JPS61198133A - 導波路型光スイツチ - Google Patents

導波路型光スイツチ

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JPS61198133A
JPS61198133A JP3797885A JP3797885A JPS61198133A JP S61198133 A JPS61198133 A JP S61198133A JP 3797885 A JP3797885 A JP 3797885A JP 3797885 A JP3797885 A JP 3797885A JP S61198133 A JPS61198133 A JP S61198133A
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JP
Japan
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light
optical switch
type optical
waveguide type
substrate
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JP3797885A
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Ippei Sawaki
一平 佐脇
Minoru Kiyono
實 清野
Hiroki Nakajima
啓幾 中島
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光通信システムを構成するデバイスに係り、特
に電気光学基板に形成された光導波路と、光導波路に近
接して設けられた電極とで構成される導波路型光スイッ
チに関する。
光通信技術の普及に伴って光通信システムを構成するデ
バイスの、信頼性向上や小形化、低価格化等に対する要
求が増大しており、それを実現するための手段として量
産性に冨んだデバイスの開発が望まれている。
例えばリチュウムナイオベート(いNb03)等の電気
光学基板に、チタン(Ti)等を拡散して形成された光
導波路と、光導波路に近接して設けられた電極とで構成
される光スィッチは、小形で駆動電圧が低くしかも商速
動作が口」能で集積化が容易である。rAJち小形化、
低価格化等を実現できる量産性に富んだ光スィッチであ
り、信頼性の向上が期待されている。
〔従来の技術〕
第2図は導波路型光スイッチの従来例を不す平向図であ
る。
図においてLiNbO3からなる電気光学基&1の片肉
に、Tiを拡散せしめてX字状に交叉する光導波路2を
形成し、光導波路2に近接させて電a83a、3bを設
けている。しかし光導波路2の上に直接電極3aを形成
すると電極3aによって光が吸収され、光スィッチにお
ける光の損失が増大するために、電気光学基&1の表向
を絶縁性材料(A12133または5io2)からなる
バッファ層4で被覆し、バッファ層4の上に電極3a、
3bを形成している。
かかる導波路型光スイッチにおいて光暉彼路2の入射端
2aから入射した光は、光導波路2を通過する途中で分
岐され出射端2bまたは2cから出射するが、電極3a
と3bの間に駆動電圧が印加されている場合と印加され
ていない場合とでは、出射端2bまたは2cに分岐され
る分岐比が異なる。したがうて電M!3 aと3bの間
に印加する駆動電化を投入・切断することによって、光
導波路2の入射端2aから入射した光が出射する方向を
、出射端2bから出射端2cへ、或いは出射端2cから
出射端2bへ切り換えることができる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
バッファ層をAl2O3,5it)2等の絶縁性材料で
形成した上記の導波路型光スイッチにおいて、電気光学
基板と絶it層との界面における絶縁性が、バッファ層
の絶縁性に比べて不十分な場合に電極に駆動電圧を印加
すると、当初は光の分岐比が変わり出射方向が切り換わ
るが、光の分岐比が時間の経過と共に元の状態に復旧す
る方向に移行する、1)CFドリフトいう現象が発生し
やすいという問題がある。
〔問題点を解決するための手段〕
上記問題点は電気光学基板に形成された光導波路と、光
導波路に近接して設けられた複数個の電極と、電気光学
基板とそれぞれの電極との間に介在せしめるバッファ層
からなり、導電性材料と絶縁性材料を合成してなる材料
でバッファ層を形成した本発明になる導波路型光スイッ
チによって解決される。
〔作用〕
実験によれば電気光学基板の上に直接電極を形成すると
、光導波路の上にある電極によって光が吸収され光の損
失が増大する。しかし電気光学基板の上に直接電極を形
成した、導波路型光スイッチにおいてはl)Cドリフト
現象は発生しない。そこで光の吸収が増大しない範囲の
導電性材料と、絶縁性材料を合成してなる材料でバッフ
ァ層を形成することによって、光の損失を増大させるこ
となくDCドリフト現象の発生を抑制することがl1l
lJ能になり、導波路型光スイッチの信頼性を一層向上
させることができる。
(実施例」 以下添付図により不発明の実施例について説明する。第
1図は本発明になる導波路型光スイッチの一実施例を示
す平面図であり、第2図と同し対象物は同一記号で表し
ている。
図においてLiNbO3からなる電気光学基板1の片面
に、Tiを拡散せしめてX字状に交叉する光導波路2を
形成し、光4波路2に近接させて電極3a、3bを設け
ている。そして光の吸収を増大させない程度の導電性材
料(Snl12)と、絶縁性材料(Si02)を合成し
てなる材料から形成された、バッファFi5を電気光学
基板1と電極3aの間、および電気光学基板1と電極3
bの間のそれぞれに介在させている。
このように光の吸収が増大しない範囲の導電性材料と、
絶縁性材料を合成してなる材料でバッファ層を形成する
ことによって、光の損失を増大させることなくDCドリ
フト現象の発生を抑制することが可能になり、導波路型
光スイッチの信頼性を一層向上させることができる。
〔発明の効果〕
上述の如く本発明によれば量産性に富み−FR伽頼性が
向上した導波路型光スイッチを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明になる導波路型光スイッチの一実施例を
示す平面図、 第2図は導波路型光スイッチの従来例を示す平面図、 である。図において lは電気光学基板、 2は光導波路、 3a、3bは電極、 5はバッファ層、 をそれぞれ表す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 電気光学基板に形成された光導波路と、該光導波路に近
    接して設けられた複数個の電極と、該電気光学基板とそ
    れぞれの該電極との間に介在せしめるバッファ層からな
    り、導電性材料と絶縁性材料を合成してなる材料で該バ
    ッファ層を形成したことを特徴とする導波路型光スイッ
    チ。
JP3797885A 1985-02-27 1985-02-27 導波路型光スイツチ Expired - Fee Related JPH063507B2 (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6373162A (ja) * 1986-09-16 1988-04-02 Nec Corp 導波型光・音響スペクトラムアナライザの製造方法
US5404412A (en) * 1991-12-27 1995-04-04 Fujitsu Limited Optical waveguide device
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EP1109050A1 (en) * 1999-12-15 2001-06-20 Ngk Insulators, Ltd. Travelling wave optical modulators
WO2009022360A1 (en) 2007-08-14 2009-02-19 Selex Sistemi Integrati S.P.A. Low switching voltage, fast time response digital optical switch

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US8326096B2 (en) 2007-08-14 2012-12-04 Selex Sistemi Integrati S.P.A. Low switching voltage, fast time response digital optical switch

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