら成る、特許請求の範囲第1項記載のヘテロダイン干渉
    計システム。 50、偏光型干渉計が一対の直交配置逆反射器と該反射
    器と光学的に心を合わせた偏光ビーム分割器とから成る
    、特許請求の範囲第49項記載のヘテロダイン干渉計シ
    ステム。 51、一対の逆反射器の一方は偏光ビーム分割器に関し
    て固定されており、他の一方は偏光ビーム分割器に関し
    て直交偏光ビーム対の通過ビームと平行の方向に移動し
    得る、特許請求の範囲第50項記載のヘテロダイン干渉
    計システム。 52、電気的測定信号が式 fc=fo+(2v/λ) (式中、foは基準信号の周波数であり、vは可動逆反
    射器の速度であつてビーム分割器に向う動きをする時は
    正でありビーム分割器から離れ去る動きをする時は負で
    あり、λは一対の直交偏光ビームの一方をビーム分割器
    を透過させることによつて導かれた測定ビームの波長で
    ある) で定義される周波数fcを有する、特許請求の範囲第5
    1項記載のヘテロダイン干渉計システム。 53、位相計/アキュムレータ手段が測定信号と、可動
    逆反射器の変位に比例する出力信号を供給するための基
    準信号との間の周波数差を積分するための手段から成る
    、特許請求の範囲第52項記載のヘテロダイン干渉計シ
    ステム。 54、積分手段が測定信号と基準信号との間の位相差を
    サイクル毎の基準で加算するための手段から成る、特許
    請求の範囲第53項記載のヘテロダイン干渉計システム
    。 55、サイクル毎の位相差加算手段が、サンプリング時
    の基準信号の位相に比例するディジタル出力信号を供給
    するための、測定信号供給手段と基準信号供給手段とに
    結合されたアナログ→ディジタル変換手段から成る、特
    許請求の範囲第54項記載のヘテロダイン干渉計システ
    ム。 56、位相差加算手段がさらに、アナログ→ディジタル
    変換手段の相当する前のサイクル出力を記憶するための
    、アナログ→ディジタル変換手段出力に結合された記憶
    レジスタから成る、特許請求の範囲第55項記載のヘテ
    ロダイン干渉計システム。 57、位相差加算手段がさらに、基準信号と測定信号と
    の間の各サンプリング時における位相差の測度でありデ
    ィジタル出力信号と記憶レジスタに記憶された相当する
    前のサイクル出力とから導かれる位相差出力信号を供給
    するための、アナログ→ディジタル変換手段出力と記憶
    レジスタとに結合された位相差計算機手段から成る、特
    許請求の範囲第56項記載のヘテロダイン干渉計システ
    ム。 58、位相差加算手段がさらに、位相差の和であつて式 d=Nλ/[4(2^m−1)] (式中、Nはアキュムレータ手段の出力であり、λは測
    定ビームの波長であり、mはアナログ→ディジタル変換
    手段のビット数であり、λ/[4(2^m−1)]は系
    の測定分解能である) で定義される可動逆反射器の測定変位dに比例する出力
    信号を出す、測定信号の各サイクル毎に計算された位相
    差を加算するための、位相差計算機手段に結合されたア
    キュムレータ手段から成る、特許請求の範囲第57項記
    載のヘテロダイン干渉計システム。
JP61053505A 1985-03-12 1986-03-11 ヘテロダイン干渉計システム Pending JPS61207903A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/710,928 US4688940A (en) 1985-03-12 1985-03-12 Heterodyne interferometer system
US710928 1985-03-12

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS61207903A true JPS61207903A (ja) 1986-09-16

Family

ID=24856096

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61053505A Pending JPS61207903A (ja) 1985-03-12 1986-03-11 ヘテロダイン干渉計システム

Country Status (4)

Country Link
US (1) US4688940A (ja)
EP (1) EP0194941B1 (ja)
JP (1) JPS61207903A (ja)
DE (2) DE194941T1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0489507A (ja) * 1990-07-31 1992-03-23 Okuma Mach Works Ltd 変位検出装置

Families Citing this family (72)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4817101A (en) * 1986-09-26 1989-03-28 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Heterodyne laser spectroscopy system
US4905244A (en) * 1986-09-26 1990-02-27 United States Department Of Energy Heterodyne laser spectroscopy system
DE3707331A1 (de) * 1987-03-07 1988-09-15 Zeiss Carl Fa Interferometer zur messung von optischen phasendifferenzen
CH678108A5 (ja) * 1987-04-28 1991-07-31 Wild Leitz Ag
US4777825A (en) * 1987-07-15 1988-10-18 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Stabilized reference surface for laser vibration sensors
US4807997A (en) * 1987-11-12 1989-02-28 Zygo Corporation Angular displacement measuring interferometer
US4787747A (en) * 1987-11-13 1988-11-29 Zygo Corporation Straightness of travel interferometer
JPH01167607U (ja) * 1988-05-16 1989-11-24
JP2808136B2 (ja) * 1989-06-07 1998-10-08 キヤノン株式会社 測長方法及び装置
GB8926574D0 (en) * 1989-11-24 1990-01-17 Renishaw Plc Laser interferometer
US5109362A (en) * 1990-10-22 1992-04-28 Shell Oil Company Remote seismic sensing
US5374991A (en) * 1991-03-29 1994-12-20 Gradient Lens Corporation Compact distance measuring interferometer
US5249030A (en) * 1991-12-06 1993-09-28 Zygo Corporation Method and apparatus for determining the position of a moving body and the time of the position measurement
US5327216A (en) * 1992-09-18 1994-07-05 Shell Oil Company Apparatus for remote seismic sensing of array signals using side-by-side retroreflectors
US5317383A (en) * 1992-09-18 1994-05-31 Shell Oil Company Array retroreflector apparatus for remote seismic sensing
US5289434A (en) * 1992-09-18 1994-02-22 Shell Oil Company Retroreflector apparatus for remote seismic sensing
AT399222B (de) * 1992-10-19 1995-04-25 Tabarelli Werner Interferometrische einrichtung zur messung der lage eines reflektierenden objektes
US5408318A (en) * 1993-08-02 1995-04-18 Nearfield Systems Incorporated Wide range straightness measuring stem using a polarized multiplexed interferometer and centered shift measurement of beam polarization components
BE1007876A4 (nl) * 1993-12-17 1995-11-07 Philips Electronics Nv Stralingsbron-eenheid voor het opwekken van een bundel met twee polarisatierichtingen en twee frequenties.
US5404222A (en) * 1994-01-14 1995-04-04 Sparta, Inc. Interferametric measuring system with air turbulence compensation
US5638396A (en) * 1994-09-19 1997-06-10 Textron Systems Corporation Laser ultrasonics-based material analysis system and method
DE19528676C2 (de) * 1995-08-04 1997-05-22 Zeiss Carl Jena Gmbh Interferometeranordnung zur absoluten Distanzmessung
US5663793A (en) * 1995-09-05 1997-09-02 Zygo Corporation Homodyne interferometric receiver and calibration method having improved accuracy and functionality
DE19542490C1 (de) * 1995-11-15 1997-06-05 Leica Ag Elektro-optisches Meßgerät für absolute Distanzen
USH1937H1 (en) * 1996-02-29 2001-02-06 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Laser barometer
US5767972A (en) * 1996-06-04 1998-06-16 Zygo Corporation Method and apparatus for providing data age compensation in an interferometer
US5838485A (en) * 1996-08-20 1998-11-17 Zygo Corporation Superheterodyne interferometer and method for compensating the refractive index of air using electronic frequency multiplication
US5764362A (en) * 1996-08-20 1998-06-09 Zygo Corporation Superheterodyne method and apparatus for measuring the refractive index of air using multiple-pass interferometry
US5991033A (en) * 1996-09-20 1999-11-23 Sparta, Inc. Interferometer with air turbulence compensation
US5682240A (en) * 1996-09-24 1997-10-28 Zygo Corporation Interferometric measurements with multiple light sources
US5724136A (en) * 1996-10-15 1998-03-03 Zygo Corporation Interferometric apparatus for measuring motions of a stage relative to fixed reflectors
US6219144B1 (en) 1997-10-02 2001-04-17 Zygo Corporation Apparatus and method for measuring the refractive index and optical path length effects of air using multiple-pass interferometry
US6327039B1 (en) 1998-02-23 2001-12-04 Zygo Corporation Interferometer and method for measuring the refractive index and optical path length effects of air
US6407816B1 (en) 1998-02-23 2002-06-18 Zygo Corporation Interferometer and method for measuring the refractive index and optical path length effects of air
US6552803B1 (en) 1998-02-24 2003-04-22 Kla-Tencor Corporation Detection of film thickness through induced acoustic pulse-echos
US6236507B1 (en) 1998-04-17 2001-05-22 Zygo Corporation Apparatus to transform two nonparallel propagating optical beam components into two orthogonally polarized beam components
US6261152B1 (en) 1998-07-16 2001-07-17 Nikon Research Corporation Of America Heterdoyne Thickness Monitoring System
US6229616B1 (en) 1999-04-01 2001-05-08 Trw Inc. Heterodyne wavefront sensor
US6198574B1 (en) 1999-08-27 2001-03-06 Zygo Corporation Polarization preserving optical systems
US6201609B1 (en) 1999-08-27 2001-03-13 Zygo Corporation Interferometers utilizing polarization preserving optical systems
US6208677B1 (en) 1999-08-31 2001-03-27 Trw Inc. Diode array package with homogeneous output
US6597459B2 (en) 2000-05-16 2003-07-22 Zygo Corporation Data age adjustments
US6519042B1 (en) 2000-08-25 2003-02-11 Industrial Technology Research Institute Interferometer system for displacement and straightness measurements
US6727992B2 (en) * 2001-07-06 2004-04-27 Zygo Corporation Method and apparatus to reduce effects of sheared wavefronts on interferometric phase measurements
US6975406B2 (en) * 2001-08-02 2005-12-13 Zygo Corporation Glitch filter for distance measuring interferometry
US6807497B2 (en) * 2001-12-17 2004-10-19 Agilent Technologies, Inc. Laser measurement system with digital delay compensation
US6842254B2 (en) * 2002-10-16 2005-01-11 Fiso Technologies Inc. System and method for measuring an optical path difference in a sensing interferometer
US7327465B2 (en) * 2003-06-19 2008-02-05 Zygo Corporation Compensation for effects of beam misalignments in interferometer metrology systems
US7286240B2 (en) * 2003-06-19 2007-10-23 Zygo Corporation Compensation for geometric effects of beam misalignments in plane mirror interferometer metrology systems
GB2407155A (en) * 2003-10-14 2005-04-20 Univ Kent Canterbury Spectral interferometry method and apparatus
JP2005249794A (ja) * 2004-03-03 2005-09-15 Zygo Corp 干渉計および干渉計を使用するシステム
US7525665B2 (en) * 2004-05-11 2009-04-28 Renishaw Plc Polarising interferometer
WO2006014406A2 (en) 2004-06-30 2006-02-09 Zygo Corporation Interferometric optical assemblies and systems including interferometric optical assemblies
WO2006041984A2 (en) * 2004-10-06 2006-04-20 Zygo Corporation Error correction in interferometry systems
US20060285120A1 (en) * 2005-02-25 2006-12-21 Verity Instruments, Inc. Method for monitoring film thickness using heterodyne reflectometry and grating interferometry
US7339682B2 (en) * 2005-02-25 2008-03-04 Verity Instruments, Inc. Heterodyne reflectometer for film thickness monitoring and method for implementing
WO2006102234A2 (en) * 2005-03-18 2006-09-28 Zygo Corporation Multi-axis interferometer with procedure and data processing for mirror mapping
US7528961B2 (en) * 2005-04-29 2009-05-05 Zygo Corporation Compensation of turbulent effects of gas in measurement paths of multi-axis interferometers
US7826063B2 (en) * 2005-04-29 2010-11-02 Zygo Corporation Compensation of effects of atmospheric perturbations in optical metrology
US7545503B2 (en) * 2005-09-27 2009-06-09 Verity Instruments, Inc. Self referencing heterodyne reflectometer and method for implementing
WO2007064643A2 (en) * 2005-12-01 2007-06-07 Zygo Corporation Data age compensation with avalanche photodiode
WO2008061186A2 (en) * 2006-11-15 2008-05-22 Zygo Corporation Distance measuring interferometer and encoder metrology systems for use in lithography tools
WO2008073454A2 (en) * 2006-12-11 2008-06-19 Zygo Corporation Multiple-degree of freedom interferometer with compensation for gas effects
US7894075B2 (en) * 2006-12-11 2011-02-22 Zygo Corporation Multiple-degree of freedom interferometer with compensation for gas effects
US7559701B2 (en) * 2007-03-19 2009-07-14 General Electric Company High-temperature pressure sensor and method of assembly
US7869056B2 (en) * 2007-10-02 2011-01-11 National Central University Linear displacement and tilting angle measuring device
NL2005309A (en) * 2009-10-13 2011-04-14 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method.
US8674965B2 (en) * 2010-11-18 2014-03-18 Microsoft Corporation Single camera display device detection
US9291918B2 (en) * 2011-03-08 2016-03-22 Nikon Corporation Light source assembly that generates heterodyne output beams
CN104655159B (zh) * 2015-02-10 2017-05-24 深圳大学 一种正交偏振激光器的传感器
US10386171B1 (en) 2018-04-04 2019-08-20 United States Of America, As Represented By The Secretary Of The Army Apparatus for a dynamic multi-axis heterodyne interferometric vibrometer
US20230366670A1 (en) 2022-05-10 2023-11-16 Zygo Corporation Data age reduction

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3656853A (en) * 1966-11-07 1972-04-18 Hewlett Packard Co Interferometric system
GB1195187A (en) * 1969-03-12 1970-06-17 Hewlett Packard Co Interferometric System.
US4188122A (en) * 1978-03-27 1980-02-12 Rockwell International Corporation Interferometer
EP0157227A3 (en) * 1984-03-16 1987-02-25 Hewlett-Packard Company Interferometer

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0489507A (ja) * 1990-07-31 1992-03-23 Okuma Mach Works Ltd 変位検出装置

Also Published As

Publication number Publication date
DE194941T1 (de) 1987-04-09
DE3687175T2 (de) 1993-05-27
EP0194941B1 (en) 1992-12-02
EP0194941A2 (en) 1986-09-17
US4688940A (en) 1987-08-25
DE3687175D1 (de) 1993-01-14
EP0194941A3 (en) 1988-06-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS61207903A (ja) ヘテロダイン干渉計システム
KR100328007B1 (ko) 다중패스 간섭법을 사용하여 공기의 굴절률을 측정하는 슈퍼헤테 로다인 방법 및 장치
KR100322938B1 (ko) 전자적인 주파수 체배수단을 사용하여 공기의 굴절률을 보상하는 방법 및 수퍼헤테로다인 간섭계 장치
US5724136A (en) Interferometric apparatus for measuring motions of a stage relative to fixed reflectors
CN108007572B (zh) 一种基于涡旋光束和萨格拉克干涉仪的旋转扰动测量系统
CN112526544B (zh) 基于光学频率梳干涉测量法进行三维成像的装置及方法
EP0271188A1 (en) Laser doppler displacement measuring apparatus
JPS62235506A (ja) 差動平面鏡干渉計システム
US4180328A (en) Interferometer which corrects for spurious vibrations
US4802764A (en) Differential plane mirror interferometer having beamsplitter/beam folder assembly
JPS62233708A (ja) 角度測定平面鏡干渉計システム
US5642195A (en) Dispersion interferometer using orthogonally polarized waves
CN112255640A (zh) 一种自适应调整光路的可变频差激光干涉测距装置
JPS62233704A (ja) 差動平面鏡干渉計システム
EP0920600B1 (en) Superheterodyne interferometer and method for compensating the refractive index of air using electronic frequency multiplication
EP0920599B1 (en) Measuring the effects of the refractive index of a gas using different multiple path interferometry ( superhetrodyne )
US20050264821A1 (en) Heterodyne laser interferometer using heterogenous mode helium-neon laser and super heterodyne phase measuring method
JP3626907B2 (ja) 干渉測定方法および装置
JP3254477B2 (ja) 高精度干渉距離計
Ikezawa et al. Measurement of absolute distance employing a tunable CW dye laser
Yang et al. Long-distance measurement applying two high-stability and synchronous wavelengths
Jeganathan et al. Demonstration of nanometer-level active metrology for long-range interferometric displacement measurements
Ma et al. Folded Fabry–Perot interferometer based on acousto-optic modulator tuned He–Ne laser source
JP3332366B2 (ja) 気体の固有光学特性を測定する装置および方法
Matsumoto Synthetic millimeter-wave signal generation for length measurement