JPS61180779A - パ‐フルオロアルキル‐アルキルチオ‐、‐スルフイニル‐あるいは‐スルホニル‐アルキレングリシジルエーテル類、これ等の製法およびこれ等の使用 - Google Patents
パ‐フルオロアルキル‐アルキルチオ‐、‐スルフイニル‐あるいは‐スルホニル‐アルキレングリシジルエーテル類、これ等の製法およびこれ等の使用Info
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- JPS61180779A JPS61180779A JP61016014A JP1601486A JPS61180779A JP S61180779 A JPS61180779 A JP S61180779A JP 61016014 A JP61016014 A JP 61016014A JP 1601486 A JP1601486 A JP 1601486A JP S61180779 A JPS61180779 A JP S61180779A
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
- C07D303/12—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms
- C07D303/18—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms by etherified hydroxyl radicals
- C07D303/20—Ethers with hydroxy compounds containing no oxirane rings
- C07D303/22—Ethers with hydroxy compounds containing no oxirane rings with monohydroxy compounds
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、次式１で表わされる新規なパーフルオロア
ルキル−アルキルチオ−１−スルフィニル−および−ス
ルホニル−アルキレングリシジルエーテル類に関する。
ルキル−アルキルチオ−１−スルフィニル−および−ス
ルホニル−アルキレングリシジルエーテル類に関する。
（式中、ＲｔはかＷＩＮＩＡ状あるいは分枝ＩＩ杖であ
って炭素原子数が３から１８迄のパーフルオロアルキル
基あるいは炭素原子数３から１８迄のパーフルオロアル
コキシパーフルオロアルキル Ｍｍ状あるいは分枝霧状であって炭素原子数が６迄の、
アルキレン基、カルボオキシアミドアルキレン基あるい
はスルホンアミドアルキレジ基であり、該アミド基の窒
素原子は置換されていないかあるいは低級アルキル基に
より置換されており、ｍは０、１あるいは２であり、Ｂ
は直鎖状あるいは分枝鎖状であって炭素原子数２から１
２迄のアルキレン基である．） この発明における低級アルキル基とは１から６迄の、好
ましくは１から４迄の炭素原子数を有するアルキル基を
意味する。
って炭素原子数が３から１８迄のパーフルオロアルキル
基あるいは炭素原子数３から１８迄のパーフルオロアル
コキシパーフルオロアルキル Ｍｍ状あるいは分枝霧状であって炭素原子数が６迄の、
アルキレン基、カルボオキシアミドアルキレン基あるい
はスルホンアミドアルキレジ基であり、該アミド基の窒
素原子は置換されていないかあるいは低級アルキル基に
より置換されており、ｍは０、１あるいは２であり、Ｂ
は直鎖状あるいは分枝鎖状であって炭素原子数２から１
２迄のアルキレン基である．） この発明における低級アルキル基とは１から６迄の、好
ましくは１から４迄の炭素原子数を有するアルキル基を
意味する。
好ましいＨｅはパーフルオロアルキル基である。
より好ましいＨｌは、Ｉ［鎖状のパーフルオロアルキル
基である．特に好ましいＲ−基は６から１２迄の炭素原
子数を有する。パーフルオロアルキル基類の混合物類が
しばしば有利である。
基である．特に好ましいＲ−基は６から１２迄の炭素原
子数を有する。パーフルオロアルキル基類の混合物類が
しばしば有利である。
甲は、好ましくは炭素原子数が２から６迄の、より好ま
しくは２かう４迄のａｍ状アルキレン基とされ、最も好
ましいものはエチレン基とされる。
しくは２かう４迄のａｍ状アルキレン基とされ、最も好
ましいものはエチレン基とされる。
ｍの好ましい値は０あるいは２である。
Ｒは、好ましくは直鎖状あるいは分枝鎖状の炭素原子数
２から６迄の、より好ましくは２から４迄のアルキレン
基とされる。最も好ましいＲは、直頻杖あるいは分枝鎖
状の炭素原子数３のアルキレン基である。
２から６迄の、より好ましくは２から４迄のアルキレン
基とされる。最も好ましいＲは、直頻杖あるいは分枝鎖
状の炭素原子数３のアルキレン基である。
式１の化合物は、一般的に知られている方法により製造
することが出来る。
することが出来る。
例えば、ｍｔＪ（ｏである式Ｉの化合物は、次式■で表
わされるメルカプタン類を Ｒｆ −Ｒ鳳−ＳＨ（ＩＩ） （この式■のＲ１およびＲ１が上記と同じ定ｌｉを有す
る。）次式ｍで表わされるアルケニルグリシジルエーテ
ル類 〔この弐■の口°が、式１のアルキレン基Ｒに対応する
炭素原子数２から１２迄のアルケニル基とされる。〕と
反応させて製造することが出来る。この反応は、例えば
アゾ型の遊離ラジカル触媒の如き、遊離ラジカル触媒の
存在下に都合よ〈実施される。
わされるメルカプタン類を Ｒｆ −Ｒ鳳−ＳＨ（ＩＩ） （この式■のＲ１およびＲ１が上記と同じ定ｌｉを有す
る。）次式ｍで表わされるアルケニルグリシジルエーテ
ル類 〔この弐■の口°が、式１のアルキレン基Ｒに対応する
炭素原子数２から１２迄のアルケニル基とされる。〕と
反応させて製造することが出来る。この反応は、例えば
アゾ型の遊離ラジカル触媒の如き、遊離ラジカル触媒の
存在下に都合よ〈実施される。
この反応の反応温度とアゾ型の遊離ラジカル触媒の選択
とは、相互に依存するものと考えられる。４０℃から１
００℃迄の反応温度範囲は、一つの選択であり、この場
合には望ましくない副生物の生成が最小化され、反応生
成物が安定である。この反応温度範囲で適当な反応速度
を達成する為に、この温度範囲において適当な程度に反
応性のあるアゾ型の触媒を使用することが望ましい。
とは、相互に依存するものと考えられる。４０℃から１
００℃迄の反応温度範囲は、一つの選択であり、この場
合には望ましくない副生物の生成が最小化され、反応生
成物が安定である。この反応温度範囲で適当な反応速度
を達成する為に、この温度範囲において適当な程度に反
応性のあるアゾ型の触媒を使用することが望ましい。
従って、半減期間が１時間となる温度として４０・から
１００℃迄を有するアゾ型の遊離ラジカル触媒の使用が
好ましい。
１００℃迄を有するアゾ型の遊離ラジカル触媒の使用が
好ましい。
適当な不活性溶媒は、反応物が反応温度において溶媒中
に溶解される様なものであって、ヘプタン、メチルシク
ロヘキサン、ベンゼン、トルエンの如き脂肪族あるいは
芳香族の炭化水素類、メチレンクロライト、りＯＯホル
ム、メチルクＯＯホルム、四塩化炭素、トリクロロエチ
レン、パークロ０エチレン、１，１．２−トリフルオＣ
１−１．２．２−トリクＯロエタンの如きフレオン類、
りＯロベンゼン、ペンシトリフルオライドあるいはテト
ラフルオロキシレンの如き塩素化されたあるいはふっ素
化された脂肪族あるいは芳香族の炭化水素類、アセトン
、メチルインブチルケトン、酢酸エチルおよびより高級
な同族体、ジアルキルエーテル、テトラヒトＯフラン、
エチレングリコールのモノメチルあるいはモノエチルエ
ーテル、エチレングリコールのジメチルあるいはジエチ
ルエーテルの如きケトン類、エステル類およびエーテル
類、アセトニトリルの如きニトリル類等がある。
に溶解される様なものであって、ヘプタン、メチルシク
ロヘキサン、ベンゼン、トルエンの如き脂肪族あるいは
芳香族の炭化水素類、メチレンクロライト、りＯＯホル
ム、メチルクＯＯホルム、四塩化炭素、トリクロロエチ
レン、パークロ０エチレン、１，１．２−トリフルオＣ
１−１．２．２−トリクＯロエタンの如きフレオン類、
りＯロベンゼン、ペンシトリフルオライドあるいはテト
ラフルオロキシレンの如き塩素化されたあるいはふっ素
化された脂肪族あるいは芳香族の炭化水素類、アセトン
、メチルインブチルケトン、酢酸エチルおよびより高級
な同族体、ジアルキルエーテル、テトラヒトＯフラン、
エチレングリコールのモノメチルあるいはモノエチルエ
ーテル、エチレングリコールのジメチルあるいはジエチ
ルエーテルの如きケトン類、エステル類およびエーテル
類、アセトニトリルの如きニトリル類等がある。
都合のよい場合には、この付加反応をバルクで、即ち溶
媒を使用することなく、実施することが好ましい。
媒を使用することなく、実施することが好ましい。
通常のアゾ型遊離ラジカル触媒の選択は、決定的な事項
ではないが、２．２′−アゾビス（２，４−ジメチルム
レ０ニトリル）が好都合なものとして見出されている。
ではないが、２．２′−アゾビス（２，４−ジメチルム
レ０ニトリル）が好都合なものとして見出されている。
式Ｉの化合物Ｉ＃を製造する一つの代替法として、弐■
で表わされるアルコール類と、Ｒ’ −Ｒ’ −３（０
）ｍ −Ｒ−０）１
（ＩＶ ）〔式中、Ｒ１，Ｒ１，ｍおよび８は上記と
同じ定義を有する。〕 次式Ｖで表わされるエビハロヒドリン （式中、Ｘはハロゲン、好ましくは塩素である。） との付加反応により、次式■で表わされる対応するハロ
ヒドリン Ｒ’ −Ｒ’ −３（０）ｍ−Ｒ−ＯＣｌｈＦＨ−Ｃ１
ｈ Ｘ （Ｖｌ ）Ｈ （式中、Ｈｆ、 Ｒ１，ｍ％ＢおよびＸは上記ト同じ定
義を有する。） が生成させられ、次いでハロゲン化水素ＨＸを除去する
為の脱ハロゲン化水素反応が実施されて対応する式Ｉの
グリシジルエーテルが生成させられる製法がある。
で表わされるアルコール類と、Ｒ’ −Ｒ’ −３（０
）ｍ −Ｒ−０）１
（ＩＶ ）〔式中、Ｒ１，Ｒ１，ｍおよび８は上記と
同じ定義を有する。〕 次式Ｖで表わされるエビハロヒドリン （式中、Ｘはハロゲン、好ましくは塩素である。） との付加反応により、次式■で表わされる対応するハロ
ヒドリン Ｒ’ −Ｒ’ −３（０）ｍ−Ｒ−ＯＣｌｈＦＨ−Ｃ１
ｈ Ｘ （Ｖｌ ）Ｈ （式中、Ｈｆ、 Ｒ１，ｍ％ＢおよびＸは上記ト同じ定
義を有する。） が生成させられ、次いでハロゲン化水素ＨＸを除去する
為の脱ハロゲン化水素反応が実施されて対応する式Ｉの
グリシジルエーテルが生成させられる製法がある。
式Ｉの化合物類を製造する為の上記代替法においては、
弐■のアルコールと、エピクロールヒドリンの如きハロ
ヒドリンとが、無溶媒あるいは通常の乾燥した非プロト
ン性溶媒、例えばアセトンあるいはメチルエチルケトン
の如きケトン類、ジエチルエーテル、エチレングリコー
ルジメチルエーテルあるいはテトラヒトＯフランの如き
エーテル類、酢酸エチルあるいはメチルセロソルブアセ
テートの如きエステル類、ベンゼンあるいはトルエンの
如き芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミドあるいは
Ｎ−メチルピロリドンの如きアミド類あるいはラクタム
類、中で反応させられる。このハロヒドリン中間体の生
成を促進する為に、三ふフ化はう素（通常そのジエチル
エーテル複合物として）あるいは塩化アルミニウムの如
きルイス酸触媒が使用される０反応が無溶媒下に実施さ
れる場合には、その化合物の融点以上の温度において、
三ふっ化はう素エーテラートを用いて実施するのが有利
である０反応は通常発熱反応である。
弐■のアルコールと、エピクロールヒドリンの如きハロ
ヒドリンとが、無溶媒あるいは通常の乾燥した非プロト
ン性溶媒、例えばアセトンあるいはメチルエチルケトン
の如きケトン類、ジエチルエーテル、エチレングリコー
ルジメチルエーテルあるいはテトラヒトＯフランの如き
エーテル類、酢酸エチルあるいはメチルセロソルブアセ
テートの如きエステル類、ベンゼンあるいはトルエンの
如き芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミドあるいは
Ｎ−メチルピロリドンの如きアミド類あるいはラクタム
類、中で反応させられる。このハロヒドリン中間体の生
成を促進する為に、三ふフ化はう素（通常そのジエチル
エーテル複合物として）あるいは塩化アルミニウムの如
きルイス酸触媒が使用される０反応が無溶媒下に実施さ
れる場合には、その化合物の融点以上の温度において、
三ふっ化はう素エーテラートを用いて実施するのが有利
である０反応は通常発熱反応である。
一般的には、このへ〇ヒドリン中間体を単離する必要が
なく、式１の前記グリシジルエーテルを製造する為、前
記の脱ハロゲン化水素反応を、同一の反応容器内で実施
出来る。
なく、式１の前記グリシジルエーテルを製造する為、前
記の脱ハロゲン化水素反応を、同一の反応容器内で実施
出来る。
弐■の上記ハロヒドリンから式Ｉのグリシジルエーテル
を製造する為の脱ハロゲン化水素反応は、弐■のハロヒ
ドリンを塩基、好ましくはその化学量論的な量あるいは
少し過剰な量、と接触させることにより有利に達成され
る。
を製造する為の脱ハロゲン化水素反応は、弐■のハロヒ
ドリンを塩基、好ましくはその化学量論的な量あるいは
少し過剰な量、と接触させることにより有利に達成され
る。
適当な塩基としでは、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、ピリジン、ルチジンおよびトリエチルアミン等があ
る。好都合にする為に、原料反応物および所望の製品を
溶解するが副生物の塩を溶解しない溶媒が選択され、反
応の進行と共にこの塩が沈澱し、次いでろ過の如き通常
の方法により除去出来る。
ム、ピリジン、ルチジンおよびトリエチルアミン等があ
る。好都合にする為に、原料反応物および所望の製品を
溶解するが副生物の塩を溶解しない溶媒が選択され、反
応の進行と共にこの塩が沈澱し、次いでろ過の如き通常
の方法により除去出来る。
この脱ハロゲン化水素反応は、水／低級アルカノール溶
媒系あるいは水／トルエン系の如き水／有機炭化水素溶
媒系において、２０℃ヒ１００℃の間の温度で都合よく
実行される０反応が２相溶媒系で実施される場合には、
この反応を促進する為に、ジドデシルジメチルアンモニ
ウム水酸化物あるいはテトラブチルアンモニウム水素硫
酸塩の如き相間移動触媒を使用することが出来る。
媒系あるいは水／トルエン系の如き水／有機炭化水素溶
媒系において、２０℃ヒ１００℃の間の温度で都合よく
実行される０反応が２相溶媒系で実施される場合には、
この反応を促進する為に、ジドデシルジメチルアンモニ
ウム水酸化物あるいはテトラブチルアンモニウム水素硫
酸塩の如き相間移動触媒を使用することが出来る。
典型的には、５０ｚの水酸化ナトリウム溶液の如き塩基
の化学量論的量が、反応混合物に徐々に添加される。生
起する反応は発熱反応であり、式１の所望のエポキサイ
ドを生成させる為に、反応温度は、例えば１−３時間の
間撹拌しつつ、２０°−６０℃の間に保持されるのが有
利である。
の化学量論的量が、反応混合物に徐々に添加される。生
起する反応は発熱反応であり、式１の所望のエポキサイ
ドを生成させる為に、反応温度は、例えば１−３時間の
間撹拌しつつ、２０°−６０℃の間に保持されるのが有
利である。
副生物の塩はエポキサイド中間体から除去され、残存す
る溶媒は真空蒸留により除去される。
る溶媒は真空蒸留により除去される。
生成物は、更に精製されることなく、あるいは必要に応
じ蒸留されて、使用される。
じ蒸留されて、使用される。
この発明のエポキシ基を含有するパーフルオロアルキル
基は、反応性が非常に強く、高度に表面活性なふっ素含
有界面活性剤を製造する為に使用出来る。
基は、反応性が非常に強く、高度に表面活性なふっ素含
有界面活性剤を製造する為に使用出来る。
上記により、式１の化合物類は、トリメチルアミシー三
酸化硫黄、トメチルどロリドシー三酸化硫黄およびとれ
等に類似のものの如きアミン−三酸化硫黄複合物類と反
応し、低い表面および界面張力特性を有する有用な界面
活性剤を製造することが出来る。その際の反応は、米国
特許４、４３５．３３０ の一般的および特別な開示
に従って実施出来る。この結果として得られるスルファ
トベタイン系界面活性剤類は、洗浄剤類、床ワツクス類
の為の平滑剤（ｌｅｖｅｌｉｎｇ ａｇｅｎｔ）類およ
び消火剤組成物における対水湿潤剤としての用途が見出
されている。
酸化硫黄、トメチルどロリドシー三酸化硫黄およびとれ
等に類似のものの如きアミン−三酸化硫黄複合物類と反
応し、低い表面および界面張力特性を有する有用な界面
活性剤を製造することが出来る。その際の反応は、米国
特許４、４３５．３３０ の一般的および特別な開示
に従って実施出来る。この結果として得られるスルファ
トベタイン系界面活性剤類は、洗浄剤類、床ワツクス類
の為の平滑剤（ｌｅｖｅｌｉｎｇ ａｇｅｎｔ）類およ
び消火剤組成物における対水湿潤剤としての用途が見出
されている。
式１の化合物類との反応に使用する為に適当なアミン−
三酸化硫黄複合物類は、次式■で表わされる複合物類で
ある。
三酸化硫黄複合物類は、次式■で表わされる複合物類で
ある。
Ｓ
Ｃ式中、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７はそれぞれ独立に低級ア
ルキル基であり、またＲ６はベンジル基であってもよく
、更に、Ｒ６およびＲ７は、両者が結合している窒素原
子と共に合同してピペリジノ基あるいはモルフィリノ基
を構成するか、あるいはＲ５、Ｒ６およびＲ７は、これ
等３者が一緒に結合しでいる窒素原子と共にピリジル基
、アクリジル基あるいきキノリル基を構成していてもよ
い、〕式Ｉのグリシジルエーテル類と式■のアミン−＝
酸化硫黄複合物類との反応は、所望の場合にはＮ−メチ
ルとロリドンの如き溶媒の存在下に、両者の化学量論的
量を３００から１８０℃の間の温度で反応させることに
より有利に生起される。
ルキル基であり、またＲ６はベンジル基であってもよく
、更に、Ｒ６およびＲ７は、両者が結合している窒素原
子と共に合同してピペリジノ基あるいはモルフィリノ基
を構成するか、あるいはＲ５、Ｒ６およびＲ７は、これ
等３者が一緒に結合しでいる窒素原子と共にピリジル基
、アクリジル基あるいきキノリル基を構成していてもよ
い、〕式Ｉのグリシジルエーテル類と式■のアミン−＝
酸化硫黄複合物類との反応は、所望の場合にはＮ−メチ
ルとロリドンの如き溶媒の存在下に、両者の化学量論的
量を３００から１８０℃の間の温度で反応させることに
より有利に生起される。
代替法として、式１の化合物類は、次式■で表示される
アミノ酸と反応させることもできる。
アミノ酸と反応させることもできる。
（式中、ＲｅおよびＲ９は水素あるいは低級アルキル基
であり、２はカルボキシ基、スルホ基、ホスホロ基ある
いはホスホノ基で置換されている炭素原。
であり、２はカルボキシ基、スルホ基、ホスホロ基ある
いはホスホノ基で置換されている炭素原。
子数１２迄のアルキレン基である。〕式■で表わされる
化合物の適当なものには、グリシン、アラニン、アスパ
ラギン酸、サルコシン、２−アミノエチル−水素−燐酸
、タウリンおよびメチルタウリン等が含まれる。スルホ
基、ホスホロ基あるいはホスホノ基は、酸素原子を経由
するかあるいはＭ接に硫黄あるいは増の原子が２基のア
ルキレン基に結合している様な硫黄あるいは燐を有する
酸性基ＷＩヲ意味している０例としては、−３（０）Ｏ
Ｈ１−３（Ｏｈ叶、−０Ｓ（０）ＯＨ１−Ｏ３（０２）
叶、−Ｐ（ＯＨ）２、−Ｐ（０）（ＯＨ）２、−０Ｐ（
ＯＨ）２、−０Ｐ（０）（ＯＨ）２等がある。
化合物の適当なものには、グリシン、アラニン、アスパ
ラギン酸、サルコシン、２−アミノエチル−水素−燐酸
、タウリンおよびメチルタウリン等が含まれる。スルホ
基、ホスホロ基あるいはホスホノ基は、酸素原子を経由
するかあるいはＭ接に硫黄あるいは増の原子が２基のア
ルキレン基に結合している様な硫黄あるいは燐を有する
酸性基ＷＩヲ意味している０例としては、−３（０）Ｏ
Ｈ１−３（Ｏｈ叶、−０Ｓ（０）ＯＨ１−Ｏ３（０２）
叶、−Ｐ（ＯＨ）２、−Ｐ（０）（ＯＨ）２、−０Ｐ（
ＯＨ）２、−０Ｐ（０）（ＯＨ）２等がある。
式■のアミノ酸（こ対する式Ｉのグリシジルエポキサイ
ドの付加は、塩基が触媒となる１：１の反応であって、
単一相中で最も容易に生起する反応である。この単−相
は、一般的に、メクノール、イソブＯパノール、ブトキ
シェタノールおよびこれ等に類似のものの如き適当に選
択された水と混合し得る共溶媒を含有する水性混合溶媒
として用意される。この反応は一般的に、２５６から２
００℃迄の闇の、好ましくは５００から１３０℃迄の闇
の温度で実施される。
ドの付加は、塩基が触媒となる１：１の反応であって、
単一相中で最も容易に生起する反応である。この単−相
は、一般的に、メクノール、イソブＯパノール、ブトキ
シェタノールおよびこれ等に類似のものの如き適当に選
択された水と混合し得る共溶媒を含有する水性混合溶媒
として用意される。この反応は一般的に、２５６から２
００℃迄の闇の、好ましくは５００から１３０℃迄の闇
の温度で実施される。
この反応は、反応物が充分に塩基性である場合あるいは
アルカリ水酸化物、イオン交換触媒あるいは反応しない
塩基、例えばトリインプロどルアミン、によりアルカリ
性ｐＨ値にされている場合に、無触媒で進行され得る。
アルカリ水酸化物、イオン交換触媒あるいは反応しない
塩基、例えばトリインプロどルアミン、によりアルカリ
性ｐＨ値にされている場合に、無触媒で進行され得る。
この反応の生成物類は、一般的に単離しなくても有用で
あるが、酸性側のｐＨ値に依存して、等電子的（ｉｓｏ
ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ）な中性塩類として、あるいはア
ルカリ金属塩類またはアシモニウム塩類として単離する
ことも出来る。ト低棹アルキルあ矛いはＮ−ベンジルの
第４級機能を有する完全に第４級化ざりた誘導体類は、
一般に両性イオン化合物類あるいは酸付加物、例えば塩
化水素付加物として単離される。
あるが、酸性側のｐＨ値に依存して、等電子的（ｉｓｏ
ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ）な中性塩類として、あるいはア
ルカリ金属塩類またはアシモニウム塩類として単離する
ことも出来る。ト低棹アルキルあ矛いはＮ−ベンジルの
第４級機能を有する完全に第４級化ざりた誘導体類は、
一般に両性イオン化合物類あるいは酸付加物、例えば塩
化水素付加物として単離される。
こうして得られる両性化合物は、加水分解に対して非常
に安定であり、界面活性剤および湿潤剤として非常に多
くの用途を有する。これ等は、容易に入手可能なアミノ
酸類およびある程度容易に入手出来るふっ素化されたエ
ポキサイド類から誘導される故、特に有用な組成物類を
構成する。
に安定であり、界面活性剤および湿潤剤として非常に多
くの用途を有する。これ等は、容易に入手可能なアミノ
酸類およびある程度容易に入手出来るふっ素化されたエ
ポキサイド類から誘導される故、特に有用な組成物類を
構成する。
弐■のアルコール類は、知られでいる６、周知の化合物
類から、それ自体がよく知られている方法により容易に
製造出来る。こうして、例えば、式■のアルコール類は
、前記式■のメルカプタンを、次式■で表わされるハロ
アルカノール類、Ｘ−Ｒ−ＯＨ（ＩＸ） （式中、ＸおよびＲは上記と同じ定義を有する。） あるいは次式Ｘで表わされる不飽和アルコール類Ｒ’−
〇〇 （Ｘ）（式中、口°は
前記と同じ定義を有する。
類から、それ自体がよく知られている方法により容易に
製造出来る。こうして、例えば、式■のアルコール類は
、前記式■のメルカプタンを、次式■で表わされるハロ
アルカノール類、Ｘ−Ｒ−ＯＨ（ＩＸ） （式中、ＸおよびＲは上記と同じ定義を有する。） あるいは次式Ｘで表わされる不飽和アルコール類Ｒ’−
〇〇 （Ｘ）（式中、口°は
前記と同じ定義を有する。
反応させることにより、容易に製造出来る。
式■化合物と式■化合物との反応は、両者の化学量論的
量を、生成するハロゲン化水素酸を除去する為の塩基の
存在下に、不活性溶媒の存在下あるいは不存在下に、３
０・から１２０℃の闇の反応温度で、例えば水で洗浄す
る方法により副生物の塩を除去しつつ反応させることに
より、客昌に実施することが出来る。この場合の適当な
塩基には、アルカリ金属の水酸化物類および炭酸塩類、
アルカリ土類金属の水酸化物類およびカルバメート類、
およびトリメチルアミンあるいはピリジンの如きアミン
類が含まれる０反応中にあっては、生成するハロゲン化
水素の全てと反応させる為に充分な量の塩基を添加しな
ければならない、溶媒を使用する場合の適当な溶媒には
、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホオキサイド、低
級アルカノール類およびこれ等に類似のものが含まれる
。
量を、生成するハロゲン化水素酸を除去する為の塩基の
存在下に、不活性溶媒の存在下あるいは不存在下に、３
０・から１２０℃の闇の反応温度で、例えば水で洗浄す
る方法により副生物の塩を除去しつつ反応させることに
より、客昌に実施することが出来る。この場合の適当な
塩基には、アルカリ金属の水酸化物類および炭酸塩類、
アルカリ土類金属の水酸化物類およびカルバメート類、
およびトリメチルアミンあるいはピリジンの如きアミン
類が含まれる０反応中にあっては、生成するハロゲン化
水素の全てと反応させる為に充分な量の塩基を添加しな
ければならない、溶媒を使用する場合の適当な溶媒には
、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホオキサイド、低
級アルカノール類およびこれ等に類似のものが含まれる
。
式■のメルカプクンと式Ｘの不飽和アルコールとの反応
により、対応する弐■のアルコールを得るに際し、この
簡単な付加反応は、アゾ型の遊離ラジカル開始剤、例え
ば２．２′−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリ
ル）の如き遊離ラジカル開始剤の存在下に、またテトラ
ヒト０フラン、メチルエチルケトン、ジメチルスルホオ
キサイドあるいはこれ等に類似のものの如き不活性溶媒
の存在下あるいは不存在下に、約３０・と１００℃の間
の反応温度で、簡便に実施出来る。
により、対応する弐■のアルコールを得るに際し、この
簡単な付加反応は、アゾ型の遊離ラジカル開始剤、例え
ば２．２′−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリ
ル）の如き遊離ラジカル開始剤の存在下に、またテトラ
ヒト０フラン、メチルエチルケトン、ジメチルスルホオ
キサイドあるいはこれ等に類似のものの如き不活性溶媒
の存在下あるいは不存在下に、約３０・と１００℃の間
の反応温度で、簡便に実施出来る。
弐■の化合物類のｍが１あるいは２に等しいものを、対
応するｍが０のチオエーテルアルコールから得る為に、
弐■のチオエーテルアルコールが、酸化剤により酸化さ
れる。適当な酸化剤には、酢酸の如き有機酸溶媒中の過
酸化水素が含まれる。この反応は、約３０’と１００℃
の闇の反応温度で、チオエーテルアルコールが対応する
スルホオキサイドあるいはスルホンに転換される迄実施
される。一般的には、比較的低い、例えば３０°と５０
℃の間の温度が、ｍ＝１のスルホオキサイドの生成を容
易にするのに対し、より高い、例えば約５０°と１００
℃の間の温度が対応するスルホン類の生成に好都合であ
る。更に、スルホオキサイドの生成は、１：１のモル比
に使用される過酸化物の量を減少させることにより強化
されるのに対し、スルホン類の生成には過酸化物の実質
的な過剰が好都合である。
応するｍが０のチオエーテルアルコールから得る為に、
弐■のチオエーテルアルコールが、酸化剤により酸化さ
れる。適当な酸化剤には、酢酸の如き有機酸溶媒中の過
酸化水素が含まれる。この反応は、約３０’と１００℃
の闇の反応温度で、チオエーテルアルコールが対応する
スルホオキサイドあるいはスルホンに転換される迄実施
される。一般的には、比較的低い、例えば３０°と５０
℃の間の温度が、ｍ＝１のスルホオキサイドの生成を容
易にするのに対し、より高い、例えば約５０°と１００
℃の間の温度が対応するスルホン類の生成に好都合であ
る。更に、スルホオキサイドの生成は、１：１のモル比
に使用される過酸化物の量を減少させることにより強化
されるのに対し、スルホン類の生成には過酸化物の実質
的な過剰が好都合である。
同様に式Ｉの化合物類のｍ＝０のものは、例えばりＯＯ
ホルムあるいはこれに類似のものの様なへＯゲフ化炭化
水素の如き不活性溶媒の存在下、約１０℃から約５０℃
迄の闇の温度において、例えば過安息香酸、メタ−クロ
ール過安息香酸等の如きグリシジルの部分に作用しない
適当な酸化系を使用する酸化により、対応するスルホオ
キサイド類およびスルホン類、即ちｍが１あるいは２の
ものに、変換出来る。この場合においても、高目の温度
と過酸化物の過剰は、スルホンの生成に好都合である。
ホルムあるいはこれに類似のものの様なへＯゲフ化炭化
水素の如き不活性溶媒の存在下、約１０℃から約５０℃
迄の闇の温度において、例えば過安息香酸、メタ−クロ
ール過安息香酸等の如きグリシジルの部分に作用しない
適当な酸化系を使用する酸化により、対応するスルホオ
キサイド類およびスルホン類、即ちｍが１あるいは２の
ものに、変換出来る。この場合においても、高目の温度
と過酸化物の過剰は、スルホンの生成に好都合である。
この発明は、この発明を制限する意味を有しない次の実
施例を参照することにより一層明らかになる。この実施
例で使用される部は、特に断りのない限り、重量によっ
ている。
施例を参照することにより一層明らかになる。この実施
例で使用される部は、特に断りのない限り、重量によっ
ている。
［実施例 １］
１−アリルオキシ−２，３−エポキシブＯパン（２４，
１９，０，２１２モル）と２．２′−アゾビス（２，４
−ジメチルバレロニトリルＸ０．９９９．０．００４モ
ル）との混合物が、１１９のトルエンに（＋、１．２．
２−テトラヒトＯバーフルオＯオクタン）チオール（７
？、２６９゜０．２０２モル）が溶解した溶液中に、６
０・−７５℃において４０分間の間に滴下された０反応
混合物は、６５°−７０℃の温度において３時間に亙っ
て撹拌され、トルエンが、アスピレータ−の真空（２５
ｍｍ）下に８０℃において蒸留除去され、次式の異性体
（Ａ）および（８）の比が１０：１からなる、９９．２
９ （理論値の９９χ）の無色透明な液が得られた。
１９，０，２１２モル）と２．２′−アゾビス（２，４
−ジメチルバレロニトリルＸ０．９９９．０．００４モ
ル）との混合物が、１１９のトルエンに（＋、１．２．
２−テトラヒトＯバーフルオＯオクタン）チオール（７
？、２６９゜０．２０２モル）が溶解した溶液中に、６
０・−７５℃において４０分間の間に滴下された０反応
混合物は、６５°−７０℃の温度において３時間に亙っ
て撹拌され、トルエンが、アスピレータ−の真空（２５
ｍｍ）下に８０℃において蒸留除去され、次式の異性体
（Ａ）および（８）の比が１０：１からなる、９９．２
９ （理論値の９９χ）の無色透明な液が得られた。
テトラブチルアンモニウムよう化物の存在下における過
塩素酸による滴定は、５０９（理論値は４９４）の当量
モル重量を示した。核磁気共鳴は、ブＯトン共鳴として
、６の１．８５に２個のプロトン（−３Ｃ）Ｉｚ州２Ｃ
Ｈ２Ｏ）、６の２．３７に２個のプロトン（Ｃ６Ｆ１３
吐２”２） 、６の２．６９に６個のブＯトン ６の３．３３および６の３．７１に２個のプロトン（〇
−団、）、６の３．５７に２個のプロトン（Ｃ当０ＣＨ
２）を示した。Ｃｌ４）１監Ｓ Ｆ ＋３ ｏ、 Ｓに
対する元素分析値として、 計算値 Ｃ３４，０、Ｈ３，０ 実測値 Ｃ３３，９、■３．０ を得た。
塩素酸による滴定は、５０９（理論値は４９４）の当量
モル重量を示した。核磁気共鳴は、ブＯトン共鳴として
、６の１．８５に２個のプロトン（−３Ｃ）Ｉｚ州２Ｃ
Ｈ２Ｏ）、６の２．３７に２個のプロトン（Ｃ６Ｆ１３
吐２”２） 、６の２．６９に６個のブＯトン ６の３．３３および６の３．７１に２個のプロトン（〇
−団、）、６の３．５７に２個のプロトン（Ｃ当０ＣＨ
２）を示した。Ｃｌ４）１監Ｓ Ｆ ＋３ ｏ、 Ｓに
対する元素分析値として、 計算値 Ｃ３４，０、Ｈ３，０ 実測値 Ｃ３３，９、■３．０ を得た。
［実施例 ２］
１．１．２．２−テトラヒドロパーフルオロアルキルチ
オール（ｙｉ素原子数の分布で、Ｃ４が２．１χ、Ｃ６
が３７．６χ、ちが３４．３χ、ＣＩ６が１９．０χ、
ＣＩ２が５．５χ、ＣＩ４が１．０χの混合物） （２
７９，６９，０，６１５モル）と１−アリルオキシ−２
，３−エポキシプロパン（７３，６９，０，６４６モル
）および２．２′−アゾとス（２，４−ジメチルバレロ
ニトリル）（３，０５ｇ、０．０１２モル）の溶液が、
窺素気流下に６０℃の温度において、９０分間の間に亙
り、２個の滴下漏斗から平行的に反応フラスコ中に滴下
された。清下稜反応混合物は、６０℃においで１時間撹
拌され、淡黄色のゲル３４２．７９（理論値の９８χ）
を得た。ガスクロマトグラフ分析は、次式の異性体（Ａ
）およびＣＢ）の比が１０：１のもの９９χの結果を示
した。
オール（ｙｉ素原子数の分布で、Ｃ４が２．１χ、Ｃ６
が３７．６χ、ちが３４．３χ、ＣＩ６が１９．０χ、
ＣＩ２が５．５χ、ＣＩ４が１．０χの混合物） （２
７９，６９，０，６１５モル）と１−アリルオキシ−２
，３−エポキシプロパン（７３，６９，０，６４６モル
）および２．２′−アゾとス（２，４−ジメチルバレロ
ニトリル）（３，０５ｇ、０．０１２モル）の溶液が、
窺素気流下に６０℃の温度において、９０分間の間に亙
り、２個の滴下漏斗から平行的に反応フラスコ中に滴下
された。清下稜反応混合物は、６０℃においで１時間撹
拌され、淡黄色のゲル３４２．７９（理論値の９８χ）
を得た。ガスクロマトグラフ分析は、次式の異性体（Ａ
）およびＣＢ）の比が１０：１のもの９９χの結果を示
した。
テトラブチルアンモニウムよう化物の存在下における過
塩素酸による滴定は、５７３（理論値は５６９）の当量
モル重量を示した。核磁気共鳴は、実施例１と同一のプ
ロトン共鳴を示した。
塩素酸による滴定は、５７３（理論値は５６９）の当量
モル重量を示した。核磁気共鳴は、実施例１と同一のプ
ロトン共鳴を示した。
［実施例３］
１．１．２．２−テトラヒドロパーフルオロアルキルチ
オール（炭素原子数の分布で、Ｃ４が０．２χ、Ｃもが
０．４ Ｘ 、 Ｃ８が８．４χ、ＣＩ６が２８．０χ
、ＣＩ２が３９．１χ、Ｃ１４が１８．１χ、Ｃ１６が
４．３χの混合物） （９０，０ｇ、０．１３８モル）
が、２．２′−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニト
リルＸ０．８ ｑ 、０．００３モル）および１−アリ
ルオキシ−２，３−エポキシプロパン（１６，５９，０
，１４５モル）の溶液と平行的に、窒素気流下に６５０
−７０℃の間の温度において、２個の供給流として、２
４９のトルエンが既に張り込まれている反応フラスコ中
に供給された０反応混合物は、８５℃において９０分間
撹拌され、トルエンが高真空下に室温において蒸発され
、融点７８’ −１０７℃の白色結晶状固体１００．４
９（理論値の９５χ）を得た。ガスクロマトグラフ分析
は、次式の異性体（＾）およびＣＢ）の比が１０＝１の
もの９９χの結果を示した。
オール（炭素原子数の分布で、Ｃ４が０．２χ、Ｃもが
０．４ Ｘ 、 Ｃ８が８．４χ、ＣＩ６が２８．０χ
、ＣＩ２が３９．１χ、Ｃ１４が１８．１χ、Ｃ１６が
４．３χの混合物） （９０，０ｇ、０．１３８モル）
が、２．２′−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニト
リルＸ０．８ ｑ 、０．００３モル）および１−アリ
ルオキシ−２，３−エポキシプロパン（１６，５９，０
，１４５モル）の溶液と平行的に、窒素気流下に６５０
−７０℃の間の温度において、２個の供給流として、２
４９のトルエンが既に張り込まれている反応フラスコ中
に供給された０反応混合物は、８５℃において９０分間
撹拌され、トルエンが高真空下に室温において蒸発され
、融点７８’ −１０７℃の白色結晶状固体１００．４
９（理論値の９５χ）を得た。ガスクロマトグラフ分析
は、次式の異性体（＾）およびＣＢ）の比が１０＝１の
もの９９χの結果を示した。
テトラブチルアンモニウムよう化物の存在下における過
塩素酸による滴定は、７５６（理論値は７６７）の当量
モル重量を示した。
塩素酸による滴定は、７５６（理論値は７６７）の当量
モル重量を示した。
［実施例４］
りＯＯホルム８０Ｏｍｌｌ中にｍ−りＯＯ過安患香酸（
６４，８９８０χ、０．３モル）を含む溶液が、窒素気
流下５時間に亙り、４００ｍ１のクロロホルム中に１−
［（１，１，２，２−テトラヒドロパーフルオロ−オク
チルチオ）−１−プロとルオキシ］−２．３−エボキシ
プＯパンおよびｌ−［（１，１，２，２−テトラヒドロ
バーフルオロ−オクチルチオ）−２−プロとルオキシ］
−２．３−エポキシブＯパンの異性体混合物（７４，１
９，０，１５モル）を溶解した液に滴下方式で添加され
た。軽度の発熱反応は、滴下中２５°−３５℃の間の温
度に保持され、室温において一晩撹拌された。沈澱した
ｍ−りＯＯ安息香酸がろ別され、ろ液は氷を含む１０χ
の冷ＮａＯＨ溶液で２回、氷を含む冷塩水で１回、氷水
で１回洗浄された。有機層はＭ９ＳＯ４で乾燥され、乾
燥状態迄蒸発され、−晩高真空下に乾燥され、融点６１
・−６４℃（１０３℃で透明）の白色結晶状の固体７３
．５９（理論値の９３χ）を得た。ガスクロマトグラフ
分析は、次式の異性体（Ａ）および（Ｂ）の比が１０：
１のもの９４χであることを示した。
６４，８９８０χ、０．３モル）を含む溶液が、窒素気
流下５時間に亙り、４００ｍ１のクロロホルム中に１−
［（１，１，２，２−テトラヒドロパーフルオロ−オク
チルチオ）−１−プロとルオキシ］−２．３−エボキシ
プＯパンおよびｌ−［（１，１，２，２−テトラヒドロ
バーフルオロ−オクチルチオ）−２−プロとルオキシ］
−２．３−エポキシブＯパンの異性体混合物（７４，１
９，０，１５モル）を溶解した液に滴下方式で添加され
た。軽度の発熱反応は、滴下中２５°−３５℃の間の温
度に保持され、室温において一晩撹拌された。沈澱した
ｍ−りＯＯ安息香酸がろ別され、ろ液は氷を含む１０χ
の冷ＮａＯＨ溶液で２回、氷を含む冷塩水で１回、氷水
で１回洗浄された。有機層はＭ９ＳＯ４で乾燥され、乾
燥状態迄蒸発され、−晩高真空下に乾燥され、融点６１
・−６４℃（１０３℃で透明）の白色結晶状の固体７３
．５９（理論値の９３χ）を得た。ガスクロマトグラフ
分析は、次式の異性体（Ａ）および（Ｂ）の比が１０：
１のもの９４χであることを示した。
テトラブチルアンモニウムよう化物の存在下にあける過
塩素酸による滴定は、５３４（理論値は５２６）の当量
モル重量を示した。核磁気共鳴は、プロトン共鳴として
、６の２．１３に２個のプロトン（５０２Ｃ）Ｉ２す２
ＣＨ２０−）、 ６の２．５７に１個のプロトン ６の２．７６に２個のプロトン（Ｃ６ＦＩ３牝２）、６
０２．７７に１個のプロトン（Ｃ）Ｉ−一価２）、○ ６の３．２３に４個のプロトン（ＣＧ Ｆ １３ Ｃ８
２Ｃ曵５０２Ｇ−）、６の３．３１に１個のプロトン（
０−ＣＨ２Ｃｌ）、６の３．６３に２個のプロトン（５
０２Ｃ）（２Ｇ）１２Ｇ）！２）および６ （７） ３
．７９ Ｉｔ： １個（７） ７０ ト：／ （０−Ｃ
Ｈ２ｃＨ）Ｉ！示溶解されたものが、蒸発され、−晩高
真空下に乾した。 Ｃ１４８ＩＳ Ｆｌ：４０４ Ｓ
に対する元素分析値として、 計Ｘ値 Ｃ３１，９Ｘ、 ８２．８５に実測値
Ｃ３３，ＩＸ、 Ｈ２，９ｍを得た。
塩素酸による滴定は、５３４（理論値は５２６）の当量
モル重量を示した。核磁気共鳴は、プロトン共鳴として
、６の２．１３に２個のプロトン（５０２Ｃ）Ｉ２す２
ＣＨ２０−）、 ６の２．５７に１個のプロトン ６の２．７６に２個のプロトン（Ｃ６ＦＩ３牝２）、６
０２．７７に１個のプロトン（Ｃ）Ｉ−一価２）、○ ６の３．２３に４個のプロトン（ＣＧ Ｆ １３ Ｃ８
２Ｃ曵５０２Ｇ−）、６の３．３１に１個のプロトン（
０−ＣＨ２Ｃｌ）、６の３．６３に２個のプロトン（５
０２Ｃ）（２Ｇ）１２Ｇ）！２）および６ （７） ３
．７９ Ｉｔ： １個（７） ７０ ト：／ （０−Ｃ
Ｈ２ｃＨ）Ｉ！示溶解されたものが、蒸発され、−晩高
真空下に乾した。 Ｃ１４８ＩＳ Ｆｌ：４０４ Ｓ
に対する元素分析値として、 計Ｘ値 Ｃ３１，９Ｘ、 ８２．８５に実測値
Ｃ３３，ＩＸ、 Ｈ２，９ｍを得た。
［英施例５］
１−［（１，１，２，２−テトラヒトＯパーフルオ０−
オクチルチオ）−１−ブＯピルオキシ］−２．３−エポ
キシプ０パンおよびｌ−［（１，１，２，，２−テトラ
ヒトＯバーフルオ０−オクチルチオ）−２−プロピルオ
キシ］−２．３−エボキシブＯパンの１０＝１の異性体
混合物（＋４．８９ 、０゜０３モル）を、４２．２９
の２−プロパノールと１０９の脱イオン水との混合物に
３解した液が、窯素気流下６０℃にお（八で、トメチル
タウリンのナトリウム塩（１１，４９、Ｈ２ｏ中４２．
２χ、０．０３モル）と５時間反応させられた。得られ
た透□明黄色の液が、２４時間の間透析され、水が通風
式の炉内において８０℃で除去され、得られた黄色の残
留ゴムのアセトンに煙され、アモルファスな蒸発残留物
が得られた。
オクチルチオ）−１−ブＯピルオキシ］−２．３−エポ
キシプ０パンおよびｌ−［（１，１，２，，２−テトラ
ヒトＯバーフルオ０−オクチルチオ）−２−プロピルオ
キシ］−２．３−エボキシブＯパンの１０＝１の異性体
混合物（＋４．８９ 、０゜０３モル）を、４２．２９
の２−プロパノールと１０９の脱イオン水との混合物に
３解した液が、窯素気流下６０℃にお（八で、トメチル
タウリンのナトリウム塩（１１，４９、Ｈ２ｏ中４２．
２χ、０．０３モル）と５時間反応させられた。得られ
た透□明黄色の液が、２４時間の間透析され、水が通風
式の炉内において８０℃で除去され、得られた黄色の残
留ゴムのアセトンに煙され、アモルファスな蒸発残留物
が得られた。
Ｃ１０１１２３ＦＩＮ Ｎ ０５Ｓ２ Ｎａ に対
する元素分析値は、 計’１４＠ 実測値 Ｃ３１，８χ ３ｔ、６ ｍ Ｈ３，５８χ ３．５χ Ｎ 、２．．１８χ ２．０χＦ ３８．
５ χ ３８．５χ異性体混合物は、 および となっている。
する元素分析値は、 計’１４＠ 実測値 Ｃ３１，８χ ３ｔ、６ ｍ Ｈ３，５８χ ３．５χ Ｎ 、２．．１８χ ２．０χＦ ３８．
５ χ ３８．５χ異性体混合物は、 および となっている。
Claims (10)
- （１）次式 I で表わされるパーフルオロアルキル−ア
ルキルチオ−、−スルフィニル−あるいは−スルホニル
−アルキレングリシジルエーテル類。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中、Ｒ＾ｆは直鎖状あるいは分枝鎖状であって炭素
原子数が３から１８迄のパーフルオロアルキル基あるい
は炭素原子数が３から１８迄のパーフルオロアルコキシ
パーフルオロアルキル基であり、Ｒ＾１は直鎖状あるい
は分枝鎖状であって炭素原子数が６迄のアルキレン基、
カルボオキシアミドアルキレン基あるいはスルホンアミ
ドアルキレン基であり、該アミド基の窒素原子は置換さ
れていないかあるいは低級アルキル基により置換されて
お り、ｍは０、１あるいは２であり、Ｒは直鎖状あるいは
分枝鎖状であって炭素原子数が２から１２迄のアルキレ
ン基である。） - （２）Ｒ＾ｆがパーフルオロアルキル基である特許請求
の範囲第１項記載の化合物。 - （３）Ｒ＾ｆが炭素原子数６から１２迄の直鎖状パーフ
ルオロアルキル基あるいはこれ等の混合物である特許請
求の範囲第２項記載の化合物。 - （４）Ｒ＾１が炭素原子数２から６迄の直鎖状アルキレ
ン基である特許請求の範囲第１項記載の化合物。 - （５）Ｒ＾１がエチレン基である特許請求の範囲第４項
記載の化合物。 - （６）ｍが０あるいは２である特許請求の範囲第１項記
載の化合物。 - （７）Ｒが炭素原子数３の直鎖状あるいは分枝鎖状アル
キレン基である特許請求の範囲第１項記載の化合物。 - （８）Ｒ＾１がエチレン基であり、ｍが０である特許請
求の範囲第７項記載の化合物。 - （９）次式 I で表わされる特許請求の範囲第１項記載
の化合物の製法において、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中、Ｒ＾ｆは直鎖状あるいは分枝鎖状であって炭素
原子数が３から１８迄のパーフルオロアルキル基あるい
は炭素原子数３から１８迄のパーフルオロアルコキシパ
ーフルオロアルキル基であり、Ｒ＾１は直鎖状あるいは
分枝鎖状であって炭素原子数が６迄のアルキレン基、カ
ルボオキシアミドアルキレン基あるいはスルホンアミド
アルキレン基であり、該アミド基の窒素原子は置換され
ていないかあるいは低級アルキル基により置換されてお
り、ｍは０、１あるいは２であり、Ｒは直鎖状あるいは
分枝鎖状であって炭素原子数２から１２迄のアルキレン
基である。〕 （ａ）次式IIで表わされるメルカプタンを Ｒ＾ｆ−Ｒ＾１−ＳＨ（II） 〔式中、Ｒ＾ｆおよびＲ＾１は上記と同じ定義を有する
〕次式IIIで表わされるアルケニルグリシジルエーテル ▲数式、化学式、表等があります▼（III） 〔式中、Ｒ′は式 I のアルキレン基Ｒに対応する炭素
原子数２から１２迄のアルケニル基〕と反応させて、ｍ
が０である場合の式 I の化合物が生成させるか、ある
いは （ｂ）次式IVで表わされるアルコールを Ｒ＾ｆ−Ｒ＾１−Ｓ（Ｏ）ｍ−Ｒ−ＯＨ（IV）〔式中、
Ｒ＾ｆ、Ｒ＾１、ｍおよびＲは上記と同じ定義を有する
。〕次式Ｖで表わされるエピハロヒドリン ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） 〔式中、Ｘはハロゲン、好ましくは塩素である。〕と反
応させて、次式VIで表わされる、対応するハロヒドリン
を生成させ ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） 〔式中、Ｒ＾ｆ、Ｒ＾１、ｍ、ＲおよびＸは上記と同じ
定義を有する。） 次いでハロゲン化水素ＨＸを除去する為の脱ハロゲン化
水素反応に付して対応する式 I のグリシジルエーテル
を生成させることを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載の化合物の製法。 - （１０）界面活性を有しパーフルオロアルキル基を含有
する界面活性剤の製造において特許請求の範囲第１項記
載の式 I の化合物の使用する方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US696552 | 1985-01-30 | ||
| US06/696,552 US4577036A (en) | 1985-01-30 | 1985-01-30 | Perfluoroalkyl-alkyl-thio, sulfinyl or sulfonyl-alkylene glycidyl ether |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61180779A true JPS61180779A (ja) | 1986-08-13 |
Family
ID=24797534
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61016014A Pending JPS61180779A (ja) | 1985-01-30 | 1986-01-29 | パ‐フルオロアルキル‐アルキルチオ‐、‐スルフイニル‐あるいは‐スルホニル‐アルキレングリシジルエーテル類、これ等の製法およびこれ等の使用 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4577036A (ja) |
| EP (1) | EP0190992A3 (ja) |
| JP (1) | JPS61180779A (ja) |
| CA (1) | CA1244457A (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3615520A1 (de) * | 1986-05-07 | 1987-11-12 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von 2,3-epoxyamiden |
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