JPS61168590A - 揮発性化合物半導体単結晶の製造方法 - Google Patents

揮発性化合物半導体単結晶の製造方法

Info

Publication number
JPS61168590A
JPS61168590A JP788685A JP788685A JPS61168590A JP S61168590 A JPS61168590 A JP S61168590A JP 788685 A JP788685 A JP 788685A JP 788685 A JP788685 A JP 788685A JP S61168590 A JPS61168590 A JP S61168590A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transparent quartz
cap
crystal growth
face
quartz rod
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP788685A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0688868B2 (ja
Inventor
Masami Tatsumi
雅美 龍見
Toshihiro Kotani
敏弘 小谷
Shinichi Sawada
真一 澤田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Electric Industries Ltd filed Critical Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority to JP60007886A priority Critical patent/JPH0688868B2/ja
Publication of JPS61168590A publication Critical patent/JPS61168590A/ja
Publication of JPH0688868B2 publication Critical patent/JPH0688868B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、揮発性元素を成分とする化合物半導体の単結
晶生産方法に係り、例えばGa As、 Ga P。
エロPなどの単結晶引上方法に関するものである。
(従来の技術) 従来、揮発性元素を成分とする化合物半導体の単結晶引
上方法としては、例えば日経エレクトロニク′スCに2
ふ211−”) P210−P2/弘に示されているよ
うに、LEO法(Liquid Encapsulat
ed C!zochral−ski Method)が
主として用いられている。これは第2図に示すように、
ルンボ10に揮発性元素を成分とする化合物半導体原料
および封止剤12を入れ、ヒータ13で適当な温度に加
熱した後上部軸に装置した種結晶14を原料融液11に
接触させ、夫々を回転させ乍ら種結晶14を上昇せしめ
、結晶15を生長させる方法である。この際結晶15の
成長状態を監視し、単結晶化状況や結晶外径の適正化を
保つには、結晶成長容器16に押通して設けた透明石英
棒17を介して結晶成長容器16内の状況を4見き見る
ことにより成長状況を観察し、引上条件にフィードバッ
クすることによって達成している。
(発明が解決しようとする問題点) この結晶成長容器16内の観察用の透明石英棒17には
液体封止液12を通過して揮発した結晶原料の揮発性元
素の成分蒸気が充満しており、結晶成長容器16内の温
度の低い部分に析出する。透明石英棒17は常温部分に
絶えず熱を奪われるため、高温雰囲気18中の端面も雰
囲気温度よりは可成り低(ぐうその為内部観察用として
透明であるべき石英棒の端面に揮発性元素の成分の析出
が徐々におこり、結晶成長容器16内が観察できなくな
る問題があった。
本発明は、透明石英棒17の高温側端面に揮発性元素1
9の析出を防止するため、該部分に断熱材を介して透明
な石英窓を有するキャップを装着することにより、明瞭
に単結晶成長状況を観察し得るようにしたものである。
(問題点を解決するための手段) 第1図は本発明の実施例であって、第1図(イ)は結晶
成長状況観察用の窓部分の断面図、第1図(りは前記窓
部分を結晶成長容器16に挿通して設置したLEC装置
の断面図である。
第1図(イ)において、結晶成長容器16内の結晶育成
状況を観察する透明石英棒17の結晶成長容器16に挿
入されている方の端面に透明石英棒17と断熱材20を
介して赤外線放射エネルギーの吸収が良く且つ透明な石
英製窓部分を持つキャップ22を取りつけ、透明石英棒
1γの端面とキャップとの間のギャップ21には結晶成
長容器内の雰囲気ガス18が入らない気密構造とした。
(作用) 以上の構造の結晶成長容器内部観察用装置を第1図(嗜
の如く結晶成長容器16に取付け、結晶育成を始めると
、高温雰囲気18中には液体封止剤12を通過して揮発
した結晶原料の揮発性元素の成分蒸気が充満しているが
、透明石英キャップは炉内の高温部分(結晶15・加熱
ヒータ13・ルツボ10・原料融液11・液体封止剤1
2等)から赤外線エネルギーを吸収し、且つ断熱材20
を介して支持されているので、熱の逃げ場がなく、高温
となっており、前述の揮発性元素の成分蒸気が析出しな
い。また透明石英棒17と透明石英キャップ22との間
は雰囲気ガス18が入らない構造であるから、ギャップ
21に面する透明石英棒17の端面及びキャップ22の
内面も揮発性元素の成分蒸気が析出して曇ることがない
以上の理由で本発明の結晶育成観察装置を用いれば、常
に安定して炉内状況を観察することができる。
(実施例) 第1図は本発明の詳細な説明図で、(イ)は透明石英棒
17の端面の一つ(炉内に挿入される方)に透明石英棒
17とカーボンフェルトで断熱した透明石英キャップ2
2を適当なギャップ21を介して取付けたものである。
この透明石英棒17を第1図(嗜のように、高温As雰
囲気18中に結晶成長容器16を挿通して設置し、Qa
 Asの原料融液11からGaAS単結晶15を引き上
げに使用し、結晶育成状況を透明石英棒17及び透明石
 。
英キャップ22を曇らせることなく観察することができ
た。
以上はQa As単結晶の引き上げに用いたものである
が、同様の効果がGaP、 InPにおいても確認でき
た。
(発明の効果) 本発明の効果は、 tl+  揮発性成分を含む化合物半導体単結晶の引上
方法において、透明石英棒の端面に赤外線エネルギーの
吸収率の高い透明石英キャップが気密ギャップを介し断
熱されて取り付けられているため、炉内部からの赤外線
エネルギーによって透明石英キャップが加熱され、且つ
雰囲気ガスがギャップ中に入らないため、揮発性成分元
素のガスが透明石英棒端面及び透明石英キャップの内・
外面に析出しなくなり、曇ることなく結晶育成状況を観
察でき、ひいては単結晶成長歩留りも向上する。
121  透明石英棒の端面に透明石英キャップを取り
付けるだけでよいから、曇り防止のためにヒータ線を巻
く等の機械的改良を必要とせず簡単に設置できる。
等である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の揮発性元素を成分とする化合物半導体
単結晶引上げ方法の実施例で、(イ)は透明石英棒の一
端面に透明石英キャップを取付けた断面図、(0)は揮
発性化合物半導体単結晶の成長状況を観察している簡略
説明図、第2図は従来の方法の簡略説明図である。 15・・・揮発性化合物半導体単結晶 16・・・結晶成長容器 17・・・透明石英棒 18・・・揮発性成分の算囲気 19・・・揮発性元素 20・・・断熱材 22・・・透明石英キャップ 第1図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.揮発性元素の高温ガス雰囲気の炉内状況の観察に透
    明石英棒の端面の一方に石英棒と断熱材を介し透明石英
    キヤツプを取り付け、その間のギヤップを気密にした状
    態で、その端面を炉内に挿入し、他端面より曇りなく単
    結晶育成状況を観察し乍ら引き上げることを特徴とする
    揮発性化合物半導体単結晶の製造方法。
JP60007886A 1985-01-19 1985-01-19 揮発性化合物半導体単結晶の製造方法 Expired - Lifetime JPH0688868B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60007886A JPH0688868B2 (ja) 1985-01-19 1985-01-19 揮発性化合物半導体単結晶の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60007886A JPH0688868B2 (ja) 1985-01-19 1985-01-19 揮発性化合物半導体単結晶の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61168590A true JPS61168590A (ja) 1986-07-30
JPH0688868B2 JPH0688868B2 (ja) 1994-11-09

Family

ID=11678075

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60007886A Expired - Lifetime JPH0688868B2 (ja) 1985-01-19 1985-01-19 揮発性化合物半導体単結晶の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0688868B2 (ja)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5065479A (ja) * 1973-10-03 1975-06-03
JPS57201509U (ja) * 1981-06-19 1982-12-22

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5065479A (ja) * 1973-10-03 1975-06-03
JPS57201509U (ja) * 1981-06-19 1982-12-22

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0688868B2 (ja) 1994-11-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
GB889058A (en) Improvements in or relating to the production of crystals
Holton et al. Synthesis and melt growth of doped ZnSe crystals
JPS61168590A (ja) 揮発性化合物半導体単結晶の製造方法
JPS60112695A (ja) 化合物単結晶の引上方法
US4299649A (en) Vapor transport process for growing selected compound semiconductors of high purity
US4439266A (en) Vapor transport process for growing selected compound semiconductors of high purity
JP2517803B2 (ja) Ii−vi族化合物半導体多結晶の合成方法
US3929556A (en) Nucleating growth of lead-tin-telluride single crystal with an oriented barium fluoride substrate
JP2830306B2 (ja) 化合物半導体結晶の製造装置
JPH0365593A (ja) 単結晶成長装置
US3275557A (en) Method of making mercury-doped germanium semiconductor crystals
JP2585276B2 (ja) CdTe結晶の製造装置
JPS59174598A (ja) 3−5族化合物半導体単結晶の製造法
CA1228524A (en) Method for growing a gaas single crystal by pulling from gaas melt
JPH0459690A (ja) 高解離圧化合物半導体単結晶引上装置
JPS61106487A (ja) 単結晶成長装置
JPS623408Y2 (ja)
JPH0140800B2 (ja)
CN109280969A (zh) 一种气相晶体生长方法及氧化锌晶体
JPH03247581A (ja) GaAs単結晶の製造方法
JPH05339094A (ja) 酸化物単結晶の製造装置
JPH0543375A (ja) 結晶成長方法および装置
JPS60118700A (ja) 半導体結晶の製造方法
JPS62197397A (ja) 単結晶の製造法
JPS6168394A (ja) 3−5族化合物多結晶体の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term