JPS61180779A - パ‐フルオロアルキル‐アルキルチオ‐、‐スルフイニル‐あるいは‐スルホニル‐アルキレングリシジルエーテル類、これ等の製法およびこれ等の使用 - Google Patents
パ‐フルオロアルキル‐アルキルチオ‐、‐スルフイニル‐あるいは‐スルホニル‐アルキレングリシジルエーテル類、これ等の製法およびこれ等の使用Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
- C07D303/12—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms
- C07D303/18—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms by etherified hydroxyl radicals
- C07D303/20—Ethers with hydroxy compounds containing no oxirane rings
- C07D303/22—Ethers with hydroxy compounds containing no oxirane rings with monohydroxy compounds
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Emulsifying, Dispersing, Foam-Producing Or Wetting Agents (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、次式1で表わされる新規なパーフルオロア
ルキル−アルキルチオ−1−スルフィニル−および−ス
ルホニル−アルキレングリシジルエーテル類に関する。
ルキル−アルキルチオ−1−スルフィニル−および−ス
ルホニル−アルキレングリシジルエーテル類に関する。
(式中、RtはかWINIA状あるいは分枝II杖であ
って炭素原子数が3から18迄のパーフルオロアルキル
基あるいは炭素原子数3から18迄のパーフルオロアル
コキシパーフルオロアルキル Mm状あるいは分枝霧状であって炭素原子数が6迄の、
アルキレン基、カルボオキシアミドアルキレン基あるい
はスルホンアミドアルキレジ基であり、該アミド基の窒
素原子は置換されていないかあるいは低級アルキル基に
より置換されており、mは0、1あるいは2であり、B
は直鎖状あるいは分枝鎖状であって炭素原子数2から1
2迄のアルキレン基である.) この発明における低級アルキル基とは1から6迄の、好
ましくは1から4迄の炭素原子数を有するアルキル基を
意味する。
って炭素原子数が3から18迄のパーフルオロアルキル
基あるいは炭素原子数3から18迄のパーフルオロアル
コキシパーフルオロアルキル Mm状あるいは分枝霧状であって炭素原子数が6迄の、
アルキレン基、カルボオキシアミドアルキレン基あるい
はスルホンアミドアルキレジ基であり、該アミド基の窒
素原子は置換されていないかあるいは低級アルキル基に
より置換されており、mは0、1あるいは2であり、B
は直鎖状あるいは分枝鎖状であって炭素原子数2から1
2迄のアルキレン基である.) この発明における低級アルキル基とは1から6迄の、好
ましくは1から4迄の炭素原子数を有するアルキル基を
意味する。
好ましいHeはパーフルオロアルキル基である。
より好ましいHlは、I[鎖状のパーフルオロアルキル
基である.特に好ましいR−基は6から12迄の炭素原
子数を有する。パーフルオロアルキル基類の混合物類が
しばしば有利である。
基である.特に好ましいR−基は6から12迄の炭素原
子数を有する。パーフルオロアルキル基類の混合物類が
しばしば有利である。
甲は、好ましくは炭素原子数が2から6迄の、より好ま
しくは2かう4迄のam状アルキレン基とされ、最も好
ましいものはエチレン基とされる。
しくは2かう4迄のam状アルキレン基とされ、最も好
ましいものはエチレン基とされる。
mの好ましい値は0あるいは2である。
Rは、好ましくは直鎖状あるいは分枝鎖状の炭素原子数
2から6迄の、より好ましくは2から4迄のアルキレン
基とされる。最も好ましいRは、直頻杖あるいは分枝鎖
状の炭素原子数3のアルキレン基である。
2から6迄の、より好ましくは2から4迄のアルキレン
基とされる。最も好ましいRは、直頻杖あるいは分枝鎖
状の炭素原子数3のアルキレン基である。
式1の化合物は、一般的に知られている方法により製造
することが出来る。
することが出来る。
例えば、mtJ(oである式Iの化合物は、次式■で表
わされるメルカプタン類を Rf −R鳳−SH(II) (この式■のR1およびR1が上記と同じ定liを有す
る。)次式mで表わされるアルケニルグリシジルエーテ
ル類 〔この弐■の口°が、式1のアルキレン基Rに対応する
炭素原子数2から12迄のアルケニル基とされる。〕と
反応させて製造することが出来る。この反応は、例えば
アゾ型の遊離ラジカル触媒の如き、遊離ラジカル触媒の
存在下に都合よ〈実施される。
わされるメルカプタン類を Rf −R鳳−SH(II) (この式■のR1およびR1が上記と同じ定liを有す
る。)次式mで表わされるアルケニルグリシジルエーテ
ル類 〔この弐■の口°が、式1のアルキレン基Rに対応する
炭素原子数2から12迄のアルケニル基とされる。〕と
反応させて製造することが出来る。この反応は、例えば
アゾ型の遊離ラジカル触媒の如き、遊離ラジカル触媒の
存在下に都合よ〈実施される。
この反応の反応温度とアゾ型の遊離ラジカル触媒の選択
とは、相互に依存するものと考えられる。40℃から1
00℃迄の反応温度範囲は、一つの選択であり、この場
合には望ましくない副生物の生成が最小化され、反応生
成物が安定である。この反応温度範囲で適当な反応速度
を達成する為に、この温度範囲において適当な程度に反
応性のあるアゾ型の触媒を使用することが望ましい。
とは、相互に依存するものと考えられる。40℃から1
00℃迄の反応温度範囲は、一つの選択であり、この場
合には望ましくない副生物の生成が最小化され、反応生
成物が安定である。この反応温度範囲で適当な反応速度
を達成する為に、この温度範囲において適当な程度に反
応性のあるアゾ型の触媒を使用することが望ましい。
従って、半減期間が1時間となる温度として40・から
100℃迄を有するアゾ型の遊離ラジカル触媒の使用が
好ましい。
100℃迄を有するアゾ型の遊離ラジカル触媒の使用が
好ましい。
適当な不活性溶媒は、反応物が反応温度において溶媒中
に溶解される様なものであって、ヘプタン、メチルシク
ロヘキサン、ベンゼン、トルエンの如き脂肪族あるいは
芳香族の炭化水素類、メチレンクロライト、りOOホル
ム、メチルクOOホルム、四塩化炭素、トリクロロエチ
レン、パークロ0エチレン、1,1.2−トリフルオC
1−1.2.2−トリクOロエタンの如きフレオン類、
りOロベンゼン、ペンシトリフルオライドあるいはテト
ラフルオロキシレンの如き塩素化されたあるいはふっ素
化された脂肪族あるいは芳香族の炭化水素類、アセトン
、メチルインブチルケトン、酢酸エチルおよびより高級
な同族体、ジアルキルエーテル、テトラヒトOフラン、
エチレングリコールのモノメチルあるいはモノエチルエ
ーテル、エチレングリコールのジメチルあるいはジエチ
ルエーテルの如きケトン類、エステル類およびエーテル
類、アセトニトリルの如きニトリル類等がある。
に溶解される様なものであって、ヘプタン、メチルシク
ロヘキサン、ベンゼン、トルエンの如き脂肪族あるいは
芳香族の炭化水素類、メチレンクロライト、りOOホル
ム、メチルクOOホルム、四塩化炭素、トリクロロエチ
レン、パークロ0エチレン、1,1.2−トリフルオC
1−1.2.2−トリクOロエタンの如きフレオン類、
りOロベンゼン、ペンシトリフルオライドあるいはテト
ラフルオロキシレンの如き塩素化されたあるいはふっ素
化された脂肪族あるいは芳香族の炭化水素類、アセトン
、メチルインブチルケトン、酢酸エチルおよびより高級
な同族体、ジアルキルエーテル、テトラヒトOフラン、
エチレングリコールのモノメチルあるいはモノエチルエ
ーテル、エチレングリコールのジメチルあるいはジエチ
ルエーテルの如きケトン類、エステル類およびエーテル
類、アセトニトリルの如きニトリル類等がある。
都合のよい場合には、この付加反応をバルクで、即ち溶
媒を使用することなく、実施することが好ましい。
媒を使用することなく、実施することが好ましい。
通常のアゾ型遊離ラジカル触媒の選択は、決定的な事項
ではないが、2.2′−アゾビス(2,4−ジメチルム
レ0ニトリル)が好都合なものとして見出されている。
ではないが、2.2′−アゾビス(2,4−ジメチルム
レ0ニトリル)が好都合なものとして見出されている。
式Iの化合物I#を製造する一つの代替法として、弐■
で表わされるアルコール類と、R’ −R’ −3(0
)m −R−0)1
(IV )〔式中、R1,R1,mおよび8は上記と
同じ定義を有する。〕 次式Vで表わされるエビハロヒドリン (式中、Xはハロゲン、好ましくは塩素である。) との付加反応により、次式■で表わされる対応するハロ
ヒドリン R’ −R’ −3(0)m−R−OClhFH−C1
h X (Vl )H (式中、Hf、 R1,m%BおよびXは上記ト同じ定
義を有する。) が生成させられ、次いでハロゲン化水素HXを除去する
為の脱ハロゲン化水素反応が実施されて対応する式Iの
グリシジルエーテルが生成させられる製法がある。
で表わされるアルコール類と、R’ −R’ −3(0
)m −R−0)1
(IV )〔式中、R1,R1,mおよび8は上記と
同じ定義を有する。〕 次式Vで表わされるエビハロヒドリン (式中、Xはハロゲン、好ましくは塩素である。) との付加反応により、次式■で表わされる対応するハロ
ヒドリン R’ −R’ −3(0)m−R−OClhFH−C1
h X (Vl )H (式中、Hf、 R1,m%BおよびXは上記ト同じ定
義を有する。) が生成させられ、次いでハロゲン化水素HXを除去する
為の脱ハロゲン化水素反応が実施されて対応する式Iの
グリシジルエーテルが生成させられる製法がある。
式Iの化合物類を製造する為の上記代替法においては、
弐■のアルコールと、エピクロールヒドリンの如きハロ
ヒドリンとが、無溶媒あるいは通常の乾燥した非プロト
ン性溶媒、例えばアセトンあるいはメチルエチルケトン
の如きケトン類、ジエチルエーテル、エチレングリコー
ルジメチルエーテルあるいはテトラヒトOフランの如き
エーテル類、酢酸エチルあるいはメチルセロソルブアセ
テートの如きエステル類、ベンゼンあるいはトルエンの
如き芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミドあるいは
N−メチルピロリドンの如きアミド類あるいはラクタム
類、中で反応させられる。このハロヒドリン中間体の生
成を促進する為に、三ふフ化はう素(通常そのジエチル
エーテル複合物として)あるいは塩化アルミニウムの如
きルイス酸触媒が使用される0反応が無溶媒下に実施さ
れる場合には、その化合物の融点以上の温度において、
三ふっ化はう素エーテラートを用いて実施するのが有利
である0反応は通常発熱反応である。
弐■のアルコールと、エピクロールヒドリンの如きハロ
ヒドリンとが、無溶媒あるいは通常の乾燥した非プロト
ン性溶媒、例えばアセトンあるいはメチルエチルケトン
の如きケトン類、ジエチルエーテル、エチレングリコー
ルジメチルエーテルあるいはテトラヒトOフランの如き
エーテル類、酢酸エチルあるいはメチルセロソルブアセ
テートの如きエステル類、ベンゼンあるいはトルエンの
如き芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミドあるいは
N−メチルピロリドンの如きアミド類あるいはラクタム
類、中で反応させられる。このハロヒドリン中間体の生
成を促進する為に、三ふフ化はう素(通常そのジエチル
エーテル複合物として)あるいは塩化アルミニウムの如
きルイス酸触媒が使用される0反応が無溶媒下に実施さ
れる場合には、その化合物の融点以上の温度において、
三ふっ化はう素エーテラートを用いて実施するのが有利
である0反応は通常発熱反応である。
一般的には、このへ〇ヒドリン中間体を単離する必要が
なく、式1の前記グリシジルエーテルを製造する為、前
記の脱ハロゲン化水素反応を、同一の反応容器内で実施
出来る。
なく、式1の前記グリシジルエーテルを製造する為、前
記の脱ハロゲン化水素反応を、同一の反応容器内で実施
出来る。
弐■の上記ハロヒドリンから式Iのグリシジルエーテル
を製造する為の脱ハロゲン化水素反応は、弐■のハロヒ
ドリンを塩基、好ましくはその化学量論的な量あるいは
少し過剰な量、と接触させることにより有利に達成され
る。
を製造する為の脱ハロゲン化水素反応は、弐■のハロヒ
ドリンを塩基、好ましくはその化学量論的な量あるいは
少し過剰な量、と接触させることにより有利に達成され
る。
適当な塩基としでは、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、ピリジン、ルチジンおよびトリエチルアミン等があ
る。好都合にする為に、原料反応物および所望の製品を
溶解するが副生物の塩を溶解しない溶媒が選択され、反
応の進行と共にこの塩が沈澱し、次いでろ過の如き通常
の方法により除去出来る。
ム、ピリジン、ルチジンおよびトリエチルアミン等があ
る。好都合にする為に、原料反応物および所望の製品を
溶解するが副生物の塩を溶解しない溶媒が選択され、反
応の進行と共にこの塩が沈澱し、次いでろ過の如き通常
の方法により除去出来る。
この脱ハロゲン化水素反応は、水/低級アルカノール溶
媒系あるいは水/トルエン系の如き水/有機炭化水素溶
媒系において、20℃ヒ100℃の間の温度で都合よく
実行される0反応が2相溶媒系で実施される場合には、
この反応を促進する為に、ジドデシルジメチルアンモニ
ウム水酸化物あるいはテトラブチルアンモニウム水素硫
酸塩の如き相間移動触媒を使用することが出来る。
媒系あるいは水/トルエン系の如き水/有機炭化水素溶
媒系において、20℃ヒ100℃の間の温度で都合よく
実行される0反応が2相溶媒系で実施される場合には、
この反応を促進する為に、ジドデシルジメチルアンモニ
ウム水酸化物あるいはテトラブチルアンモニウム水素硫
酸塩の如き相間移動触媒を使用することが出来る。
典型的には、50zの水酸化ナトリウム溶液の如き塩基
の化学量論的量が、反応混合物に徐々に添加される。生
起する反応は発熱反応であり、式1の所望のエポキサイ
ドを生成させる為に、反応温度は、例えば1−3時間の
間撹拌しつつ、20°−60℃の間に保持されるのが有
利である。
の化学量論的量が、反応混合物に徐々に添加される。生
起する反応は発熱反応であり、式1の所望のエポキサイ
ドを生成させる為に、反応温度は、例えば1−3時間の
間撹拌しつつ、20°−60℃の間に保持されるのが有
利である。
副生物の塩はエポキサイド中間体から除去され、残存す
る溶媒は真空蒸留により除去される。
る溶媒は真空蒸留により除去される。
生成物は、更に精製されることなく、あるいは必要に応
じ蒸留されて、使用される。
じ蒸留されて、使用される。
この発明のエポキシ基を含有するパーフルオロアルキル
基は、反応性が非常に強く、高度に表面活性なふっ素含
有界面活性剤を製造する為に使用出来る。
基は、反応性が非常に強く、高度に表面活性なふっ素含
有界面活性剤を製造する為に使用出来る。
上記により、式1の化合物類は、トリメチルアミシー三
酸化硫黄、トメチルどロリドシー三酸化硫黄およびとれ
等に類似のものの如きアミン−三酸化硫黄複合物類と反
応し、低い表面および界面張力特性を有する有用な界面
活性剤を製造することが出来る。その際の反応は、米国
特許4、435.330 の一般的および特別な開示
に従って実施出来る。この結果として得られるスルファ
トベタイン系界面活性剤類は、洗浄剤類、床ワツクス類
の為の平滑剤(leveling agent)類およ
び消火剤組成物における対水湿潤剤としての用途が見出
されている。
酸化硫黄、トメチルどロリドシー三酸化硫黄およびとれ
等に類似のものの如きアミン−三酸化硫黄複合物類と反
応し、低い表面および界面張力特性を有する有用な界面
活性剤を製造することが出来る。その際の反応は、米国
特許4、435.330 の一般的および特別な開示
に従って実施出来る。この結果として得られるスルファ
トベタイン系界面活性剤類は、洗浄剤類、床ワツクス類
の為の平滑剤(leveling agent)類およ
び消火剤組成物における対水湿潤剤としての用途が見出
されている。
式1の化合物類との反応に使用する為に適当なアミン−
三酸化硫黄複合物類は、次式■で表わされる複合物類で
ある。
三酸化硫黄複合物類は、次式■で表わされる複合物類で
ある。
S
C式中、R5、R6およびR7はそれぞれ独立に低級ア
ルキル基であり、またR6はベンジル基であってもよく
、更に、R6およびR7は、両者が結合している窒素原
子と共に合同してピペリジノ基あるいはモルフィリノ基
を構成するか、あるいはR5、R6およびR7は、これ
等3者が一緒に結合しでいる窒素原子と共にピリジル基
、アクリジル基あるいきキノリル基を構成していてもよ
い、〕式Iのグリシジルエーテル類と式■のアミン−=
酸化硫黄複合物類との反応は、所望の場合にはN−メチ
ルとロリドンの如き溶媒の存在下に、両者の化学量論的
量を300から180℃の間の温度で反応させることに
より有利に生起される。
ルキル基であり、またR6はベンジル基であってもよく
、更に、R6およびR7は、両者が結合している窒素原
子と共に合同してピペリジノ基あるいはモルフィリノ基
を構成するか、あるいはR5、R6およびR7は、これ
等3者が一緒に結合しでいる窒素原子と共にピリジル基
、アクリジル基あるいきキノリル基を構成していてもよ
い、〕式Iのグリシジルエーテル類と式■のアミン−=
酸化硫黄複合物類との反応は、所望の場合にはN−メチ
ルとロリドンの如き溶媒の存在下に、両者の化学量論的
量を300から180℃の間の温度で反応させることに
より有利に生起される。
代替法として、式1の化合物類は、次式■で表示される
アミノ酸と反応させることもできる。
アミノ酸と反応させることもできる。
(式中、ReおよびR9は水素あるいは低級アルキル基
であり、2はカルボキシ基、スルホ基、ホスホロ基ある
いはホスホノ基で置換されている炭素原。
であり、2はカルボキシ基、スルホ基、ホスホロ基ある
いはホスホノ基で置換されている炭素原。
子数12迄のアルキレン基である。〕式■で表わされる
化合物の適当なものには、グリシン、アラニン、アスパ
ラギン酸、サルコシン、2−アミノエチル−水素−燐酸
、タウリンおよびメチルタウリン等が含まれる。スルホ
基、ホスホロ基あるいはホスホノ基は、酸素原子を経由
するかあるいはM接に硫黄あるいは増の原子が2基のア
ルキレン基に結合している様な硫黄あるいは燐を有する
酸性基WIヲ意味している0例としては、−3(0)O
H1−3(Oh叶、−0S(0)OH1−O3(02)
叶、−P(OH)2、−P(0)(OH)2、−0P(
OH)2、−0P(0)(OH)2等がある。
化合物の適当なものには、グリシン、アラニン、アスパ
ラギン酸、サルコシン、2−アミノエチル−水素−燐酸
、タウリンおよびメチルタウリン等が含まれる。スルホ
基、ホスホロ基あるいはホスホノ基は、酸素原子を経由
するかあるいはM接に硫黄あるいは増の原子が2基のア
ルキレン基に結合している様な硫黄あるいは燐を有する
酸性基WIヲ意味している0例としては、−3(0)O
H1−3(Oh叶、−0S(0)OH1−O3(02)
叶、−P(OH)2、−P(0)(OH)2、−0P(
OH)2、−0P(0)(OH)2等がある。
式■のアミノ酸(こ対する式Iのグリシジルエポキサイ
ドの付加は、塩基が触媒となる1:1の反応であって、
単一相中で最も容易に生起する反応である。この単−相
は、一般的に、メクノール、イソブOパノール、ブトキ
シェタノールおよびこれ等に類似のものの如き適当に選
択された水と混合し得る共溶媒を含有する水性混合溶媒
として用意される。この反応は一般的に、256から2
00℃迄の闇の、好ましくは500から130℃迄の闇
の温度で実施される。
ドの付加は、塩基が触媒となる1:1の反応であって、
単一相中で最も容易に生起する反応である。この単−相
は、一般的に、メクノール、イソブOパノール、ブトキ
シェタノールおよびこれ等に類似のものの如き適当に選
択された水と混合し得る共溶媒を含有する水性混合溶媒
として用意される。この反応は一般的に、256から2
00℃迄の闇の、好ましくは500から130℃迄の闇
の温度で実施される。
この反応は、反応物が充分に塩基性である場合あるいは
アルカリ水酸化物、イオン交換触媒あるいは反応しない
塩基、例えばトリインプロどルアミン、によりアルカリ
性pH値にされている場合に、無触媒で進行され得る。
アルカリ水酸化物、イオン交換触媒あるいは反応しない
塩基、例えばトリインプロどルアミン、によりアルカリ
性pH値にされている場合に、無触媒で進行され得る。
この反応の生成物類は、一般的に単離しなくても有用で
あるが、酸性側のpH値に依存して、等電子的(iso
electronic)な中性塩類として、あるいはア
ルカリ金属塩類またはアシモニウム塩類として単離する
ことも出来る。ト低棹アルキルあ矛いはN−ベンジルの
第4級機能を有する完全に第4級化ざりた誘導体類は、
一般に両性イオン化合物類あるいは酸付加物、例えば塩
化水素付加物として単離される。
あるが、酸性側のpH値に依存して、等電子的(iso
electronic)な中性塩類として、あるいはア
ルカリ金属塩類またはアシモニウム塩類として単離する
ことも出来る。ト低棹アルキルあ矛いはN−ベンジルの
第4級機能を有する完全に第4級化ざりた誘導体類は、
一般に両性イオン化合物類あるいは酸付加物、例えば塩
化水素付加物として単離される。
こうして得られる両性化合物は、加水分解に対して非常
に安定であり、界面活性剤および湿潤剤として非常に多
くの用途を有する。これ等は、容易に入手可能なアミノ
酸類およびある程度容易に入手出来るふっ素化されたエ
ポキサイド類から誘導される故、特に有用な組成物類を
構成する。
に安定であり、界面活性剤および湿潤剤として非常に多
くの用途を有する。これ等は、容易に入手可能なアミノ
酸類およびある程度容易に入手出来るふっ素化されたエ
ポキサイド類から誘導される故、特に有用な組成物類を
構成する。
弐■のアルコール類は、知られでいる6、周知の化合物
類から、それ自体がよく知られている方法により容易に
製造出来る。こうして、例えば、式■のアルコール類は
、前記式■のメルカプタンを、次式■で表わされるハロ
アルカノール類、X−R−OH(IX) (式中、XおよびRは上記と同じ定義を有する。) あるいは次式Xで表わされる不飽和アルコール類R’−
〇〇 (X)(式中、口°は
前記と同じ定義を有する。
類から、それ自体がよく知られている方法により容易に
製造出来る。こうして、例えば、式■のアルコール類は
、前記式■のメルカプタンを、次式■で表わされるハロ
アルカノール類、X−R−OH(IX) (式中、XおよびRは上記と同じ定義を有する。) あるいは次式Xで表わされる不飽和アルコール類R’−
〇〇 (X)(式中、口°は
前記と同じ定義を有する。
反応させることにより、容易に製造出来る。
式■化合物と式■化合物との反応は、両者の化学量論的
量を、生成するハロゲン化水素酸を除去する為の塩基の
存在下に、不活性溶媒の存在下あるいは不存在下に、3
0・から120℃の闇の反応温度で、例えば水で洗浄す
る方法により副生物の塩を除去しつつ反応させることに
より、客昌に実施することが出来る。この場合の適当な
塩基には、アルカリ金属の水酸化物類および炭酸塩類、
アルカリ土類金属の水酸化物類およびカルバメート類、
およびトリメチルアミンあるいはピリジンの如きアミン
類が含まれる0反応中にあっては、生成するハロゲン化
水素の全てと反応させる為に充分な量の塩基を添加しな
ければならない、溶媒を使用する場合の適当な溶媒には
、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホオキサイド、低
級アルカノール類およびこれ等に類似のものが含まれる
。
量を、生成するハロゲン化水素酸を除去する為の塩基の
存在下に、不活性溶媒の存在下あるいは不存在下に、3
0・から120℃の闇の反応温度で、例えば水で洗浄す
る方法により副生物の塩を除去しつつ反応させることに
より、客昌に実施することが出来る。この場合の適当な
塩基には、アルカリ金属の水酸化物類および炭酸塩類、
アルカリ土類金属の水酸化物類およびカルバメート類、
およびトリメチルアミンあるいはピリジンの如きアミン
類が含まれる0反応中にあっては、生成するハロゲン化
水素の全てと反応させる為に充分な量の塩基を添加しな
ければならない、溶媒を使用する場合の適当な溶媒には
、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホオキサイド、低
級アルカノール類およびこれ等に類似のものが含まれる
。
式■のメルカプクンと式Xの不飽和アルコールとの反応
により、対応する弐■のアルコールを得るに際し、この
簡単な付加反応は、アゾ型の遊離ラジカル開始剤、例え
ば2.2′−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリ
ル)の如き遊離ラジカル開始剤の存在下に、またテトラ
ヒト0フラン、メチルエチルケトン、ジメチルスルホオ
キサイドあるいはこれ等に類似のものの如き不活性溶媒
の存在下あるいは不存在下に、約30・と100℃の間
の反応温度で、簡便に実施出来る。
により、対応する弐■のアルコールを得るに際し、この
簡単な付加反応は、アゾ型の遊離ラジカル開始剤、例え
ば2.2′−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリ
ル)の如き遊離ラジカル開始剤の存在下に、またテトラ
ヒト0フラン、メチルエチルケトン、ジメチルスルホオ
キサイドあるいはこれ等に類似のものの如き不活性溶媒
の存在下あるいは不存在下に、約30・と100℃の間
の反応温度で、簡便に実施出来る。
弐■の化合物類のmが1あるいは2に等しいものを、対
応するmが0のチオエーテルアルコールから得る為に、
弐■のチオエーテルアルコールが、酸化剤により酸化さ
れる。適当な酸化剤には、酢酸の如き有機酸溶媒中の過
酸化水素が含まれる。この反応は、約30’と100℃
の闇の反応温度で、チオエーテルアルコールが対応する
スルホオキサイドあるいはスルホンに転換される迄実施
される。一般的には、比較的低い、例えば30°と50
℃の間の温度が、m=1のスルホオキサイドの生成を容
易にするのに対し、より高い、例えば約50°と100
℃の間の温度が対応するスルホン類の生成に好都合であ
る。更に、スルホオキサイドの生成は、1:1のモル比
に使用される過酸化物の量を減少させることにより強化
されるのに対し、スルホン類の生成には過酸化物の実質
的な過剰が好都合である。
応するmが0のチオエーテルアルコールから得る為に、
弐■のチオエーテルアルコールが、酸化剤により酸化さ
れる。適当な酸化剤には、酢酸の如き有機酸溶媒中の過
酸化水素が含まれる。この反応は、約30’と100℃
の闇の反応温度で、チオエーテルアルコールが対応する
スルホオキサイドあるいはスルホンに転換される迄実施
される。一般的には、比較的低い、例えば30°と50
℃の間の温度が、m=1のスルホオキサイドの生成を容
易にするのに対し、より高い、例えば約50°と100
℃の間の温度が対応するスルホン類の生成に好都合であ
る。更に、スルホオキサイドの生成は、1:1のモル比
に使用される過酸化物の量を減少させることにより強化
されるのに対し、スルホン類の生成には過酸化物の実質
的な過剰が好都合である。
同様に式Iの化合物類のm=0のものは、例えばりOO
ホルムあるいはこれに類似のものの様なへOゲフ化炭化
水素の如き不活性溶媒の存在下、約10℃から約50℃
迄の闇の温度において、例えば過安息香酸、メタ−クロ
ール過安息香酸等の如きグリシジルの部分に作用しない
適当な酸化系を使用する酸化により、対応するスルホオ
キサイド類およびスルホン類、即ちmが1あるいは2の
ものに、変換出来る。この場合においても、高目の温度
と過酸化物の過剰は、スルホンの生成に好都合である。
ホルムあるいはこれに類似のものの様なへOゲフ化炭化
水素の如き不活性溶媒の存在下、約10℃から約50℃
迄の闇の温度において、例えば過安息香酸、メタ−クロ
ール過安息香酸等の如きグリシジルの部分に作用しない
適当な酸化系を使用する酸化により、対応するスルホオ
キサイド類およびスルホン類、即ちmが1あるいは2の
ものに、変換出来る。この場合においても、高目の温度
と過酸化物の過剰は、スルホンの生成に好都合である。
この発明は、この発明を制限する意味を有しない次の実
施例を参照することにより一層明らかになる。この実施
例で使用される部は、特に断りのない限り、重量によっ
ている。
施例を参照することにより一層明らかになる。この実施
例で使用される部は、特に断りのない限り、重量によっ
ている。
[実施例 1]
1−アリルオキシ−2,3−エポキシブOパン(24,
19,0,212モル)と2.2′−アゾビス(2,4
−ジメチルバレロニトリルX0.999.0.004モ
ル)との混合物が、119のトルエンに(+、1.2.
2−テトラヒトOバーフルオOオクタン)チオール(7
?、269゜0.202モル)が溶解した溶液中に、6
0・−75℃において40分間の間に滴下された0反応
混合物は、65°−70℃の温度において3時間に亙っ
て撹拌され、トルエンが、アスピレータ−の真空(25
mm)下に80℃において蒸留除去され、次式の異性体
(A)および(8)の比が10:1からなる、99.2
9 (理論値の99χ)の無色透明な液が得られた。
19,0,212モル)と2.2′−アゾビス(2,4
−ジメチルバレロニトリルX0.999.0.004モ
ル)との混合物が、119のトルエンに(+、1.2.
2−テトラヒトOバーフルオOオクタン)チオール(7
?、269゜0.202モル)が溶解した溶液中に、6
0・−75℃において40分間の間に滴下された0反応
混合物は、65°−70℃の温度において3時間に亙っ
て撹拌され、トルエンが、アスピレータ−の真空(25
mm)下に80℃において蒸留除去され、次式の異性体
(A)および(8)の比が10:1からなる、99.2
9 (理論値の99χ)の無色透明な液が得られた。
テトラブチルアンモニウムよう化物の存在下における過
塩素酸による滴定は、509(理論値は494)の当量
モル重量を示した。核磁気共鳴は、ブOトン共鳴として
、6の1.85に2個のプロトン(−3C)Iz州2C
H2O)、6の2.37に2個のプロトン(C6F13
吐2”2) 、6の2.69に6個のブOトン 6の3.33および6の3.71に2個のプロトン(〇
−団、)、6の3.57に2個のプロトン(C当0CH
2)を示した。Cl4)1監S F +3 o、 Sに
対する元素分析値として、 計算値 C34,0、H3,0 実測値 C33,9、■3.0 を得た。
塩素酸による滴定は、509(理論値は494)の当量
モル重量を示した。核磁気共鳴は、ブOトン共鳴として
、6の1.85に2個のプロトン(−3C)Iz州2C
H2O)、6の2.37に2個のプロトン(C6F13
吐2”2) 、6の2.69に6個のブOトン 6の3.33および6の3.71に2個のプロトン(〇
−団、)、6の3.57に2個のプロトン(C当0CH
2)を示した。Cl4)1監S F +3 o、 Sに
対する元素分析値として、 計算値 C34,0、H3,0 実測値 C33,9、■3.0 を得た。
[実施例 2]
1.1.2.2−テトラヒドロパーフルオロアルキルチ
オール(yi素原子数の分布で、C4が2.1χ、C6
が37.6χ、ちが34.3χ、CI6が19.0χ、
CI2が5.5χ、CI4が1.0χの混合物) (2
79,69,0,615モル)と1−アリルオキシ−2
,3−エポキシプロパン(73,69,0,646モル
)および2.2′−アゾとス(2,4−ジメチルバレロ
ニトリル)(3,05g、0.012モル)の溶液が、
窺素気流下に60℃の温度において、90分間の間に亙
り、2個の滴下漏斗から平行的に反応フラスコ中に滴下
された。清下稜反応混合物は、60℃においで1時間撹
拌され、淡黄色のゲル342.79(理論値の98χ)
を得た。ガスクロマトグラフ分析は、次式の異性体(A
)およびCB)の比が10:1のもの99χの結果を示
した。
オール(yi素原子数の分布で、C4が2.1χ、C6
が37.6χ、ちが34.3χ、CI6が19.0χ、
CI2が5.5χ、CI4が1.0χの混合物) (2
79,69,0,615モル)と1−アリルオキシ−2
,3−エポキシプロパン(73,69,0,646モル
)および2.2′−アゾとス(2,4−ジメチルバレロ
ニトリル)(3,05g、0.012モル)の溶液が、
窺素気流下に60℃の温度において、90分間の間に亙
り、2個の滴下漏斗から平行的に反応フラスコ中に滴下
された。清下稜反応混合物は、60℃においで1時間撹
拌され、淡黄色のゲル342.79(理論値の98χ)
を得た。ガスクロマトグラフ分析は、次式の異性体(A
)およびCB)の比が10:1のもの99χの結果を示
した。
テトラブチルアンモニウムよう化物の存在下における過
塩素酸による滴定は、573(理論値は569)の当量
モル重量を示した。核磁気共鳴は、実施例1と同一のプ
ロトン共鳴を示した。
塩素酸による滴定は、573(理論値は569)の当量
モル重量を示した。核磁気共鳴は、実施例1と同一のプ
ロトン共鳴を示した。
[実施例3]
1.1.2.2−テトラヒドロパーフルオロアルキルチ
オール(炭素原子数の分布で、C4が0.2χ、Cもが
0.4 X 、 C8が8.4χ、CI6が28.0χ
、CI2が39.1χ、C14が18.1χ、C16が
4.3χの混合物) (90,0g、0.138モル)
が、2.2′−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニト
リルX0.8 q 、0.003モル)および1−アリ
ルオキシ−2,3−エポキシプロパン(16,59,0
,145モル)の溶液と平行的に、窒素気流下に650
−70℃の間の温度において、2個の供給流として、2
49のトルエンが既に張り込まれている反応フラスコ中
に供給された0反応混合物は、85℃において90分間
撹拌され、トルエンが高真空下に室温において蒸発され
、融点78’ −107℃の白色結晶状固体100.4
9(理論値の95χ)を得た。ガスクロマトグラフ分析
は、次式の異性体(^)およびCB)の比が10=1の
もの99χの結果を示した。
オール(炭素原子数の分布で、C4が0.2χ、Cもが
0.4 X 、 C8が8.4χ、CI6が28.0χ
、CI2が39.1χ、C14が18.1χ、C16が
4.3χの混合物) (90,0g、0.138モル)
が、2.2′−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニト
リルX0.8 q 、0.003モル)および1−アリ
ルオキシ−2,3−エポキシプロパン(16,59,0
,145モル)の溶液と平行的に、窒素気流下に650
−70℃の間の温度において、2個の供給流として、2
49のトルエンが既に張り込まれている反応フラスコ中
に供給された0反応混合物は、85℃において90分間
撹拌され、トルエンが高真空下に室温において蒸発され
、融点78’ −107℃の白色結晶状固体100.4
9(理論値の95χ)を得た。ガスクロマトグラフ分析
は、次式の異性体(^)およびCB)の比が10=1の
もの99χの結果を示した。
テトラブチルアンモニウムよう化物の存在下における過
塩素酸による滴定は、756(理論値は767)の当量
モル重量を示した。
塩素酸による滴定は、756(理論値は767)の当量
モル重量を示した。
[実施例4]
りOOホルム80Omll中にm−りOO過安患香酸(
64,8980χ、0.3モル)を含む溶液が、窒素気
流下5時間に亙り、400m1のクロロホルム中に1−
[(1,1,2,2−テトラヒドロパーフルオロ−オク
チルチオ)−1−プロとルオキシ]−2.3−エボキシ
プOパンおよびl−[(1,1,2,2−テトラヒドロ
バーフルオロ−オクチルチオ)−2−プロとルオキシ]
−2.3−エポキシブOパンの異性体混合物(74,1
9,0,15モル)を溶解した液に滴下方式で添加され
た。軽度の発熱反応は、滴下中25°−35℃の間の温
度に保持され、室温において一晩撹拌された。沈澱した
m−りOO安息香酸がろ別され、ろ液は氷を含む10χ
の冷NaOH溶液で2回、氷を含む冷塩水で1回、氷水
で1回洗浄された。有機層はM9SO4で乾燥され、乾
燥状態迄蒸発され、−晩高真空下に乾燥され、融点61
・−64℃(103℃で透明)の白色結晶状の固体73
.59(理論値の93χ)を得た。ガスクロマトグラフ
分析は、次式の異性体(A)および(B)の比が10:
1のもの94χであることを示した。
64,8980χ、0.3モル)を含む溶液が、窒素気
流下5時間に亙り、400m1のクロロホルム中に1−
[(1,1,2,2−テトラヒドロパーフルオロ−オク
チルチオ)−1−プロとルオキシ]−2.3−エボキシ
プOパンおよびl−[(1,1,2,2−テトラヒドロ
バーフルオロ−オクチルチオ)−2−プロとルオキシ]
−2.3−エポキシブOパンの異性体混合物(74,1
9,0,15モル)を溶解した液に滴下方式で添加され
た。軽度の発熱反応は、滴下中25°−35℃の間の温
度に保持され、室温において一晩撹拌された。沈澱した
m−りOO安息香酸がろ別され、ろ液は氷を含む10χ
の冷NaOH溶液で2回、氷を含む冷塩水で1回、氷水
で1回洗浄された。有機層はM9SO4で乾燥され、乾
燥状態迄蒸発され、−晩高真空下に乾燥され、融点61
・−64℃(103℃で透明)の白色結晶状の固体73
.59(理論値の93χ)を得た。ガスクロマトグラフ
分析は、次式の異性体(A)および(B)の比が10:
1のもの94χであることを示した。
テトラブチルアンモニウムよう化物の存在下にあける過
塩素酸による滴定は、534(理論値は526)の当量
モル重量を示した。核磁気共鳴は、プロトン共鳴として
、6の2.13に2個のプロトン(502C)I2す2
CH20−)、 6の2.57に1個のプロトン 6の2.76に2個のプロトン(C6FI3牝2)、6
02.77に1個のプロトン(C)I−一価2)、○ 6の3.23に4個のプロトン(CG F 13 C8
2C曵502G−)、6の3.31に1個のプロトン(
0−CH2Cl)、6の3.63に2個のプロトン(5
02C)(2G)12G)!2)および6 (7) 3
.79 It: 1個(7) 70 ト:/ (0−C
H2cH)I!示溶解されたものが、蒸発され、−晩高
真空下に乾した。 C148IS Fl:404 S
に対する元素分析値として、 計X値 C31,9X、 82.85に実測値
C33,IX、 H2,9mを得た。
塩素酸による滴定は、534(理論値は526)の当量
モル重量を示した。核磁気共鳴は、プロトン共鳴として
、6の2.13に2個のプロトン(502C)I2す2
CH20−)、 6の2.57に1個のプロトン 6の2.76に2個のプロトン(C6FI3牝2)、6
02.77に1個のプロトン(C)I−一価2)、○ 6の3.23に4個のプロトン(CG F 13 C8
2C曵502G−)、6の3.31に1個のプロトン(
0−CH2Cl)、6の3.63に2個のプロトン(5
02C)(2G)12G)!2)および6 (7) 3
.79 It: 1個(7) 70 ト:/ (0−C
H2cH)I!示溶解されたものが、蒸発され、−晩高
真空下に乾した。 C148IS Fl:404 S
に対する元素分析値として、 計X値 C31,9X、 82.85に実測値
C33,IX、 H2,9mを得た。
[英施例5]
1−[(1,1,2,2−テトラヒトOパーフルオ0−
オクチルチオ)−1−ブOピルオキシ]−2.3−エポ
キシプ0パンおよびl−[(1,1,2,,2−テトラ
ヒトOバーフルオ0−オクチルチオ)−2−プロピルオ
キシ]−2.3−エボキシブOパンの10=1の異性体
混合物(+4.89 、0゜03モル)を、42.29
の2−プロパノールと109の脱イオン水との混合物に
3解した液が、窯素気流下60℃にお(八で、トメチル
タウリンのナトリウム塩(11,49、H2o中42.
2χ、0.03モル)と5時間反応させられた。得られ
た透□明黄色の液が、24時間の間透析され、水が通風
式の炉内において80℃で除去され、得られた黄色の残
留ゴムのアセトンに煙され、アモルファスな蒸発残留物
が得られた。
オクチルチオ)−1−ブOピルオキシ]−2.3−エポ
キシプ0パンおよびl−[(1,1,2,,2−テトラ
ヒトOバーフルオ0−オクチルチオ)−2−プロピルオ
キシ]−2.3−エボキシブOパンの10=1の異性体
混合物(+4.89 、0゜03モル)を、42.29
の2−プロパノールと109の脱イオン水との混合物に
3解した液が、窯素気流下60℃にお(八で、トメチル
タウリンのナトリウム塩(11,49、H2o中42.
2χ、0.03モル)と5時間反応させられた。得られ
た透□明黄色の液が、24時間の間透析され、水が通風
式の炉内において80℃で除去され、得られた黄色の残
留ゴムのアセトンに煙され、アモルファスな蒸発残留物
が得られた。
C101123FIN N 05S2 Na に対
する元素分析値は、 計’14@ 実測値 C31,8χ 3t、6 m H3,58χ 3.5χ N 、2..18χ 2.0χF 38.
5 χ 38.5χ異性体混合物は、 および となっている。
する元素分析値は、 計’14@ 実測値 C31,8χ 3t、6 m H3,58χ 3.5χ N 、2..18χ 2.0χF 38.
5 χ 38.5χ異性体混合物は、 および となっている。
Claims (10)
- (1)次式 I で表わされるパーフルオロアルキル−ア
ルキルチオ−、−スルフィニル−あるいは−スルホニル
−アルキレングリシジルエーテル類。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R^fは直鎖状あるいは分枝鎖状であって炭素
原子数が3から18迄のパーフルオロアルキル基あるい
は炭素原子数が3から18迄のパーフルオロアルコキシ
パーフルオロアルキル基であり、R^1は直鎖状あるい
は分枝鎖状であって炭素原子数が6迄のアルキレン基、
カルボオキシアミドアルキレン基あるいはスルホンアミ
ドアルキレン基であり、該アミド基の窒素原子は置換さ
れていないかあるいは低級アルキル基により置換されて
お り、mは0、1あるいは2であり、Rは直鎖状あるいは
分枝鎖状であって炭素原子数が2から12迄のアルキレ
ン基である。) - (2)R^fがパーフルオロアルキル基である特許請求
の範囲第1項記載の化合物。 - (3)R^fが炭素原子数6から12迄の直鎖状パーフ
ルオロアルキル基あるいはこれ等の混合物である特許請
求の範囲第2項記載の化合物。 - (4)R^1が炭素原子数2から6迄の直鎖状アルキレ
ン基である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 - (5)R^1がエチレン基である特許請求の範囲第4項
記載の化合物。 - (6)mが0あるいは2である特許請求の範囲第1項記
載の化合物。 - (7)Rが炭素原子数3の直鎖状あるいは分枝鎖状アル
キレン基である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 - (8)R^1がエチレン基であり、mが0である特許請
求の範囲第7項記載の化合物。 - (9)次式 I で表わされる特許請求の範囲第1項記載
の化合物の製法において、 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R^fは直鎖状あるいは分枝鎖状であって炭素
原子数が3から18迄のパーフルオロアルキル基あるい
は炭素原子数3から18迄のパーフルオロアルコキシパ
ーフルオロアルキル基であり、R^1は直鎖状あるいは
分枝鎖状であって炭素原子数が6迄のアルキレン基、カ
ルボオキシアミドアルキレン基あるいはスルホンアミド
アルキレン基であり、該アミド基の窒素原子は置換され
ていないかあるいは低級アルキル基により置換されてお
り、mは0、1あるいは2であり、Rは直鎖状あるいは
分枝鎖状であって炭素原子数2から12迄のアルキレン
基である。〕 (a)次式IIで表わされるメルカプタンを R^f−R^1−SH(II) 〔式中、R^fおよびR^1は上記と同じ定義を有する
〕次式IIIで表わされるアルケニルグリシジルエーテル ▲数式、化学式、表等があります▼(III) 〔式中、R′は式 I のアルキレン基Rに対応する炭素
原子数2から12迄のアルケニル基〕と反応させて、m
が0である場合の式 I の化合物が生成させるか、ある
いは (b)次式IVで表わされるアルコールを R^f−R^1−S(O)m−R−OH(IV)〔式中、
R^f、R^1、mおよびRは上記と同じ定義を有する
。〕次式Vで表わされるエピハロヒドリン ▲数式、化学式、表等があります▼(V) 〔式中、Xはハロゲン、好ましくは塩素である。〕と反
応させて、次式VIで表わされる、対応するハロヒドリン
を生成させ ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) 〔式中、R^f、R^1、m、RおよびXは上記と同じ
定義を有する。) 次いでハロゲン化水素HXを除去する為の脱ハロゲン化
水素反応に付して対応する式 I のグリシジルエーテル
を生成させることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載の化合物の製法。 - (10)界面活性を有しパーフルオロアルキル基を含有
する界面活性剤の製造において特許請求の範囲第1項記
載の式 I の化合物の使用する方法。
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