JPS61170917A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
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- JPS61170917A JPS61170917A JP1218285A JP1218285A JPS61170917A JP S61170917 A JPS61170917 A JP S61170917A JP 1218285 A JP1218285 A JP 1218285A JP 1218285 A JP1218285 A JP 1218285A JP S61170917 A JPS61170917 A JP S61170917A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- magnetic pole
- layer
- thin film
- pole layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
- G11B5/3106—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing where the integrated or assembled structure comprises means for conditioning against physical detrimental influence, e.g. wear, contamination
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気ディスク装置等に用いられる薄膜磁気ヘッ
ドに係り、特に優れた記録・再生特性を有するアモルフ
ァスＣｏ−Ｚｒからなる磁極層を用いた薄膜磁気ヘッド
の改良に関するものである。
ドに係り、特に優れた記録・再生特性を有するアモルフ
ァスＣｏ−Ｚｒからなる磁極層を用いた薄膜磁気ヘッド
の改良に関するものである。
磁気ディスク装置等に用いられる薄膜磁気ヘッドの磁極
としては、一般にパーマロイ等の磁性材料によって構成
されることは既に知られている。 ゛しかし近来
、磁気ディスク媒体の高密度記録化に伴って、該ディス
ク媒体の抗磁力も増大する傾向にあり、これに対して磁
気ヘッドの磁極材料もパーマロイの替わりに、より高い
飽和磁化と透磁率を有するＦｅ−５ｉ−Ａｊ三元系合金
（Ｓｅｎｄｕｓ ｔとも呼ばれる）、或いはＣｏ・Ｚｒ
ｓ Ｃｏ−Ｚｒ−Ｎｂ、 Ｃｏ−Ｚｒ−Ｔａ等からなる
アモルファス系磁性体などからなる磁極で構成された薄
膜磁気ヘッドが通用されるっつある。
としては、一般にパーマロイ等の磁性材料によって構成
されることは既に知られている。 ゛しかし近来
、磁気ディスク媒体の高密度記録化に伴って、該ディス
ク媒体の抗磁力も増大する傾向にあり、これに対して磁
気ヘッドの磁極材料もパーマロイの替わりに、より高い
飽和磁化と透磁率を有するＦｅ−５ｉ−Ａｊ三元系合金
（Ｓｅｎｄｕｓ ｔとも呼ばれる）、或いはＣｏ・Ｚｒ
ｓ Ｃｏ−Ｚｒ−Ｎｂ、 Ｃｏ−Ｚｒ−Ｔａ等からなる
アモルファス系磁性体などからなる磁極で構成された薄
膜磁気ヘッドが通用されるっつある。
ところが上記の如き強磁性体材料は、磁極材料として好
ましい特性を有する反面、大気中の水分などと反応して
腐食されやすい問題があり、ががる問題をその本来の磁
気特性を損なわずに解消することが要望されている。
ましい特性を有する反面、大気中の水分などと反応して
腐食されやすい問題があり、ががる問題をその本来の磁
気特性を損なわずに解消することが要望されている。
第２図は磁極にアモルファス系磁性体を通用した従来の
薄膜磁気ヘッドの１例を示す概略構成図であり、例えば
非磁性基板１上にアモルファスＣ。
薄膜磁気ヘッドの１例を示す概略構成図であり、例えば
非磁性基板１上にアモルファスＣ。
−Ｚｒからなる第１磁極層２及び５ｉ０２からなるギャ
ップ層３と、その上に非磁性絶縁層４によって被包され
た薄膜コイルパターン５を介して、同じくアモルファス
Ｃｏ・Ｚｒからなる第２磁極層６がそれぞれスパッタリ
ング法とフォトリソグラフィ工程等により所定のパター
ンに積層形成され、更に、その上面には５ｉ０２、又は
Ａｌ２Ｏ３等からなる保護層７が施された構成からなっ
ている。
ップ層３と、その上に非磁性絶縁層４によって被包され
た薄膜コイルパターン５を介して、同じくアモルファス
Ｃｏ・Ｚｒからなる第２磁極層６がそれぞれスパッタリ
ング法とフォトリソグラフィ工程等により所定のパター
ンに積層形成され、更に、その上面には５ｉ０２、又は
Ａｌ２Ｏ３等からなる保護層７が施された構成からなっ
ている。
しかして、このような構成の薄膜磁気ヘッドは、図示の
ように前記基板ｌと保護層７で囲まれ、かつギャップ層
３を介在した形で配設された第１磁極層２及び第２磁極
層６の画先端部が露出した媒体対向面を矢印方向に移動
（回転）する磁気ディスク媒体８と一定の微小間隔をも
って対向した状態で記録・再生を行っている。
ように前記基板ｌと保護層７で囲まれ、かつギャップ層
３を介在した形で配設された第１磁極層２及び第２磁極
層６の画先端部が露出した媒体対向面を矢印方向に移動
（回転）する磁気ディスク媒体８と一定の微小間隔をも
って対向した状態で記録・再生を行っている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
ところで、上記のように高い飽和磁化と透磁率を有する
アモルファスＣｏ−Ｚｒからなる第１．第２磁極層２，
６で構成された薄膜磁気へノドにおいては、優れた記録
・再生特性を有する反面、そのアモルファスＣｏ−Ｚｒ
からなる磁極構成材料が、大気中の水分などと反応して
腐食し易い性質を持つているといった磁気ヘッドにとっ
て致命的とも言える欠点を有している。
アモルファスＣｏ−Ｚｒからなる第１．第２磁極層２，
６で構成された薄膜磁気へノドにおいては、優れた記録
・再生特性を有する反面、そのアモルファスＣｏ−Ｚｒ
からなる磁極構成材料が、大気中の水分などと反応して
腐食し易い性質を持つているといった磁気ヘッドにとっ
て致命的とも言える欠点を有している。
従って、そのような磁極の本来の磁気的な特性及びヘッ
ドの記録・再生特性を低下させることなく、上記欠点を
解消し、信頼性の向上を図ることが要望されている。
ドの記録・再生特性を低下させることなく、上記欠点を
解消し、信頼性の向上を図ることが要望されている。
上記問題点は、薄膜磁気ヘッドに構成されたアモルファ
スＣｏ−Ｚｒからなる磁極層の、磁気記録媒体と近接対
向する露出先端部分のみを、ＣｒｌＮｂｌ丁ａ１Ｍｏ、
Ｗ及びＴｉＯ内の少なくとも１つを含む耐蝕性とした
構成より成る本発明による薄膜磁気ヘッドによって解決
される。
スＣｏ−Ｚｒからなる磁極層の、磁気記録媒体と近接対
向する露出先端部分のみを、ＣｒｌＮｂｌ丁ａ１Ｍｏ、
Ｗ及びＴｉＯ内の少なくとも１つを含む耐蝕性とした
構成より成る本発明による薄膜磁気ヘッドによって解決
される。
即ち、本発明のヘッド構成は、■従来のアモルファスＣ
ｏ−Ｚｒからなる磁一層を有するａｌ膜磁気へ
Ｊノドを耐蝕性試験した結果、該磁極先端部の腐食進行
状態が、その先端部露出表面から内部に対して０．１μ
ｍ以内であり、それ以上の領域では観測されなかった。
ｏ−Ｚｒからなる磁一層を有するａｌ膜磁気へ
Ｊノドを耐蝕性試験した結果、該磁極先端部の腐食進行
状態が、その先端部露出表面から内部に対して０．１μ
ｍ以内であり、それ以上の領域では観測されなかった。
■Ｆｅ−５ｔ−Ａ７三元系合金、或いはＧ。
−Ｚｒ＋Ｃｏ−Ｚｒ−Ｎｂ、 Ｃｏ−Ｚｒ−Ｔａ等から
なるアモルファス系磁性体にＣｒ１ＮｂｌＴａｌ Ｍｏ
＋ Ｗ及びＴｉの内の、少なくとも１つを含ませること
により飽和磁化特性は僅かに低下するが、水分などに対
して耐蝕性となる。■磁極先端部分のみを耐蝕性にすれ
ば、その部分での飽和磁化特性は僅かに低下するが、磁
極先端部は反磁界が大きいため、記録・再生特性に影響
されることはないといった検討結果に基づいて、例えば
アモルファスＣｏ−Ｚｒからなる磁極層を有する薄膜磁
気へノドの、磁気記録媒体と近接対向する露出先端部分
のみに、Ｃｒ、Ｎｂ、Ｔａ、 Ｍｏ、 Ｗ及びＴｉの内
の少なくとも１つを含ませて耐蝕性とした磁極構成とす
ることにより、磁気記録媒体に対する優れた記録・再生
特性は勿論のこと、信頼性の良い薄膜磁気ヘッドを得る
ことができる。
なるアモルファス系磁性体にＣｒ１ＮｂｌＴａｌ Ｍｏ
＋ Ｗ及びＴｉの内の、少なくとも１つを含ませること
により飽和磁化特性は僅かに低下するが、水分などに対
して耐蝕性となる。■磁極先端部分のみを耐蝕性にすれ
ば、その部分での飽和磁化特性は僅かに低下するが、磁
極先端部は反磁界が大きいため、記録・再生特性に影響
されることはないといった検討結果に基づいて、例えば
アモルファスＣｏ−Ｚｒからなる磁極層を有する薄膜磁
気へノドの、磁気記録媒体と近接対向する露出先端部分
のみに、Ｃｒ、Ｎｂ、Ｔａ、 Ｍｏ、 Ｗ及びＴｉの内
の少なくとも１つを含ませて耐蝕性とした磁極構成とす
ることにより、磁気記録媒体に対する優れた記録・再生
特性は勿論のこと、信頼性の良い薄膜磁気ヘッドを得る
ことができる。
以下図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明す
る。
る。
第１図は本発明に係る薄膜磁気へノドの一実施例を示す
要部横断面図である。
要部横断面図である。
同図において、例えば非磁性基板ｌ上に設けられた第１
磁極層２と、該第１磁極層２上に５ｉ０２からなるギャ
ップ層３及び非磁性絶縁層４によって被包された薄膜コ
イルパターン５を介して配設されている第２磁極層６は
、例えばＣｏ−Ｚｒからなるアモルファス系磁性体によ
って形成されている。
磁極層２と、該第１磁極層２上に５ｉ０２からなるギャ
ップ層３及び非磁性絶縁層４によって被包された薄膜コ
イルパターン５を介して配設されている第２磁極層６は
、例えばＣｏ−Ｚｒからなるアモルファス系磁性体によ
って形成されている。
上記アモルファスＣｏ・Ｚｒからなる第１．第２磁極層
２，６は、スパッタリング法により形成し、引き続き回
転磁場中において熱処理することにより、飽和磁化１５
０００ガウス、透磁率５０００を有する優れた磁気特性
が得られる。
２，６は、スパッタリング法により形成し、引き続き回
転磁場中において熱処理することにより、飽和磁化１５
０００ガウス、透磁率５０００を有する優れた磁気特性
が得られる。
又、前記第１．第２磁極Ｎ２．６の先端部分には、Ｃｒ
１ＮｂｌＴａｌ Ｍｏ、 Ｗ及びＴｉの内の少なくとも
１つ、例えばＣｒを熱拡散法等により含有せしめて耐蝕
性とした磁極構成にしている。
１ＮｂｌＴａｌ Ｍｏ、 Ｗ及びＴｉの内の少なくとも
１つ、例えばＣｒを熱拡散法等により含有せしめて耐蝕
性とした磁極構成にしている。
この磁極先端耐蝕部分２１．２２の飽和磁化は、約１ｏ
ｏｏｏガウスと、Ｃｒを含有しないアモルファスＣ０−
Ｚｒと比べて低下しているが、透磁率は５０００と遜色
のない高い値で維持されており、前記飽和磁化の低下に
よる記録特性への影響については、磁極先端部での反位
界が大きいために、実際には飽和磁化に至るまで磁化さ
れることがなく、殆ど問題になることはない。
ｏｏｏガウスと、Ｃｒを含有しないアモルファスＣ０−
Ｚｒと比べて低下しているが、透磁率は５０００と遜色
のない高い値で維持されており、前記飽和磁化の低下に
よる記録特性への影響については、磁極先端部での反位
界が大きいために、実際には飽和磁化に至るまで磁化さ
れることがなく、殆ど問題になることはない。
更に、上記Ｍ膜磁気ヘッドの各磁極の露出先端部分のみ
を耐蝕性とする一方法としては、基板１上に第１磁極層
２、ギャップ層３及び非磁性絶縁層４によって被包され
た薄膜コイルパターン５を介して第２磁極層６を形成し
、その上面に保護層７を施した後、磁気記録媒体と対向
する面を必要とするギヤノブ深さとなるようにラッピン
グして、第１．第２磁極層２，６の先端部が露出した媒
体対向面を形成する。
を耐蝕性とする一方法としては、基板１上に第１磁極層
２、ギャップ層３及び非磁性絶縁層４によって被包され
た薄膜コイルパターン５を介して第２磁極層６を形成し
、その上面に保護層７を施した後、磁気記録媒体と対向
する面を必要とするギヤノブ深さとなるようにラッピン
グして、第１．第２磁極層２，６の先端部が露出した媒
体対向面を形成する。
その後、該媒体対向面にスパッタリング法等によりクロ
ム（Ｃｒ）膜を被着し、これら被１部分を加熱してＣｒ
を露出する各磁極先端部分に略０．１μｍ程度の深さに
拡散させる。
ム（Ｃｒ）膜を被着し、これら被１部分を加熱してＣｒ
を露出する各磁極先端部分に略０．１μｍ程度の深さに
拡散させる。
次に、不要となったクロム（Ｃｒ）膜をイオンエツチン
グ等により除去して完成させる。
グ等により除去して完成させる。
因に、本発明による構成の薄ＩＩ！磁気ヘッドと従来構
成のＮ膜磁気ヘッドとを、同時にＭＪＩ、、５ＴＤ−２
０２の試験法１６０に基づいて耐湿試験を行った結果、
従来の薄膜磁気ヘッドにおける磁極先端部分の露出面が
腐食し、変色した状態の時点に対して、本発明による薄
膜磁気ヘッドにおける磁極先端部分の露出面は、試験前
と同様の光沢のある金属色を呈し、腐食の兆候は見られ
ず、優れた耐蝕効果があることが確認できた。
成のＮ膜磁気ヘッドとを、同時にＭＪＩ、、５ＴＤ−２
０２の試験法１６０に基づいて耐湿試験を行った結果、
従来の薄膜磁気ヘッドにおける磁極先端部分の露出面が
腐食し、変色した状態の時点に対して、本発明による薄
膜磁気ヘッドにおける磁極先端部分の露出面は、試験前
と同様の光沢のある金属色を呈し、腐食の兆候は見られ
ず、優れた耐蝕効果があることが確認できた。
尚、以上の実施例では磁極がリング型の薄膜磁気ヘッド
を対象にした場合の例について説明したが、本発明はこ
の例に限定されるものでは無く、例えば垂直磁化記録用
の単磁極型薄膜磁気ヘッド等にも適用可能なことは言う
までもない。
を対象にした場合の例について説明したが、本発明はこ
の例に限定されるものでは無く、例えば垂直磁化記録用
の単磁極型薄膜磁気ヘッド等にも適用可能なことは言う
までもない。
以上の説明から明らかなように、本発明に係る薄１５％
磁気ヘッドの構成によれば、優れた記録・再生特性と、
高い耐蝕性を有する信頼性の良い薄膜 Ｉ磁
気ヘッドが得られ、飽和磁化と透碩率を有するＦｅ−５
ｉ−ＡＩ三元系合金、或いはＣｏ−Ｚｒ＋Ｃｏ−Ｚｒ−
Ｎｂ、 Ｃ。
磁気ヘッドの構成によれば、優れた記録・再生特性と、
高い耐蝕性を有する信頼性の良い薄膜 Ｉ磁
気ヘッドが得られ、飽和磁化と透碩率を有するＦｅ−５
ｉ−ＡＩ三元系合金、或いはＣｏ−Ｚｒ＋Ｃｏ−Ｚｒ−
Ｎｂ、 Ｃ。
−Ｚｒ−Ｔａ等からなるアモルファス系磁性体などから
なる磁極で構成される各種の薄膜磁気ヘッドに通用して
極めて有利である。
なる磁極で構成される各種の薄膜磁気ヘッドに通用して
極めて有利である。
第１図は本発明は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの一実施
例を示す要部拡大横断面図、 第２図は従来の薄膜磁気ヘッドを説明するための要部横
断面図である。 図中、１は非磁性基板、２は第１＆ｆ極層、３はギャッ
プ層、４は非磁性絶縁層、５は薄膜コイル、６は第２磁
極層、７は保護層、２１．２２は各磁極先端耐蝕部分を
それぞれ示す。 第 １ 図 第２図
例を示す要部拡大横断面図、 第２図は従来の薄膜磁気ヘッドを説明するための要部横
断面図である。 図中、１は非磁性基板、２は第１＆ｆ極層、３はギャッ
プ層、４は非磁性絶縁層、５は薄膜コイル、６は第２磁
極層、７は保護層、２１．２２は各磁極先端耐蝕部分を
それぞれ示す。 第 １ 図 第２図
Claims (2)
- （１）磁極層と非磁性絶縁層を介して設けられた薄膜コ
イルからなるヘッド構成における上記磁極層の、磁気記
録媒体と近接対向する先端部分のみを、耐蝕性にしたこ
とを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - （２）上記磁極層がアモルファスＣｏ・Ｚｒからなり、
該磁極層の磁気記録媒体と近接対向する耐蝕性先端部分
に、Ｃｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｗ及びＴｉの内の少なく
とも１つを含んで成ることを特徴とする特許請求の範囲
第（１）項に記載した薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1218285A JPS61170917A (ja) | 1985-01-24 | 1985-01-24 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1218285A JPS61170917A (ja) | 1985-01-24 | 1985-01-24 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61170917A true JPS61170917A (ja) | 1986-08-01 |
Family
ID=11798276
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1218285A Pending JPS61170917A (ja) | 1985-01-24 | 1985-01-24 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61170917A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4841399A (en) * | 1985-11-29 | 1989-06-20 | Hitachi, Ltd. | Magnetoresistive magnetic head including zirconium sheet film |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57117118A (en) * | 1981-01-12 | 1982-07-21 | Fujitsu Ltd | Thin film magnetic head |
-
1985
- 1985-01-24 JP JP1218285A patent/JPS61170917A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57117118A (en) * | 1981-01-12 | 1982-07-21 | Fujitsu Ltd | Thin film magnetic head |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4841399A (en) * | 1985-11-29 | 1989-06-20 | Hitachi, Ltd. | Magnetoresistive magnetic head including zirconium sheet film |
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