JPS6119800A - 連続電気メツキにおけるメツキ液濃度制御方法 - Google Patents
連続電気メツキにおけるメツキ液濃度制御方法Info
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- JPS6119800A JPS6119800A JP14034584A JP14034584A JPS6119800A JP S6119800 A JPS6119800 A JP S6119800A JP 14034584 A JP14034584 A JP 14034584A JP 14034584 A JP14034584 A JP 14034584A JP S6119800 A JPS6119800 A JP S6119800A
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- Japan
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- metal
- tank
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は金属ストリップの連続電気メッキにおけるメッ
キ液濃度制御方法に関し、特にメッキ液循環タンク内の
金属イオン濃度が所定の濃度になるように金属溶解槽へ
の金属投入量を制御する方法に関する。
キ液濃度制御方法に関し、特にメッキ液循環タンク内の
金属イオン濃度が所定の濃度になるように金属溶解槽へ
の金属投入量を制御する方法に関する。
（従来の技術）
従来、金属ストリップの連続電気メッキにおけるメッキ
液濃度制御は、たとえば特公昭５３１゜２４８９７号公
報に見られるように、メッキ液循環タンクと金属溶解槽
の間にメッキ液を循環させ、その循環流量を調節したシ
、オン−オフすることによシ行われている。そして、こ
の際のメッキ液循環タンクへの金属イオンの供給量は、
メッキ電流と時間との積からメッキによる金属イオンの
消費量を算出し、またメッキ液循環タンク内の金属イオ
ン濃度の目標濃度との差から金属ストリップによるメッ
キ液の持出し量を算出し、これら金属イオンの消費量に
見合う量を金属イオンの必要供給量として、流量調節弁
を制御していた。
液濃度制御は、たとえば特公昭５３１゜２４８９７号公
報に見られるように、メッキ液循環タンクと金属溶解槽
の間にメッキ液を循環させ、その循環流量を調節したシ
、オン−オフすることによシ行われている。そして、こ
の際のメッキ液循環タンクへの金属イオンの供給量は、
メッキ電流と時間との積からメッキによる金属イオンの
消費量を算出し、またメッキ液循環タンク内の金属イオ
ン濃度の目標濃度との差から金属ストリップによるメッ
キ液の持出し量を算出し、これら金属イオンの消費量に
見合う量を金属イオンの必要供給量として、流量調節弁
を制御していた。
（発明が解決しようとする問題点）
ところで、この種のメッキ液濃度制御は、金属イオン濃
度測定のためのサンプリング測定なト（Ｄ所要時間、流
量調節の遅れ時間などがあるので、当然一定周期毎のサ
ンプリング制御になるが、上記のごとき従来の方法では
、メッキ付着量目標値の変更あるいはス） ＩＪツノの
寸法（板幅）や速度の変更があった場合に、サンプリン
グ周期の間でメッキ液濃度が大きく変化してしまい、目
標濃度の回Ｃｔ上下するハンチングという現象を生じ、
目標濃度になかなか到達しなくなるという問題を有して
いた。本発明はかかる従来方法の問題点を解決し、所定
のメッキ品質を確保しつつ所定のメッキ液濃度となるよ
うに制御する方法を提供することを目的とするものであ
る。
度測定のためのサンプリング測定なト（Ｄ所要時間、流
量調節の遅れ時間などがあるので、当然一定周期毎のサ
ンプリング制御になるが、上記のごとき従来の方法では
、メッキ付着量目標値の変更あるいはス） ＩＪツノの
寸法（板幅）や速度の変更があった場合に、サンプリン
グ周期の間でメッキ液濃度が大きく変化してしまい、目
標濃度の回Ｃｔ上下するハンチングという現象を生じ、
目標濃度になかなか到達しなくなるという問題を有して
いた。本発明はかかる従来方法の問題点を解決し、所定
のメッキ品質を確保しつつ所定のメッキ液濃度となるよ
うに制御する方法を提供することを目的とするものであ
る。
（問題点を解決する九めの手段）
この目的を達成するための本発明方法は、メッキ槽とメ
ッキ液循環タンクと金属溶解槽と該金属溶解槽への金属
投入装置とを有し、前記メッキ液循環タンクと金属溶解
槽の間およびメッキ液循環タンクとメッキ槽の間にメッ
キ液を循環させる構成の連続電気メッキ設備におけるス
） ＩＪツブの電気メッキにおいて、 金属溶解槽内の金属量と金属溶解速度との関係式を予め
求めておき、現在の金属量と金属溶解速度とから一定時
間後の金属溶解槽内の金属量を予測算出し、この予測金
属量から前記関係式を用いて金属溶解速度を予測算出し
、一方メッキ液循環タンク内のメッキ液の金属イオン濃
度の目標値と実測値およびメッキ付着量とストリップ幅
とストリップ速度との積で定義されるメッキ速度の各要
因と金属溶解速度との関係式を予め求めておき、該関係
式を用いて一定時間後に目標イオン濃度になるに必要な
金属溶解速度を算出し、該必要金属溶解速度と前記予測
金属溶解速度との関係から金属溶解槽への金属投入速度
を設定することを特徴とする連続電気メッキにおけるメ
ッキ液濃度制御方法である。
ッキ液循環タンクと金属溶解槽と該金属溶解槽への金属
投入装置とを有し、前記メッキ液循環タンクと金属溶解
槽の間およびメッキ液循環タンクとメッキ槽の間にメッ
キ液を循環させる構成の連続電気メッキ設備におけるス
） ＩＪツブの電気メッキにおいて、 金属溶解槽内の金属量と金属溶解速度との関係式を予め
求めておき、現在の金属量と金属溶解速度とから一定時
間後の金属溶解槽内の金属量を予測算出し、この予測金
属量から前記関係式を用いて金属溶解速度を予測算出し
、一方メッキ液循環タンク内のメッキ液の金属イオン濃
度の目標値と実測値およびメッキ付着量とストリップ幅
とストリップ速度との積で定義されるメッキ速度の各要
因と金属溶解速度との関係式を予め求めておき、該関係
式を用いて一定時間後に目標イオン濃度になるに必要な
金属溶解速度を算出し、該必要金属溶解速度と前記予測
金属溶解速度との関係から金属溶解槽への金属投入速度
を設定することを特徴とする連続電気メッキにおけるメ
ッキ液濃度制御方法である。
（実施例及び発明の作用）
以下本発明を実施例に基づき詳細に説明する。
第１図は、本発明方法を鋼ストリップの連続電気亜鉛メ
ッキに適用した実施例における装置要部構成を示す図で
ある。図において、１は亜鉛溶解槽、２は沈澱槽、３は
循環タンク、４はメッキ槽、５は亜鉛投入装置、６はレ
ベル計、７は亜鉛投入量制御装置、８は速度計、９は設
定器（もしくは上位計算機）、１０．１１は演算器であ
る。
ッキに適用した実施例における装置要部構成を示す図で
ある。図において、１は亜鉛溶解槽、２は沈澱槽、３は
循環タンク、４はメッキ槽、５は亜鉛投入装置、６はレ
ベル計、７は亜鉛投入量制御装置、８は速度計、９は設
定器（もしくは上位計算機）、１０．１１は演算器であ
る。
上記装置構成において、亜鉛投入装置５の切出コンベア
から切シ出された亜鉛は亜鉛溶解槽１に投入される。亜
鉛溶解槽１には、循環タンク３内のメッキ液がポンプＰ
□によシ送入されていて、亜鉛溶解！１１に投入された
亜鉛はメッキ液と反応して亜鉛イオンを生成する。
から切シ出された亜鉛は亜鉛溶解槽１に投入される。亜
鉛溶解槽１には、循環タンク３内のメッキ液がポンプＰ
□によシ送入されていて、亜鉛溶解！１１に投入された
亜鉛はメッキ液と反応して亜鉛イオンを生成する。
この亜鉛イオン溶液は沈澱槽２に送給され、−緒に運ば
れた亜鉛粒を沈澱させた後、ポンプＰ２によシ循環タン
ク３に送給される。循環タンク３からメッキ槽４に亜鉛
イオン溶液が供給され、メッキ槽４内を通過する鋼ス）
ＩＪッ７’Ｓに亜鉛がメッキされる。このメッキによ
シメッキ槽４中の亜鉛イオン濃度は減少し、亜鉛イオン
濃度の減少したメッキ槽４中のメッキ液は循環タンク“
３に送出される。このようにして、亜鉛イオンの生成は
亜鉛溶解槽１で、メッキによる亜鉛イオンの消耗はメッ
キ槽４で行われる。このような電気メッキ設備における
メッキ液濃度制御において、本発明においては、ストリ
ップのメッキ速度、循環タンク内の亜鉛イオン濃度、亜
鉛溶解槽内の亜鉛量から、循環タンク内の亜鉛イオン濃
度が目標濃度範囲内となるための亜鉛投入装置からの必
要亜鉛投入速度を算出し、該亜鉛投入速度となるように
亜鉛投入装置からの亜鉛切出し量を制御するものでおる
。
れた亜鉛粒を沈澱させた後、ポンプＰ２によシ循環タン
ク３に送給される。循環タンク３からメッキ槽４に亜鉛
イオン溶液が供給され、メッキ槽４内を通過する鋼ス）
ＩＪッ７’Ｓに亜鉛がメッキされる。このメッキによ
シメッキ槽４中の亜鉛イオン濃度は減少し、亜鉛イオン
濃度の減少したメッキ槽４中のメッキ液は循環タンク“
３に送出される。このようにして、亜鉛イオンの生成は
亜鉛溶解槽１で、メッキによる亜鉛イオンの消耗はメッ
キ槽４で行われる。このような電気メッキ設備における
メッキ液濃度制御において、本発明においては、ストリ
ップのメッキ速度、循環タンク内の亜鉛イオン濃度、亜
鉛溶解槽内の亜鉛量から、循環タンク内の亜鉛イオン濃
度が目標濃度範囲内となるための亜鉛投入装置からの必
要亜鉛投入速度を算出し、該亜鉛投入速度となるように
亜鉛投入装置からの亜鉛切出し量を制御するものでおる
。
ここで必要亜鉛投入速度はつぎのようにして算出する。
いま、循環タンク内の亜鉛イオン濃度をｍｃｇ／ノ〕と
し、亜鉛溶解槽における亜鉛溶解速度をＷＦ ［、！ｉ
’／１ｎｉｎ］とし、ストリップへのメッキ速度をＭＰ
Ｃｇ／ｍ ｉ ｎ ］とすると、次式が成シ立っ。
し、亜鉛溶解槽における亜鉛溶解速度をＷＦ ［、！ｉ
’／１ｎｉｎ］とし、ストリップへのメッキ速度をＭＰ
Ｃｇ／ｍ ｉ ｎ ］とすると、次式が成シ立っ。
＆ｃ＝ ｊＬｏｏ−Ｆ・（ＭＰ−ＭＰ。） 十Ｇ・（Ｗ
Ｆ −ＭＰ ）・Ｔ−Ｈ・（ＷＦ −ＷＦ −ＭＰ＋Ｍ
Ｐｏ） Ｃ１ｉ／１１〕・・・■ここに、 ”ｃｏ ’前＠制御時の亜鉛イオン濃度計算値（または
実測値） Ｃ１／１〕 町。二前回制御時の亜鉛溶解速度（１７ｍ ｉ ｎ ］
野。、前回制御時のメッキ速度〔シｍｌｎ〕Ｔ ：制御
時間［ｍｊｎ、］ Ｆ、Ｇ、Ｈ：係数。亜鉛溶解槽、沈澱槽、循環タン久メ
ッキ槽の各液量および亜鉛溶解槽と循環タンク間の液流
量によりて定められる。
Ｆ −ＭＰ ）・Ｔ−Ｈ・（ＷＦ −ＷＦ −ＭＰ＋Ｍ
Ｐｏ） Ｃ１ｉ／１１〕・・・■ここに、 ”ｃｏ ’前＠制御時の亜鉛イオン濃度計算値（または
実測値） Ｃ１／１〕 町。二前回制御時の亜鉛溶解速度（１７ｍ ｉ ｎ ］
野。、前回制御時のメッキ速度〔シｍｌｎ〕Ｔ ：制御
時間［ｍｊｎ、］ Ｆ、Ｇ、Ｈ：係数。亜鉛溶解槽、沈澱槽、循環タン久メ
ッキ槽の各液量および亜鉛溶解槽と循環タンク間の液流
量によりて定められる。
また、メッキ速度ＭＰは、
野＝ｃ−ｗ−ｖ （、！ｉ’／ｍｉｎ〕−■ここに、
Ｃ：目標メッキ付着量 〔ｇ／ｒｎ２〕Ｗニストリップ
幅（ｍ ］ Ｖ：ストリップ速度Ｃｒｒｖ’ｍ ｉ ｎ ）で表わせ
る。
幅（ｍ ］ Ｖ：ストリップ速度Ｃｒｒｖ’ｍ ｉ ｎ ）で表わせ
る。
従って、現時刻から１分後に循環タンク内の亜鉛イオン
濃度が目標濃度顆になるようにするための亜鉛溶解速度
ＷＦ、は前記０式を変形した次式から求めることができ
る。
濃度が目標濃度顆になるようにするための亜鉛溶解速度
ＷＦ、は前記０式を変形した次式から求めることができ
る。
・・・■
さて、実際の操業において、前記■式で示すメッキ速度
が変化した場合、すなわち、目標メッキ付着量、ストリ
ップ幅、ストリップ速度のいづれが一つ以上が変更にな
った場合、前記０式にょシ必要な亜鉛投入速度背、を算
出する。また一定周期に循環タンク内の亜鉛イオン濃度
ａ。全測定し、目標濃度馳がら大きくはずれている場合
に、前記■式右辺の’ｅｏを前記測定濃度ａｃと置換し
て必要な亜鉛溶解速度豐、全算出する。ところで亜鉛溶
解槽内における亜鉛の溶解速度は、亜鉛溶解槽内の亜鉛
の量によって異なる。従って前記のようにして算出した
必要亜鉛溶解速度にもとづいて必要亜鉛投入速度を求め
るにあたシ、亜鉛溶解槽内の亜鉛の量と該亜鉛量のとき
の亜鉛溶解速度を予測し、この予測亜鉛溶解速度と前記
０式から算出した必要亜鉛投入速度誼を比較する必要が
ある。
が変化した場合、すなわち、目標メッキ付着量、ストリ
ップ幅、ストリップ速度のいづれが一つ以上が変更にな
った場合、前記０式にょシ必要な亜鉛投入速度背、を算
出する。また一定周期に循環タンク内の亜鉛イオン濃度
ａ。全測定し、目標濃度馳がら大きくはずれている場合
に、前記■式右辺の’ｅｏを前記測定濃度ａｃと置換し
て必要な亜鉛溶解速度豐、全算出する。ところで亜鉛溶
解槽内における亜鉛の溶解速度は、亜鉛溶解槽内の亜鉛
の量によって異なる。従って前記のようにして算出した
必要亜鉛溶解速度にもとづいて必要亜鉛投入速度を求め
るにあたシ、亜鉛溶解槽内の亜鉛の量と該亜鉛量のとき
の亜鉛溶解速度を予測し、この予測亜鉛溶解速度と前記
０式から算出した必要亜鉛投入速度誼を比較する必要が
ある。
本実施例では亜鉛溶解槽内の亜鉛の量な、Ｗ ＝Ｗ−訂
・ＤＴ＋ＷＦ・ＤＴ ・・・■ｐ
ｏ ｐ。
・ＤＴ＋ＷＦ・ＤＴ ・・・■ｐ
ｏ ｐ。
ここに、
Ｗ：ＤＴ分後の亜鉛の量Ｃ，Ｉｉ〕
Ｗ ：現在の亜鉛の量ＩＪ）
■ ；現在の亜鉛溶解速度［ｇ／ｍ１ｎ）］Ｏ
ＷＦ：現在の亜鉛投入速度［１９／ｍｌ ｎ ’：１と
して予測し、この予測亜鉛量Ｗ、から予じめ定めた関係
式 ％式％ を用いて亜鉛溶解速度の予測値Ｗｐを一定周期ＤＴ分（
例：１分）毎に求める。そしてＷＦ、 ≦ＷＦ。
して予測し、この予測亜鉛量Ｗ、から予じめ定めた関係
式 ％式％ を用いて亜鉛溶解速度の予測値Ｗｐを一定周期ＤＴ分（
例：１分）毎に求める。そしてＷＦ、 ≦ＷＦ。
の場合には、ｗＦｔに相当する亜鉛投入速度となるよう
に切出しコンベアからの切出し量を制御する。
に切出しコンベアからの切出し量を制御する。
ＷＦ ＞ＷＦｔの場合には亜鉛の切出しは行わず、Ｗ
Ｆ ≦ＷＦ、となったときに上記のように荀、相当の
切出し量とする。
Ｆ ≦ＷＦ、となったときに上記のように荀、相当の
切出し量とする。
前記亜鉛溶解速度の予測において、亜鉛溶解槽内の亜鉛
量がレベル計６で短かい周期で測定できる場合には実測
亜鉛量Ｗａを用いてもよいが、通常この種の測定器ズの
測定周期は長い（１時間以上）ので測定していない間は
０式で予測することが必要である。
量がレベル計６で短かい周期で測定できる場合には実測
亜鉛量Ｗａを用いてもよいが、通常この種の測定器ズの
測定周期は長い（１時間以上）ので測定していない間は
０式で予測することが必要である。
第２図は第１図の演算器１０における演算フローを示す
フローチャートであシ、第３図は第１図の演算器１１に
おける演算フローを示すフローチャートである。
フローチャートであシ、第３図は第１図の演算器１１に
おける演算フローを示すフローチャートである。
ＤＴ分（例：１分）後の亜鉛溶解槽亜鉛量と亜鉛溶解速
度の演算にあたっては、第２図のフローチャートに示す
ように、レベル計６によるレベル測定完了の場合、亜鉛
レベル測定値の上下限チェックを行い、しかる後、亜鉛
量実測値ｗ’６算出し、この実測亜鉛量ｗ、 １予測亜
鉛溶解速度罫、の計算に用いる。レベル計６による測定
未完了の場合、予測亜鉛量Ｗ、を０式で算出する。この
実測亜鉛量Ｗ、または予測亜鉛量Ｗ、によ月■式で予測
亜鉛溶解速度ｗ、′ｆｃ算出する。そして次のＤＴ分後
の計算のために亜鉛量と亜鉛溶解速度をＷ。とＷｐｏと
してメモリに記憶する。亜鉛投入装置からの亜鉛切出速
度の演算は、第３図のフローチャートに示すように、第
１図の速度計８から入力される速度実測値（Ｖ）と、設
定器９から入力されるス） ＩＪツブ幅（Ｗ）と目標メ
ッキ付着量（Ｃ）とから０式によシ、メッキ速度（ＭＰ
）を算出する。前回の亜鉛切出速度設定出力からの経過
時間（Ｔ）、メッキ速度（ＭＰ）、設定器９から入力さ
れる目標濃度（ａＯｔ）とから０式により目標濃度とな
るに必要な亜鉛溶解速度（ｗｔ）１算出する。そして前
記演算回路ｌＯで算出した予測亜鉛溶解速度（ＷＦ、）
と必要亜鉛溶解速度（ＷＦ ）を比較し、誼≦豐、の場
合には、ｔ ｐ 設定亜鉛切出速度（ＷＦ 、 ）として豐、に相当する
亜鉛投入速度となる切出速度を採用し、Ｗ、＞Ｗｔの場
合には、設定亜鉛切出速度（ＷＩ！ｌ）をＯにする。
度の演算にあたっては、第２図のフローチャートに示す
ように、レベル計６によるレベル測定完了の場合、亜鉛
レベル測定値の上下限チェックを行い、しかる後、亜鉛
量実測値ｗ’６算出し、この実測亜鉛量ｗ、 １予測亜
鉛溶解速度罫、の計算に用いる。レベル計６による測定
未完了の場合、予測亜鉛量Ｗ、を０式で算出する。この
実測亜鉛量Ｗ、または予測亜鉛量Ｗ、によ月■式で予測
亜鉛溶解速度ｗ、′ｆｃ算出する。そして次のＤＴ分後
の計算のために亜鉛量と亜鉛溶解速度をＷ。とＷｐｏと
してメモリに記憶する。亜鉛投入装置からの亜鉛切出速
度の演算は、第３図のフローチャートに示すように、第
１図の速度計８から入力される速度実測値（Ｖ）と、設
定器９から入力されるス） ＩＪツブ幅（Ｗ）と目標メ
ッキ付着量（Ｃ）とから０式によシ、メッキ速度（ＭＰ
）を算出する。前回の亜鉛切出速度設定出力からの経過
時間（Ｔ）、メッキ速度（ＭＰ）、設定器９から入力さ
れる目標濃度（ａＯｔ）とから０式により目標濃度とな
るに必要な亜鉛溶解速度（ｗｔ）１算出する。そして前
記演算回路ｌＯで算出した予測亜鉛溶解速度（ＷＦ、）
と必要亜鉛溶解速度（ＷＦ ）を比較し、誼≦豐、の場
合には、ｔ ｐ 設定亜鉛切出速度（ＷＦ 、 ）として豐、に相当する
亜鉛投入速度となる切出速度を採用し、Ｗ、＞Ｗｔの場
合には、設定亜鉛切出速度（ＷＩ！ｌ）をＯにする。
次に設定切出速度（Ｗ ）を、第１図の亜鉛投入量制御
装置７に設定出力する。そして次の一定時間（例えば１
５分）後の計算のため亜鉛イオン濃度、メッキ速度、亜
鉛溶解速度をそれぞれａｅｏ、 ＭＰｏ。
装置７に設定出力する。そして次の一定時間（例えば１
５分）後の計算のため亜鉛イオン濃度、メッキ速度、亜
鉛溶解速度をそれぞれａｅｏ、 ＭＰｏ。
瀞 としてメモリに記憶する。設定亜鉛切出速度の計算
は、一定時間毎（例えば１５分）あるいはメッキ付着量
目標値、ストリップ幅、ストリップ速度のいづれか一つ
でも変わった時点、あるいは亜鉛イオン濃度の測定毎に
実行される。
は、一定時間毎（例えば１５分）あるいはメッキ付着量
目標値、ストリップ幅、ストリップ速度のいづれか一つ
でも変わった時点、あるいは亜鉛イオン濃度の測定毎に
実行される。
かくして、一定の周期で、一定時間後にメッキ液循環タ
ンク内の亜鉛イオン濃度を目標値にすべき亜鉛溶解槽へ
の亜鉛投入速度が算出され、この亜鉛投入速度に対応し
た切出しコンベアの速度制御が行われて、メッキ液濃度
の予測制御が極めて効果的に行われる。また、（亜鉛投
入速度）×（切出周期）を亜鉛切出量として算出し、こ
の亜鉛切出量を亜鉛投入量制御装置７に設定することに
よシ、メッキ液濃度の予測制御を極めて効果的に行うこ
ともできる。
ンク内の亜鉛イオン濃度を目標値にすべき亜鉛溶解槽へ
の亜鉛投入速度が算出され、この亜鉛投入速度に対応し
た切出しコンベアの速度制御が行われて、メッキ液濃度
の予測制御が極めて効果的に行われる。また、（亜鉛投
入速度）×（切出周期）を亜鉛切出量として算出し、こ
の亜鉛切出量を亜鉛投入量制御装置７に設定することに
よシ、メッキ液濃度の予測制御を極めて効果的に行うこ
ともできる。
（発明の効果）
以上述べたごとく本発明方法はス）ＩＪ、／プの連続を
気メッキにおいてメッキ液濃度を所定の濃度範囲に保持
し、しかも適切々金属切出速度を算出し設定制御を行う
ことができる。
気メッキにおいてメッキ液濃度を所定の濃度範囲に保持
し、しかも適切々金属切出速度を算出し設定制御を行う
ことができる。
従って、所定のメッキ品質を確保しながら、最小限の金
属切出量を切出すことによりメッキ金属の原単位を向上
させることができる。
属切出量を切出すことによりメッキ金属の原単位を向上
させることができる。
第１図は本発明の実施例における装置構成を示す図、第
２図、第３図は本発明における演算フローの一例を示す
フローチャートである。 １：亜鉛溶解槽、 ２：沈澱槽、３：循環タンク
、 ４：メッキ槽、５：亜鉛投入装置、 ６：
レベル計、７：亜鉛投入量制御装置、 ８；速度計、 ９；設定器（もしくは上位計算機）、 １０．１に演算器。
２図、第３図は本発明における演算フローの一例を示す
フローチャートである。 １：亜鉛溶解槽、 ２：沈澱槽、３：循環タンク
、 ４：メッキ槽、５：亜鉛投入装置、 ６：
レベル計、７：亜鉛投入量制御装置、 ８；速度計、 ９；設定器（もしくは上位計算機）、 １０．１に演算器。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 メッキ槽とメッキ液循環タンクと金属溶解槽と該金属溶
解槽への金属投入装置とを有し、前記メッキ液循環タン
クと金属溶解槽の間およびメッキ液循環タンクとメッキ
槽の間にメッキ液を循環させる構成の連続電気メッキ設
備におけるストリップの電気メッキにおいて、 金属溶解槽内の金属量と金属溶解速度との関係式を予め
求めておき、現在の金属量と金属溶解速度とから一定時
間後の金属溶解槽内の金属量を予測算出し、この予測金
属量から前記関係式を用いて金属溶解速度を予測算出し
、一方メッキ液循環タンク内のメッキ液の金属イオン濃
度の目標値と実測値およびメッキ付着量とストリップ幅
とストリップ速度との積で定義されるメッキ速度の各要
因と金属溶解速度との関係式を予め求めておき、該関係
式を用いて一定時間後に目標イオン濃度になるのに必要
な金属溶解速度を算出し、該必要金属溶解速度と前記予
測金属溶解速度との関係から金属溶解槽への金属投入速
度を設定することを特徴とする連続電気メッキにおける
メッキ液濃度制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14034584A JPS6119800A (ja) | 1984-07-06 | 1984-07-06 | 連続電気メツキにおけるメツキ液濃度制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14034584A JPS6119800A (ja) | 1984-07-06 | 1984-07-06 | 連続電気メツキにおけるメツキ液濃度制御方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6119800A true JPS6119800A (ja) | 1986-01-28 |
| JPS6246640B2 JPS6246640B2 (ja) | 1987-10-02 |
Family
ID=15266665
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14034584A Granted JPS6119800A (ja) | 1984-07-06 | 1984-07-06 | 連続電気メツキにおけるメツキ液濃度制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6119800A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012224891A (ja) * | 2011-04-18 | 2012-11-15 | Nippon Steel Engineering Co Ltd | 錫充填装置および錫充填方法 |
-
1984
- 1984-07-06 JP JP14034584A patent/JPS6119800A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012224891A (ja) * | 2011-04-18 | 2012-11-15 | Nippon Steel Engineering Co Ltd | 錫充填装置および錫充填方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6246640B2 (ja) | 1987-10-02 |
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