JPS61203542U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS61203542U JPS61203542U JP8682985U JP8682985U JPS61203542U JP S61203542 U JPS61203542 U JP S61203542U JP 8682985 U JP8682985 U JP 8682985U JP 8682985 U JP8682985 U JP 8682985U JP S61203542 U JPS61203542 U JP S61203542U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- etched
- introduction pipe
- mounting shelf
- chamber
- Prior art date
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- Pending
Links
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- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 3
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
第１図は本考案の一実施例を示すエツチング装
置の断面図、第２図Ａ，Ｂは第１図のエツチング
装置の支持台及びカセツト付近を拡大して示す正
面図、第３図は第１図の真空チヤンバ内に装填さ
れる載置棚の要部断面図、第４図は従来のドライ
エツチング装置を示す概略図である。 １１……真空チヤンバ、１４……支持台、１９
……切欠部、２０……ストツパ機構、２２……押
圧レバ、２３……ストツパ棒、２４……カセツト
、２５……載置棚、２６……アルミニウム製の遮
蔽板、２９……ガス導入管、３０……排出管、３
３……被エツチング材（ウエハ）。
置の断面図、第２図Ａ，Ｂは第１図のエツチング
装置の支持台及びカセツト付近を拡大して示す正
面図、第３図は第１図の真空チヤンバ内に装填さ
れる載置棚の要部断面図、第４図は従来のドライ
エツチング装置を示す概略図である。 １１……真空チヤンバ、１４……支持台、１９
……切欠部、２０……ストツパ機構、２２……押
圧レバ、２３……ストツパ棒、２４……カセツト
、２５……載置棚、２６……アルミニウム製の遮
蔽板、２９……ガス導入管、３０……排出管、３
３……被エツチング材（ウエハ）。
Claims (1)
- 真空チヤンバに、反応性ガスをプラズマ励起に
より生成したエツチングガスを導入するガス導入
管と該チヤンバ内のガスを排気する排気管を設け
、かつ前記ガス導入管の途中に該導入管を流通す
る反応性ガスを励起するためのプラズマ発生器を
介装した構造のドライエツチング装置において、
一側面が解放された被エツチング材を多段に載置
する載置棚及び該載置棚の前記被エツチング材の
間に設けられた各被エツチング材を仕切る遮蔽板
から構成され、前記チヤンバ内に搬送されるカセ
ツトと、前記チヤンバ内に配置され、前記カセツ
トが設置される回転自在な支持台と、この支持台
に傾動自在に設けられ、前記カセツトが該支持体
上に設置された時にカセツトの載置棚の解放側面
に直立するストツパ機構とを具備したことを特徴
とするドライエツチング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8682985U JPS61203542U (ja) | 1985-06-11 | 1985-06-11 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8682985U JPS61203542U (ja) | 1985-06-11 | 1985-06-11 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61203542U true JPS61203542U (ja) | 1986-12-22 |
Family
ID=30638487
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8682985U Pending JPS61203542U (ja) | 1985-06-11 | 1985-06-11 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61203542U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997015073A1 (fr) * | 1995-10-17 | 1997-04-24 | Asm Japan K.K. | Appareil de traitement de semi-conducteurs |
-
1985
- 1985-06-11 JP JP8682985U patent/JPS61203542U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997015073A1 (fr) * | 1995-10-17 | 1997-04-24 | Asm Japan K.K. | Appareil de traitement de semi-conducteurs |