JPS61205476A - ウエル形成装置 - Google Patents

ウエル形成装置

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JPS61205476A
JPS61205476A JP61049578A JP4957886A JPS61205476A JP S61205476 A JPS61205476 A JP S61205476A JP 61049578 A JP61049578 A JP 61049578A JP 4957886 A JP4957886 A JP 4957886A JP S61205476 A JPS61205476 A JP S61205476A
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JP
Japan
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plate
central body
agar
hollow
drilling
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Application number
JP61049578A
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English (en)
Inventor
アンジエロ・デ・ロス
ルイジ・カベナギ
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Gruppo Lepetit SpA
Original Assignee
Gruppo Lepetit SpA
Lepetit SpA
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C12BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
    • C12MAPPARATUS FOR ENZYMOLOGY OR MICROBIOLOGY; APPARATUS FOR CULTURING MICROORGANISMS FOR PRODUCING BIOMASS, FOR GROWING CELLS OR FOR OBTAINING FERMENTATION OR METABOLIC PRODUCTS, i.e. BIOREACTORS OR FERMENTERS
    • C12M25/00Means for supporting, enclosing or fixing the microorganisms, e.g. immunocoatings
    • C12M25/14Scaffolds; Matrices
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C12BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
    • C12MAPPARATUS FOR ENZYMOLOGY OR MICROBIOLOGY; APPARATUS FOR CULTURING MICROORGANISMS FOR PRODUCING BIOMASS, FOR GROWING CELLS OR FOR OBTAINING FERMENTATION OR METABOLIC PRODUCTS, i.e. BIOREACTORS OR FERMENTERS
    • C12M23/00Constructional details, e.g. recesses, hinges
    • C12M23/02Form or structure of the vessel
    • C12M23/12Well or multiwell plates

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  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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  • Bioinformatics & Cheminformatics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • Biochemistry (AREA)
  • Sustainable Development (AREA)
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  • Biotechnology (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
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  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Genetics & Genomics (AREA)
  • Clinical Laboratory Science (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Apparatus Associated With Microorganisms And Enzymes (AREA)
  • Automatic Analysis And Handling Materials Therefor (AREA)
  • Perforating, Stamping-Out Or Severing By Means Other Than Cutting (AREA)
  • Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
  • Diaphragms For Electromechanical Transducers (AREA)
  • Body Structure For Vehicles (AREA)
  • Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ゼラチン状培養基1例えば、寒天基培地を含
有する皿(dishes)または平板(platea)
、例えば、微生物学的培養およびアッセイのために使用
する普通の皿または平板の中に所望の数のウェルを形成
することができる装置に関する。
本発明の装置は、制限された数の簡単な操作で所望の数
のウェルを同時に形成することができる。ウェルは寒天
または同様なコンシステンシーの他のゼラチン状マトリ
ックス(以後、便宜上「寒天」と呼ぶ)の中に、寒天の
全深さを貫通する中空のステンレス鋼の孔あけ装置の切
取り作用によって同時に形成される。こうして中空の孔
あけ装置の末端の中を満たす寒天のプラグ(plug)
は、吸引(真空)の適用により除去されかつ反対の室の
中に集められる0次いで、寒天の中にウェル(we l
 l)が形成された皿または平板は、そのまま使用され
るか、あるいは使用する時まで適当に貯蔵することがで
きる。
寒天または同様なマトリックス上の試薬および基質の拡
散の基づく広範な種類のアッセイおよび分析の方法は知
られている0例えば、伝統的に広く使用されている型の
アッセイは、未知の微生物による抗生物質の生産に、あ
るいは既知の抗生物質の微生物学的活性に関する。一般
に、これらの方法はアッセイすべき抗生物質に感受性の
微生物を使用し、前記試験有機体を、皿または平板を充
填するか、あるいは充填のために使用される栄養培地の
中で生長させる0次いで、試験物質の適当な溶液を平板
上の培地の表面上に配置し、そして、必要なインキュベ
ーション後、試験物質により生成される阻止ゾーンの直
径を測定し、そして抗生物質の濃度の関係づける。
実質的には、より最近、免疫拡散技術として普通に知ら
れている抗原−抗体反応および抗原−抗体複合体の形成
に基づく評価法に、同一の技術が首尾よく応用されてき
ている。
試験物質を皿または平板(すなわち、寒天基培養基を含
有する支持体)上に配置するために1通常2つの方法が
用いられる;一方の方法は皿または平板の中の寒天の表
面上に貯蔵器を配置することを含み、この貯蔵器は試験
物質の溶液を含有するか、あるいは含有する傾向があり
、前記貯蔵器は、例えば、試験物質の溶液の中に浸漬さ
れた紙のディスク、あるいは中空のシリンダーであり、
試験物質の溶液を含有する傾向がある;他方の方法は寒
天の中に予備形成されたウェルの中に試験物質の溶液を
配置することである。
実験室規模で、後者のウェルは単一の中空の孔あけ装置
の手動的使用により通常得られる。この技術は、中空の
孔あけ装置から手動的に寒天プラグを除去しなくてはな
らないとう欠点を含む多くの欠点に悩まされる。
本発明は1皿または平板の中に含有される寒天または同
様なコンシステンシーの物質の既暦の中に所望の数のウ
ェルを同時に孔あけし、形成する寒天プラグを同時に除
去することができる装置。
とくに実験室規模の使用に適する装置に関する。
このような装置の使用から誘導される利点は、当業者に
とって直ちに明らかとなるであろう。
このような利点は1次のものを包含する:a) 実施が
容易でありかつ迅速であること。
b) 孔あけされたウェルの寸法およびそれらの相対的
距離が均一であること。
C) 実験室規模で多数の試料を分析するとき、必要な
予備的手順においてかなりの時間が節約されること。
第1図は、固定化に従う装置の実施態様の1例を示す:
この装置は、 ■) 中空の孔あけ装置を有する中央本体、中空の孔あ
け装置は前もって決定したを寸法を有しかつ互いに前も
って決定した距離で位置する(例えば、第1図の細部1
b、第2図および第4B図を参照)、 II )  皿または平板の中に含有される寒天から除
去される寒天プラグを吸引する手段、この手段は室(例
えば、第3図の平面図に詳しく示されている室)から成
り、この室は真空系に接続されており、そして除去され
る寒天プラグのための収集部分(第3図において細部3
bで例示される)を含む。
m) 中央本体のためのベースプレートおよび支持およ
び収容手段(第4A図において細部4aで例示される)
、 IV) 中央本体を下降によって作動させかつ自動的に
上昇位置に戻る手段(例えば、第4A図においてレバー
4cおよびばね4bにより表わされる手段)、 ■) 皿または平板をベースプレート上で位置決めして
中央本体より下の正しい位置にそれを維持する手段(位
置決め装置)(4d)(例えば、第4A図に例示されて
い る)。
を含む。
第1図、第2図および第3図を参照すると、中央本体の
寸法は、利用する皿または平板の寸法に依存し、そして
前もって選択して数の前もって決定した寸法の中空の孔
あけ装置を前もって決定した距離で収容するようなもの
である。寒天の中にウェルを孔あけために使用する中空
の孔あけ装置の寸法、とくに中空の孔あけ装置の末端部
分の寸法は、皿または平板の寸法に依存するばかりでな
く、かつまたそれが含有する試験物質(一般に溶液また
は懸濁液)の量に依存する:このような寸法は1例えば
、inm〜20mm、好ましくは5〜9mmの範囲から
選択することができる。好ましくは、中空の孔あけ装置
を収容する中央本体は円錐台形の内部のキャビティ(第
3図に示されているような)を有し、そのキャビティの
中に中空の孔あけ装置の近接部分(3C)の導管が流出
(debouch)L、その中央のキャビティは、相対
的カバー(例えば、第5図に5bで示すような)により
閉じられた後、除去された寒天プラグのための吸引およ
び収集室として作用することができる。
中央本体は、また、吸引手段に接続するための取り今け
(3d)を有する。この吸引手段は一般に通常の中央真
空系または真空ポンプであり、そして寒天プラグをそれ
らの形成点から吸引しかつそれらを収集室の中に吸込む
ために十分な吸引力を提供することができる。一般に、
実験室において利用できる真空値(5〜50mm)Ig
)はこの目的に適切である。いずれの場合においても、
必要な真空の値は、この装置により同時に孔あけされる
ウェルの数および寸法に依存し、そして本発明の開示の
結果に基づく予備実験により容易に決定できる。
中央本体はプラスチック材料(例えば、PvC)から有
利に構成することができるが、金属を使用することもで
きる。
中空の孔あけ装置は、他方において、ステンレス鋼から
構成され、そしてそれらの末端のブレードは精密に鋭利
にされている。ウェルは一般に円形であることを必要と
するので、中空の孔あけ装置は概して円形の断面を有す
る。好ましい型の中空の孔あけ装置は、末端部分が第6
図に示されている孔あけ装置である。
第1図に図解されているようにかつ第4A図に詳細に示
されているように、中央本体はスクリューカバー(sc
rew−cover)および真空密封リングにより閉じ
られている。スクリューカバーは、好ましくは透明であ
って、吸引室の内部が不都合なく自由に視的に検査でき
るようにする。スクリューカバーは、好ましくは、プラ
スチック、例えば、プレキシグラスから作られるが、ま
たガラスから作ることもできる。有利には、スクリュー
カバーはそのへりにデッドホール(dead  hol
e)を有し、これにカバー開放手段を適合させることが
でき(第5図の細部5bおよび5cにより例示される)
そうでなければ問題となりうるスクリューカバーを開く
ことをこれらの手段は協動してなすことができる。
カバー開放手段、第5図の細部5c参照、作動レバー(
4c)のポールグリップから便利には形成されており、
このポールグリップは適当な長さの棒を有し、そして前
記レバーの中に収容されうるような大きさをもち、そし
てレバーは少なくともその最初の部分において、結局中
空である。
実験室規模で使用する実施態様に関する本発明の面に従
えば、中央本体はレバーにより作動され、レバーは押下
げられるとき中央本体を下降させ、こうして中空の孔あ
け装置の切取り末端は寒天に貫通して前もって決定した
寸法のウェルを孔あけする。レバーが戻り、こうして中
央本体がその上昇した(または静止した)位置に戻るこ
とは、この場合において、機械的ばねの作用により実施
することができ、このばねは、作動レバーの押下げによ
り圧縮された後、伸びる。
第1図は本発明の前述の装置の静止位置を示し、そして
第7図はその下降した。すなわち。
「使用」位置を示す。
本発明の装置のより孔あけされたウェルを有する皿また
は平板の1例は、第8図に示されている。
実験室規模の応用にとくに好ましい装置は、構成成分: a、 透明なプラスチックのスクリューカバー、 b、   pvcの中央本体、前記本体はステンレス鋼
の中空の孔あけ装置(6)、中空の吸引系(真空ポンプ
)へ接続するための取り付け(f)および内部の中空の
室を有し、前記室は寒天プラグを収集するための選択的
なゾーン(吸引シリンダー)をその下部に有する、 C1中空のステンレス鋼の孔あけ装置、前記中空の孔あ
け装置はそれらの端で前記寒天と接触して、前記平板の
底に前記寒天を残さないでかつ不均一性を含まない落差
でウェルを孔あけするために適した形状をも つ、 dl ベースプレート e、 前記皿または平板を位置決めする手段(位置決め
装置)。
f、 真空取り付け、 g、 前記中央本体を作動後上昇させて、前記皿または
平板の位置決めおよび除去を古島とするばね、 h、 必要なとき、前記中央本体をロックおよびアンロ
ックしてそれを除去するハンドル、 I、 前記中央本体の下降および上昇の手段のための支
持軸、 ■、 前記カバーを開放して前記吸引シリンダーの清澄
を可能とするアームを有するボールグリップ作動レバー
、 m、 前記カバー開放線を有するポールグリップ、 を含む第1図の装置である。
当業者にとって明らかなように、上に例示した装置の多
くの構成成分は機部的に同等の構成成分の部分と置換す
ることができる0例えば、前述の機械的ばねは同等の技
術的手段1例えば、液圧手段または空気手段で置換する
ことができる。
下降アームは同様に小規模の使用に適する装置の実施態
様のための単なる便利な手段であが、他の同等のシステ
ムは同一の機能を満足することができ、そしてまた、こ
の装置を工業的規模で使用するとき、例えば、毎日反復
される操作の数が、モーターを介して中央本体を下降さ
せ、そしてそれをベースプレートより上の上昇位置に戻
すための装置を作動させる電気的に制御されるシステム
を必要とするようなものであるとき、好ましいことが明
らかとされうるであろう、このような場合において1皿
または平板を位置決めしかつ処理された平板を集める作
業は、好ましくは自動化され、そして電子システムによ
り制御される。
皿または平板(その例は第4A図の細部4bで示されて
いる)は正しい方向における皿または平板の心合わせを
促進するので、ウェルの位置は前もって確立される0皿
または平板の位置決め装置の寸法および形状は、当然、
使用する皿または平板の寸法および形状に依存する。好
ましくは、前記位置決め装置はプラスチック材料または
金属から構成され、そしてベースプレートが必要に応じ
て適当に置換されうるような方法で、ベースプレートお
よび/または支持軸へ固定される。
所定の型の皿または平板の処理を意図する本発明の装置
の実施態様について、前記位置決め装置は取外し可能の
代わりにベースプレートへ固定することもできる。
前述のように、ウェルの数および大きさは皿または平板
の大きさに依存するばかりでなく、また皿または平板が
使用される特定の用途に依存し、そして、究極的に、使
用する試薬の量および拡散性質に依存する。
円形の皿または平板について、単一の系列のウェルを円
周に沿ってへりから十分な距離で孔あけすることが一般
に好ましいので、中央本体はまた円周に沿って配置され
た中空の孔あけ装置の支持するようまものであろう(例
えば、第2図に示されている)、特定の用途において要
求される場合、中央のウェルまたはより内方に配置され
たウェルの円のための、あるいは他の配置のための設備
を設けることができ、この場合中央本体の形状寸法およ
びその中の中空の孔あけ装置の位置を変更させる。四角
形の皿または平板の場合において、いくつかの列で配置
されたウェルを用いて操作することが一般に好ましい、
このような場合において、中央本体は円の代わりに列で
配置された中空の孔あけ装置を支持するであろう。
本発明の装置を使用する処理に適当な皿または平板の寸
法は、市場で入手可能なものを包含する。
皿または平板の例は直径が35mm−145mmの円形
の皿または平板であり、そして四角形の皿または平板の
例は長さが100mm〜230mmの側面を有する四角
形の皿または平板である。
本発明の中央本体または装置の大きさより大きいが、複
数の本発明の中央本体または装置を使用する四角形の皿
または平板は、また、本発明の前記装置のもとで連続的
に位置決めすることによって処理することもできる。
【図面の簡単な説明】
第1図は1本発明に従う装置の1つの実施態様を示す。 第2図、第3図および第4B図は、中央本体を示す。 第4A図は、中央本体を支持しかつ収容する手段を示す
。 第5図は1本発明の装置の主要な部分を示す。 第6図は、中空のステンレス鋼の孔あけ装置の垂直部分
を示す。 第7図は、本発明の装置の使用位置を示す。 第8図は、本発明の装置のより孔あけされたウェルを有
する皿または平板の1例を示す。 a 透明なプラスチックのスクリューカバーb  pv
cの中央本体 C中空のステンレス鋼の孔あけ装置 d ベースプレート e 位置決め手段 f 真空取り付け g ばね h ハンドル l 支持軸 1 ポールグリップ作動レバー m ボールグリップ lb  細部 3a キャビティ 3b 下のゾーン、細部 3C近接部分 3d 取り付け 4a 細部 4b ばね 4cレバー 4d 位置決め装置 Sb  8部 5c 細部 特許出願人 グルポ・レペチット・ニス・ビー・FIG
、 1 FIG、 2 FIG、3 FIG、 4A FIG、 4B

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、中央の本体を含み、前記本体は前もって選択した数
    の中空の孔あけ装置を有し、前記孔あけ装置は、皿また
    は平板上の寒天または同様なコンシステンシーの他の基
    剤層の中に形成すべきウェルに関して、前もって決定し
    た寸法を有しかつ互いに前もって決定した距離で位置し
    、前記寒天様基剤の中にウェルに孔あけした結果形成さ
    れる寒天プラグを前記平板から除去するために、ある力
    の吸引が前記中空の孔あけ装置に加えられる;そして前
    記中央本体を支持しかつ作動する手段を含み、前記手段
    は前記中央本体を前記皿または平板の寒天表面上へ下降
    させ、これにより前記中空の孔あけ装置の末端を孔あけ
    すべき前記表面の厚さ全体に貫通させる;そしてまたウ
    ェル孔あけ作業および各中空の孔あけ装置の末端からの
    寒天除去作業が完結したとき、前記中央本体を上昇位置
    に戻す手段を含むことを特徴とするゼラチン状マトリッ
    クスを含有する皿または平板の中に所望の数のウェルを
    同時に形成する装置。 2、前記皿または平板の中に含有されるマトリックスは
    寒天を基剤とする特許請求の範囲第1項記載の装置。 3、前記中央本体は第2図、第3図および第4B図に示
    されているものである特許請求の範囲第1項記載の装置
    。 4、第1図に示されているようなものである特許請求の
    範囲第1項記載の装置。 5、前記中央本体はキャビティ(3a)を表わし、前記
    キャビティの中に中空の孔あけ装置を有する導管の近接
    部分(3c)が流出し、前記キャビティ内において前記
    導管の出口のところに下のゾーン(3b)が存在し、前
    記ゾーンは室の中に吸引される寒天プラグを集めるため
    のものである特許請求の範囲第1項記載の装置。 6、前記中空のステンレス鋼の孔あけ装置は第6図に示
    す垂直部分を有する特許請求の範囲第1項記載の装置。 7、構成成分: I )前記中空の孔あけ装置を有する中央本体、前記中
    空の孔あけ装置は前もって決定した を寸法を有しかつ互いに前もって決定した 距離で位置する(例えば、第1図の細部1 b、第2図および第4B図を参照) II)前記皿または平板の中に含有される前記寒天から除
    去される寒天プラグを吸引する手 段、前記手段は室(例えば、第3図の平面 図に詳しく示されている室)から成り、前 記室は真空系に接続されており、そして除 去される寒天プラグのための収集部分(第 3図において細部3bで例示される)を含 む、 III)前記中央本体のためのベースプレートおよび支持
    および収容手段(第4A図において 細部4aで例示される)、 IV)前記中央本体を下降によって作動させかつ自動的に
    上昇位置に戻る手段(例えば、第 4A図においてレバー4cおよびばね4b により表わされる手段) V)前記皿または平板を前記ベースプレート上で位置決
    めして前記中央本体より下の正し い位置に前記皿または平板を維持する手段 (位置決め装置)(4d)(例えば、第4 A図に例示されている)、 からなる特許請求の範囲第1項記載の装置。 8、主要構成部分が第5図に示されているようなもので
    ある特許請求の範囲第7項記載の装置。 9、構成成分: a、透明なプラスチックのスクリューカ バー、 b、PVCの中央本体、前記本体はステンレス鋼の中空
    の孔あけ装置(c)、中空の吸引 系(真空ポンプ)へ接続するための取り付 け(f)および内部の中空の室を有し、前 記室は寒天プラグを収集するための選択的 なゾーン(吸引シリンダー)をその下部に 有する、 c、中空のステンレス鋼の孔あけ装置、前記中空の孔あ
    け装置はそれらの端で前記寒天と 接触して、前記平板の底に前記寒天を残さ ないでかつ不均一性を含まない落差でウェ ルを孔あけするために適した形状をも つ、 d、ベースプレート e、前記皿または平板を位置決めする手段(位置決め装
    置)、 f、真空取り付け、 g、前記中央本体を作動後上昇させて、前記皿または平
    板の位置決めおよび除去を容易と するばね、 h、必要なとき、前記中央本体をロックおよびアンロッ
    クしてそれを除去するハンド ル、 i、前記中央本体の下降および上昇の手段のための支持
    軸、 l、前記カバーを開放して前記吸引シリンダーの清澄を
    可能とするアームを有するボール グリップ作動レバー、 m、前記カバー開放棒を有するボールグリップ、 からなることを特徴とする特許請求の範囲第7項記載の
    装置。
JP61049578A 1985-03-08 1986-03-08 ウエル形成装置 Pending JPS61205476A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
IT8521051U IT8521051V0 (it) 1985-03-08 1985-03-08 Formatore di pozzetti.
IT21051B/85 1985-03-08

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS61205476A true JPS61205476A (ja) 1986-09-11

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ID=11175984

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61049578A Pending JPS61205476A (ja) 1985-03-08 1986-03-08 ウエル形成装置

Country Status (6)

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EP (1) EP0193883B1 (ja)
JP (1) JPS61205476A (ja)
AT (1) ATE91147T1 (ja)
CA (1) CA1292435C (ja)
DE (1) DE3688620D1 (ja)
IT (1) IT8521051V0 (ja)

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