JPS61163338A - 記録方法 - Google Patents
記録方法Info
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- JPS61163338A JPS61163338A JP60003232A JP323285A JPS61163338A JP S61163338 A JPS61163338 A JP S61163338A JP 60003232 A JP60003232 A JP 60003232A JP 323285 A JP323285 A JP 323285A JP S61163338 A JPS61163338 A JP S61163338A
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- substrate
- light
- metal
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C5/00—Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
- G03C5/56—Processes using photosensitive compositions covered by the groups G03C1/64 - G03C1/72 or agents therefor
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/244—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only
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- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B7/249—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing organometallic compounds
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、キレート錯体の単分子膜、乃至単分子層累積
膜の化学変化若しくは物理変化を利用して記録を行なう
記録方法に関する。
膜の化学変化若しくは物理変化を利用して記録を行なう
記録方法に関する。
[従来の技術]
従来、有機化合物を記録層とする記録媒体としては種々
のものが知られている。
のものが知られている。
例えば、有機化合物を薄膜にして記録層として用いる光
記録媒体については1例えば特開昭56−181348
号公報、特開昭58−125248号公報にも開示され
ている。いずれも有機色素を記録層とし、レーザビーム
により記録再生を行なうレーザ記録媒体に関するもので
ある。特に、特開昭58−12524E1号公報に開示
された媒体は、で表わされるシアニン系色素の9119
を記録層とするものである。一般式(I)で表わされる
シアニン系色素溶液を回転塗布機などを用いて、100
0Å以下の厚さ、例えば約300Aの厚さにプラスチッ
ク基板上に塗布し@膜を形成する。膜内の分子分布配向
がランダムであると、光照射に伴って膜内で光の散乱が
生じ、微視的にみた場合各光照射の度に生ずる化学反応
の度合が異なってくる。そこで記録媒体としては、膜内
の分子分布、配向が一様になっていることが望ましく、
またできる限り膜厚が薄いことが、記録の高密度化のた
めに要請される。しかしながら、塗布法による場合、膜
厚においては300人程度が限界であり、校内の分子分
布、配向がランダムであることは解決しがたいことであ
った・ レジスト材料の一つとして光量子効率が大でかつ優れた
解像力を有するものとして提案されていたジアセチレン
化合物累積膜が、レジスト材料のみならず、薄膜電気−
光学デバイス、電気−音響デバイス、圧・焦電デバイス
等にも応用されることが、特開昭58−42229号公
報、特開昭56−43220号公報などに示されている
。
記録媒体については1例えば特開昭56−181348
号公報、特開昭58−125248号公報にも開示され
ている。いずれも有機色素を記録層とし、レーザビーム
により記録再生を行なうレーザ記録媒体に関するもので
ある。特に、特開昭58−12524E1号公報に開示
された媒体は、で表わされるシアニン系色素の9119
を記録層とするものである。一般式(I)で表わされる
シアニン系色素溶液を回転塗布機などを用いて、100
0Å以下の厚さ、例えば約300Aの厚さにプラスチッ
ク基板上に塗布し@膜を形成する。膜内の分子分布配向
がランダムであると、光照射に伴って膜内で光の散乱が
生じ、微視的にみた場合各光照射の度に生ずる化学反応
の度合が異なってくる。そこで記録媒体としては、膜内
の分子分布、配向が一様になっていることが望ましく、
またできる限り膜厚が薄いことが、記録の高密度化のた
めに要請される。しかしながら、塗布法による場合、膜
厚においては300人程度が限界であり、校内の分子分
布、配向がランダムであることは解決しがたいことであ
った・ レジスト材料の一つとして光量子効率が大でかつ優れた
解像力を有するものとして提案されていたジアセチレン
化合物累積膜が、レジスト材料のみならず、薄膜電気−
光学デバイス、電気−音響デバイス、圧・焦電デバイス
等にも応用されることが、特開昭58−42229号公
報、特開昭56−43220号公報などに示されている
。
近時においては、ジアセチレン化合物累積膜の製造方法
の改良について特開昭58−111029号公報に示さ
れている。かかる発明にて製造された基板上のジアセチ
レン化合物累積膜は紫外線を照射することにより重合さ
せてジアセチレン化合物重合体膜ヲ作り、或いはマスキ
ングして紫外線を照射し部分的に重合させ、未重合部分
を除去して図形を作り、薄膜光学デバイスや集積回路素
子として使用される。
の改良について特開昭58−111029号公報に示さ
れている。かかる発明にて製造された基板上のジアセチ
レン化合物累積膜は紫外線を照射することにより重合さ
せてジアセチレン化合物重合体膜ヲ作り、或いはマスキ
ングして紫外線を照射し部分的に重合させ、未重合部分
を除去して図形を作り、薄膜光学デバイスや集積回路素
子として使用される。
しかし、これらはいずれもジアセチレン化合物に限るも
のであった。
のであった。
一方、上述欠点を解決すべく、分子内に親木基、疎水基
及び少なくとも1個の不飽和結合を有する1種類の光重
合性モノマーの単分子膜又は単分子層累積膜を基板上に
形成して記録層としたことを特徴とする、反復使用可能
な光記録媒体が特願昭58−1!30932号の光記録
媒体に示されている。
及び少なくとも1個の不飽和結合を有する1種類の光重
合性モノマーの単分子膜又は単分子層累積膜を基板上に
形成して記録層としたことを特徴とする、反復使用可能
な光記録媒体が特願昭58−1!30932号の光記録
媒体に示されている。
これらのジアセチレン化合物累積膜にしても、光重合性
オレフィンモノマーの単分子膜若しくは単分子層累積膜
にしても、光反応性化合物に親木基、疎水基を導入して
、直接基板上に担持させる製法を採用している。従って
、種々の機能性膜を簡単に作製することが困難なのに加
えて、親木基、疎水基の導入に伴う光反応性の低下の恐
れがあった。更には、非常に高度な高密度記録を行う際
に重要となる、膜面内の分子配向の制御についても、極
めて複雑な操作が要求される問題があった。
オレフィンモノマーの単分子膜若しくは単分子層累積膜
にしても、光反応性化合物に親木基、疎水基を導入して
、直接基板上に担持させる製法を採用している。従って
、種々の機能性膜を簡単に作製することが困難なのに加
えて、親木基、疎水基の導入に伴う光反応性の低下の恐
れがあった。更には、非常に高度な高密度記録を行う際
に重要となる、膜面内の分子配向の制御についても、極
めて複雑な操作が要求される問題があった。
[発明が解決しようとする問題点]
本発明者は、かかる従来例の欠点を解消し、1)各種の
機俺性膜を比較的簡単に作製する方法、2)その際、e
tt@性分子の持つ各種機能が、薄膜化した場合に於い
ても、損失若しくは低下されることなく発現する方法、
3)上記のS膜化に於いて、特別な操作を行うことなし
に、膜構成分子が膜面内方向に対して、高度の秩序構造
を持って配向される方法、更には記録した情報を正確に
読み出し。
機俺性膜を比較的簡単に作製する方法、2)その際、e
tt@性分子の持つ各種機能が、薄膜化した場合に於い
ても、損失若しくは低下されることなく発現する方法、
3)上記のS膜化に於いて、特別な操作を行うことなし
に、膜構成分子が膜面内方向に対して、高度の秩序構造
を持って配向される方法、更には記録した情報を正確に
読み出し。
かつ安定に保存する方法を種々検討した結果1本発明を
成すに至った。又、かかる成膜法及び記録可成法を用い
て、高感度、高解像度の記録方法を提供できるに至った
。
成すに至った。又、かかる成膜法及び記録可成法を用い
て、高感度、高解像度の記録方法を提供できるに至った
。
本発明の目的は、外因により分子単位での化学変化を起
こす様な高密度記録方法を提供することにある。
こす様な高密度記録方法を提供することにある。
また、この様な分子単位での高密度記録を行うのに際し
て、媒体面内での分子配向のすぐれた記録媒体を用い、
記録再生に於いては、分子単位での記録情報を正確に再
生し、かつ長期保存可能な画像を提供する事にある。
て、媒体面内での分子配向のすぐれた記録媒体を用い、
記録再生に於いては、分子単位での記録情報を正確に再
生し、かつ長期保存可能な画像を提供する事にある。
[問題点を解決するための手段]及び[作用]本発明の
上記目的は、以下の本発明によって達成される。
上記目的は、以下の本発明によって達成される。
即ち、本発明は光を当てると異性化し、金属イオン又は
金属原子を放出する金属キレート化合物からなる単分子
膜又はその累積膜から成る記録媒体上に、画情報に対応
する光を照射し金属イオン又は金属原子を放出させた後
、前記記録媒体を化学反応により発色させて記録を読み
出す事を特徴とする記録方法である。さらに具体的に説
明すると、 l)光を当てるとシス−トランス異性化し、金属イオン
又は金属原子を放出する金属キレート化合物の単分子膜
又はその累b(膜及びそれを保持する担体から成る記録
媒体を用いる事、2)光を照射する恵で、照射部位の金
属イオン又は金属原子を放出させ、これを単分子膜ある
いは累積膜中より除去し、3)単分子膜あるいはその累
積膜中の光束照射部位に残存する金属イオン又は金属原
子を化学反応により無機顔料とすることを特徴とする記
録方法から成る。
金属原子を放出する金属キレート化合物からなる単分子
膜又はその累積膜から成る記録媒体上に、画情報に対応
する光を照射し金属イオン又は金属原子を放出させた後
、前記記録媒体を化学反応により発色させて記録を読み
出す事を特徴とする記録方法である。さらに具体的に説
明すると、 l)光を当てるとシス−トランス異性化し、金属イオン
又は金属原子を放出する金属キレート化合物の単分子膜
又はその累b(膜及びそれを保持する担体から成る記録
媒体を用いる事、2)光を照射する恵で、照射部位の金
属イオン又は金属原子を放出させ、これを単分子膜ある
いは累積膜中より除去し、3)単分子膜あるいはその累
積膜中の光束照射部位に残存する金属イオン又は金属原
子を化学反応により無機顔料とすることを特徴とする記
録方法から成る。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明において、光を当てるとシス−トランス異性化し
、金属イオン又は金属原子を放出する金属キレート化合
物の単分子膜又はその累積膜から成る記録媒体には、以
下に説明するものが用いられる。
、金属イオン又は金属原子を放出する金属キレート化合
物の単分子膜又はその累積膜から成る記録媒体には、以
下に説明するものが用いられる。
本発明に於ける記録層を構成する物質は分子内に親水性
部位、疎水性部位、キレート配位子、シス−トランス異
性化する部位をそれぞれ一ケ所有する分子から成る。こ
こにおいて、親水性部位、疎水性部位とは、一般に広く
知られる親木基、疎水基などが挙げられる。
部位、疎水性部位、キレート配位子、シス−トランス異
性化する部位をそれぞれ一ケ所有する分子から成る。こ
こにおいて、親水性部位、疎水性部位とは、一般に広く
知られる親木基、疎水基などが挙げられる。
キレート配位子は例えば水#基、カルボニル基、エーテ
ル基、カルボキシル基、ニス7 /l/ 15、アミ7
基、ニトリル基、チオアルコール基、イミノ基、スルホ
ン基、スルフィニル2!li等の少なくとも2ヶ以上の
基の導入により形成され、その一般式は表1の(Q−〜
(9)−などで示される。尚、キレート配位子、長鎖ア
ルキル基の置換部位は式に示した位置に限定されるもの
ではない。
ル基、カルボキシル基、ニス7 /l/ 15、アミ7
基、ニトリル基、チオアルコール基、イミノ基、スルホ
ン基、スルフィニル2!li等の少なくとも2ヶ以上の
基の導入により形成され、その一般式は表1の(Q−〜
(9)−などで示される。尚、キレート配位子、長鎖ア
ルキル基の置換部位は式に示した位置に限定されるもの
ではない。
又、一般式(リー〜Qリーにおいて、
(E、キレート配位子
X: O,N、S、Se
y: Ga4.c=。
R:長鎖アルキル基
を示す。
第1表
R’ R−
かかるキレート配位子分子の一例を示すと、下記の式(
lO)〜(26)に示される化合物が挙げられる。
lO)〜(26)に示される化合物が挙げられる。
但し1式(10)〜(28)において。
φ: c6n5−1
口: ”2−cH2ヲ示t。
第2表
U U
NllIn (しH2)17’−’113以上挙
げた化合物はキレート配位子分子に疎水性部位を導入し
た点を除けばそれ自体既知の化合物であり、又、長鎖ア
ルキル基で修飾されていないキレート配位子分子に関し
ては、金属と錯体を形成する点も既知のものである。
げた化合物はキレート配位子分子に疎水性部位を導入し
た点を除けばそれ自体既知の化合物であり、又、長鎖ア
ルキル基で修飾されていないキレート配位子分子に関し
ては、金属と錯体を形成する点も既知のものである。
これらキレート配位子分子とキレート錯体を形成し得る
金属イオンとしては一般にキレート配位子分子と配位結
合をし得るものが望ましく、例えばkg”、Cu2°、
Hg” 、 Pb” 、 K” 、 Fe2°、
Cd2°などが挙げられる。
金属イオンとしては一般にキレート配位子分子と配位結
合をし得るものが望ましく、例えばkg”、Cu2°、
Hg” 、 Pb” 、 K” 、 Fe2°、
Cd2°などが挙げられる。
このようなキレート配位子分子と金属イオンなどから成
るキレート錯体の単分子膜または単分子累積膜を形成す
る方法としては1例えば1、 Langmuirらの開
発したテングミュア・プロジェット法(LB法)を用い
る。 LB法は、例えば分子内に親木基と疎水基を有す
る構造の分子において1両者のバランス(両親媒性のバ
ランス)が適度に保たれているとき1分子は水面上で親
木基を下に向けて単分子の層になることを利用して単分
子膜または単分子層の累積膜を作成する方法である、水
面上の単分子層は、二次元系の特徴をもつ0分子がまば
らに散開しているときは、一分子当り面積Aと表面圧■
との間に二次元理想気体の式、 nA=kT が成り立ち、°“気体膜”となる、ここに、kはポルツ
マン定数、Tは絶対温度である。Aを十分小さくすれば
分子間相互作用が強まり二次元固体の゛凝縮膜(または
固体V)″になる。凝縮膜はガラス基板などの種々の材
質や形状を有する担体の表面へ一層ずつ移すことができ
る。この方法を用いて、本発明の金属イオンを包接する
キレート配位子分子の単分子膜(これをキレート錯体分
子膜と呼ぶことにする)、若しくはキレ−)M体分子層
累積膜の具体的な製法としては、例えば以下に示す方法
を挙げることができる。
るキレート錯体の単分子膜または単分子累積膜を形成す
る方法としては1例えば1、 Langmuirらの開
発したテングミュア・プロジェット法(LB法)を用い
る。 LB法は、例えば分子内に親木基と疎水基を有す
る構造の分子において1両者のバランス(両親媒性のバ
ランス)が適度に保たれているとき1分子は水面上で親
木基を下に向けて単分子の層になることを利用して単分
子膜または単分子層の累積膜を作成する方法である、水
面上の単分子層は、二次元系の特徴をもつ0分子がまば
らに散開しているときは、一分子当り面積Aと表面圧■
との間に二次元理想気体の式、 nA=kT が成り立ち、°“気体膜”となる、ここに、kはポルツ
マン定数、Tは絶対温度である。Aを十分小さくすれば
分子間相互作用が強まり二次元固体の゛凝縮膜(または
固体V)″になる。凝縮膜はガラス基板などの種々の材
質や形状を有する担体の表面へ一層ずつ移すことができ
る。この方法を用いて、本発明の金属イオンを包接する
キレート配位子分子の単分子膜(これをキレート錯体分
子膜と呼ぶことにする)、若しくはキレ−)M体分子層
累積膜の具体的な製法としては、例えば以下に示す方法
を挙げることができる。
先ず、垂直浸漬法について成膜装置を用いて説明する。
第2図(a)及び(b)に示されるように、純水が収容
された浅くて広い角型の水槽20の内側に、例えばポリ
プロピレン製等の枠9が水平に釣ってあり、液面17を
仕切っている。枠9の内側には、例えばやはりポリプロ
ピレン製等の浮子10が浮かべられている。浮子10は
、幅が枠9の内幅より僅かに短かい直方体で、図中左右
方向に二次元ピストン運動可能なものとなっている。浮
子10には、浮子10を図中右方に引張るための重り1
1が滑車12を介して結び付けられている。また、浮子
10上に固定された磁石13と、浮子IOの上方で図中
左右に移動可能で磁石13に接近すると互に反撥し合う
対磁石14とが設けられていて、これによって浮子IO
は図中左右への移動並びに停止が可能なものとなってい
る。このような重り11や一組の磁石13.14の代り
に1回転モーターやプーリーを用いて直接浮子10を移
動させるものもある。
された浅くて広い角型の水槽20の内側に、例えばポリ
プロピレン製等の枠9が水平に釣ってあり、液面17を
仕切っている。枠9の内側には、例えばやはりポリプロ
ピレン製等の浮子10が浮かべられている。浮子10は
、幅が枠9の内幅より僅かに短かい直方体で、図中左右
方向に二次元ピストン運動可能なものとなっている。浮
子10には、浮子10を図中右方に引張るための重り1
1が滑車12を介して結び付けられている。また、浮子
10上に固定された磁石13と、浮子IOの上方で図中
左右に移動可能で磁石13に接近すると互に反撥し合う
対磁石14とが設けられていて、これによって浮子IO
は図中左右への移動並びに停止が可能なものとなってい
る。このような重り11や一組の磁石13.14の代り
に1回転モーターやプーリーを用いて直接浮子10を移
動させるものもある。
枠9内の両側には、吸引パイプ15を介して吸引ポンプ
(図示されていない)に接続された吸引ノズル16が並
べられている。この吸引ノズル16は。
(図示されていない)に接続された吸引ノズル16が並
べられている。この吸引ノズル16は。
単分子膜や単分子累積膜内に不純物が混入してしまうの
を防止するために、液面17上の不要になった前工程の
単分子膜等を迅速に除去するのに用いられるものである
。尚、18は基板上下腕19に取付けられて垂直に上下
される基板である。
を防止するために、液面17上の不要になった前工程の
単分子膜等を迅速に除去するのに用いられるものである
。尚、18は基板上下腕19に取付けられて垂直に上下
される基板である。
上記の成膜装置を用いて、まず金属イオンを水相中に溶
解させ、目的とするキレート配位子分子を溶剤に溶解さ
せる。キレート配位子分子溶液を水相上に展開させてキ
レート錯体を膜状に析出させる。
解させ、目的とするキレート配位子分子を溶剤に溶解さ
せる。キレート配位子分子溶液を水相上に展開させてキ
レート錯体を膜状に析出させる。
次にこの析出物が水相上を自由に拡散して広がりすぎな
いように仕切板(または浮子)を設けて展開面積を制限
して膜物質の集合状態を制御し、その集合状態に比例し
た表面圧■を得る。この仕切板を動かし、展開面積を縮
少して膜物質の集合状態を制御し、表面圧を徐々に上昇
させ、累積膜の製造に適する表面圧nを設定することが
できる。この表面圧を維持しながら静かに清浄な担体を
垂直に上下させることによりキレート錯体分子膜が担体
上に移しとられる。キレート錯体分子膜は以上で製造さ
れるが、キレート錯体分子層累積膜は前記の操作を繰り
返すことにより所望の累積度のキレート錯体分子層累a
t膜が形成される。
いように仕切板(または浮子)を設けて展開面積を制限
して膜物質の集合状態を制御し、その集合状態に比例し
た表面圧■を得る。この仕切板を動かし、展開面積を縮
少して膜物質の集合状態を制御し、表面圧を徐々に上昇
させ、累積膜の製造に適する表面圧nを設定することが
できる。この表面圧を維持しながら静かに清浄な担体を
垂直に上下させることによりキレート錯体分子膜が担体
上に移しとられる。キレート錯体分子膜は以上で製造さ
れるが、キレート錯体分子層累積膜は前記の操作を繰り
返すことにより所望の累積度のキレート錯体分子層累a
t膜が形成される。
キレ−1i体分子層を担体上に移すには、上述した垂直
浸漬法の他、水平付着法、回転円筒法などの方法による
。水平付着法は担体を水面に水平に接触させて移しとる
方法で、回転円筒法は、円筒型の担体を水面上を回転さ
せてキレート錯体分子層を担体表面に移しとる方法であ
る。前述した垂直浸漬法では、表面が親水性である担体
を水面を横切る方向に水中から引き上げるとキレート錯
体分子の親木基が担体側に向いたキレート錯体分子層が
担体上に形成される。前述のように担体を上下させると
、各行程ごとに1枚ずつキレート錯体分子層が積み重な
っていく、成膜分子の向きが引上げ行程と浸漬行程で逆
になるので、この方法によると各層間はキレート錯体分
子の親水基と親水基、キレート錯体分子の疎水基と疎水
基が向かい合うY型膜が形成される。それに対し、水平
付着法は、担体を水面に水平に接触させて移しとる方法
で、キレート錯体分子の疎水基が担体側に向いたキレー
ト錯体分子層が担体上に形成される。
浸漬法の他、水平付着法、回転円筒法などの方法による
。水平付着法は担体を水面に水平に接触させて移しとる
方法で、回転円筒法は、円筒型の担体を水面上を回転さ
せてキレート錯体分子層を担体表面に移しとる方法であ
る。前述した垂直浸漬法では、表面が親水性である担体
を水面を横切る方向に水中から引き上げるとキレート錯
体分子の親木基が担体側に向いたキレート錯体分子層が
担体上に形成される。前述のように担体を上下させると
、各行程ごとに1枚ずつキレート錯体分子層が積み重な
っていく、成膜分子の向きが引上げ行程と浸漬行程で逆
になるので、この方法によると各層間はキレート錯体分
子の親水基と親水基、キレート錯体分子の疎水基と疎水
基が向かい合うY型膜が形成される。それに対し、水平
付着法は、担体を水面に水平に接触させて移しとる方法
で、キレート錯体分子の疎水基が担体側に向いたキレー
ト錯体分子層が担体上に形成される。
この方法では、累積しても、成膜分子の向きの交代はな
く全ての層において、疎水基が担体側に向いたX型膜が
形成される0反対に全ての層において親木基が担体側に
向いた累積膜はZ型膜と呼ばれる。
く全ての層において、疎水基が担体側に向いたX型膜が
形成される0反対に全ての層において親木基が担体側に
向いた累積膜はZ型膜と呼ばれる。
回転円筒法は、円筒型の担体を水面上を回転させて単分
子層を担体表面に移しとる方法である。
子層を担体表面に移しとる方法である。
単分子層を担体上に移す方法は、これらに限定されるわ
けではなく、大面積担体を用いる時には、担体ロールか
ら水相中に担体を押し出していく方法などもとり得る。
けではなく、大面積担体を用いる時には、担体ロールか
ら水相中に担体を押し出していく方法などもとり得る。
また、前述した親木基、疎水基の担体への向きは原則で
あり、担体の表面処理等によって変えることもできる。
あり、担体の表面処理等によって変えることもできる。
上述の方法によって担体上に形成されるキレート錯体分
子膜及びキレート錯体分子層累積膜は高密度でしかも高
度の秩序性を有しており、これらの膜で記録層を構成す
ることによって、キレート錯体の機能に応じて光記録、
熱的記録、電気的記録あるいは磁気的記録等の可能な高
密度で高解像度の記録機能を有する記録媒体を得ること
ができる。
子膜及びキレート錯体分子層累積膜は高密度でしかも高
度の秩序性を有しており、これらの膜で記録層を構成す
ることによって、キレート錯体の機能に応じて光記録、
熱的記録、電気的記録あるいは磁気的記録等の可能な高
密度で高解像度の記録機能を有する記録媒体を得ること
ができる。
次に本発明に係わる記録媒体におけるキレート配位子分
Cの光によるシス−トランス異性化に伴う金属イオンの
放出及び除去について説明する。
Cの光によるシス−トランス異性化に伴う金属イオンの
放出及び除去について説明する。
第1図(a)〜(d)は本発明に係る記録媒体の1実施
例を示す縦断面図である。尚、各図は模式図であり、具
体的に分子の形状などを示すものではない、第1図(a
)は本発明に係る記録媒体の1例を示し、シス型キレー
ト配位子分子lと金属イオン(又は金属原子)3からな
る2層に累積したキレート錯体分子膜を基板5上に形成
してなるものである。
例を示す縦断面図である。尚、各図は模式図であり、具
体的に分子の形状などを示すものではない、第1図(a
)は本発明に係る記録媒体の1例を示し、シス型キレー
ト配位子分子lと金属イオン(又は金属原子)3からな
る2層に累積したキレート錯体分子膜を基板5上に形成
してなるものである。
第1図(b)に示すように容器に収容された液相6中に
前記記録媒体を浸漬した後、マスク7を介して、あるパ
ターンに従って、紫外線、可視光などの光異性化に必要
なエネルギーを供給し得る光からなる照射光8を照射す
ると照射部位において1式(I) cis型 trans型に示すよ
うに光異性化反応が起き、トランス型キレート配位子分
子への転位が起こり、金属イオン3の放出が行われる0
次いで、金属イオン3を放出した記録媒体を液相中から
取り出し、乾燥すると連累性化が起きることがない、こ
のようにして第1図(C)に示す情報を記録した記録媒
体を得ることができる。
前記記録媒体を浸漬した後、マスク7を介して、あるパ
ターンに従って、紫外線、可視光などの光異性化に必要
なエネルギーを供給し得る光からなる照射光8を照射す
ると照射部位において1式(I) cis型 trans型に示すよ
うに光異性化反応が起き、トランス型キレート配位子分
子への転位が起こり、金属イオン3の放出が行われる0
次いで、金属イオン3を放出した記録媒体を液相中から
取り出し、乾燥すると連累性化が起きることがない、こ
のようにして第1図(C)に示す情報を記録した記録媒
体を得ることができる。
次に、前記記録媒体を化学反応により発色させた記録を
読み出す方法について説明する。
読み出す方法について説明する。
化学反応を用いた記録媒体の膜中残存金属イオンの発色
による、記録再生方法は第1図(d)に示す様に単分子
膜あるいはその累積膜の光来照射部位に残存する金属イ
オン又は金属原子を化学反応により、有色の化合物、例
えば無機顔料4とし、かつ膜材料である有機物を取り去
る事で、記録された情報を読み出す。
による、記録再生方法は第1図(d)に示す様に単分子
膜あるいはその累積膜の光来照射部位に残存する金属イ
オン又は金属原子を化学反応により、有色の化合物、例
えば無機顔料4とし、かつ膜材料である有機物を取り去
る事で、記録された情報を読み出す。
金属イオン又は金属原子を有色の化合物とする反応とし
ては1例えば下記の式2〜5の様な反応が挙げら杵る。
ては1例えば下記の式2〜5の様な反応が挙げら杵る。
[実施例]
以下に本発明の実施例を示して、更に具体的に説明する
0式(10) −(2B)で示される化合物は表2に示
すものを使用した。
0式(10) −(2B)で示される化合物は表2に示
すものを使用した。
実施例1
キレート配位子分子として式UΩのチオインジゴ誘導体
をクロロホルムに5×10−IMの濃度で溶かした後、
pH5,2の塩化カドミニウム(Cd(412)4 X
10” Mの水相上に展開した。溶媒のクロロホルム
を蒸発除去後550nmの光を照射しながら表面圧を3
0dyne/cmまで高め、キレート錯体のnシを水面
上に形成した。この後表面圧を一定に保ちながら表面が
十分に清浄で、かつ、親水性となっている石英基板を上
下速度3.5Om/sinにて水面を横切る方向に静か
に上下させ、キレー14体分子膜を基板上に移し取り、
キレート錯体単分子膜及び5.11.21層に累積した
キレート錯体分子膜を記録層とする光記録媒体を製造し
た。この業績行程において基板を水相から引き上げる都
度に30分間以上放置して、基板に付着している水分を
蒸発除去した。なお成膜装置としては英国JOYCE社
製のLang+muir−Trough (ラングミ
ュア−トラフ)を使用した0作成した光記録媒体を水溶
液に浸し、パターンに従って450n層光を照射するこ
とによりシス−トランス異性化反応を行ない、情報を記
録した。光記録媒体を液相から引さLげ、乾燥した後、
)12S雰囲気中で700℃で5分間加熱させた後、取
り出し放冷した処、黄色のCdSによる画像が形成され
た。この方法により、分子オーダーでの高密度、高解像
度な画像の書き込み、読み出しができた。また、累積膜
においては、ハーフトーンの再現も可能であった。
をクロロホルムに5×10−IMの濃度で溶かした後、
pH5,2の塩化カドミニウム(Cd(412)4 X
10” Mの水相上に展開した。溶媒のクロロホルム
を蒸発除去後550nmの光を照射しながら表面圧を3
0dyne/cmまで高め、キレート錯体のnシを水面
上に形成した。この後表面圧を一定に保ちながら表面が
十分に清浄で、かつ、親水性となっている石英基板を上
下速度3.5Om/sinにて水面を横切る方向に静か
に上下させ、キレー14体分子膜を基板上に移し取り、
キレート錯体単分子膜及び5.11.21層に累積した
キレート錯体分子膜を記録層とする光記録媒体を製造し
た。この業績行程において基板を水相から引き上げる都
度に30分間以上放置して、基板に付着している水分を
蒸発除去した。なお成膜装置としては英国JOYCE社
製のLang+muir−Trough (ラングミ
ュア−トラフ)を使用した0作成した光記録媒体を水溶
液に浸し、パターンに従って450n層光を照射するこ
とによりシス−トランス異性化反応を行ない、情報を記
録した。光記録媒体を液相から引さLげ、乾燥した後、
)12S雰囲気中で700℃で5分間加熱させた後、取
り出し放冷した処、黄色のCdSによる画像が形成され
た。この方法により、分子オーダーでの高密度、高解像
度な画像の書き込み、読み出しができた。また、累積膜
においては、ハーフトーンの再現も可能であった。
実施例2
キレート配位子分子としてして式Nb(11)のチオイ
ンジゴ誘導体をクロロホルムに5 X 10−:INの
濃度で溶かした後、pH5,2塩化鉄(II) CFe
C12) 4X10=Nの濃度の水相上に展開した。溶
媒のクロロホルムを蒸発除去後、 550n層の光を
照射しながら表面圧を30dyne/c腸まで高め、キ
レート錯体の膜を水面上に形成した。
ンジゴ誘導体をクロロホルムに5 X 10−:INの
濃度で溶かした後、pH5,2塩化鉄(II) CFe
C12) 4X10=Nの濃度の水相上に展開した。溶
媒のクロロホルムを蒸発除去後、 550n層の光を
照射しながら表面圧を30dyne/c腸まで高め、キ
レート錯体の膜を水面上に形成した。
この後表面圧を一定に保ちながら、表面が和分に清浄で
、かつ、親木性となっている石英基板を上下速度3.5
O層/sinにて水面を横切る方向に静かに1丁させ、
キレート錯体分子膜を基板とに移し取りキレート1体単
分子膜及び5 、11.21層に累積したキレート錯体
分子膜を記録層とする光記録媒体を製造した。この累積
行程において基板を水相から引き上げる都度に30分間
以上放置して、基板に付着している水分を蒸発除去した
。なお成膜’J 置トL テハ英国JOYGE社% c
y) Langmuir−Trough(ラングミュア
−トラフ)を使用した0作成した光記録媒体を水溶液に
浸し、パターンに従って、450n+s光を照射するこ
とによりシス−トランス異性化反応を行ない、情報を記
録した。光記録媒体を液相から引き上げ、乾燥した後、
02を通し。
、かつ、親木性となっている石英基板を上下速度3.5
O層/sinにて水面を横切る方向に静かに1丁させ、
キレート錯体分子膜を基板とに移し取りキレート1体単
分子膜及び5 、11.21層に累積したキレート錯体
分子膜を記録層とする光記録媒体を製造した。この累積
行程において基板を水相から引き上げる都度に30分間
以上放置して、基板に付着している水分を蒸発除去した
。なお成膜’J 置トL テハ英国JOYGE社% c
y) Langmuir−Trough(ラングミュア
−トラフ)を使用した0作成した光記録媒体を水溶液に
浸し、パターンに従って、450n+s光を照射するこ
とによりシス−トランス異性化反応を行ない、情報を記
録した。光記録媒体を液相から引き上げ、乾燥した後、
02を通し。
600℃で5分間加熱した後、取り出し、放冷した所、
黒色のFe3O4による画像が形成された。
黒色のFe3O4による画像が形成された。
この方法により、分子オーダーでの高書度、高解像度な
画像の書き込み、読み出しができた。また累積膜におい
ては、ハーフトーンの再現も可能であった。
画像の書き込み、読み出しができた。また累積膜におい
ては、ハーフトーンの再現も可能であった。
実施例3
キレート配位子分子として1式No (18)のアゾベ
ンセンa[体をクロロホルムに5 X 1O−3Nの濃
度で溶かした後、pH5,2の塩化銅(CuC見?)4
×10 ANの水相上に展開した。溶媒のクロロホルム
を蒸発除去後550nmの光を照射しながら、表面圧を
30dyne/cmまで高め、キレート錯体の膜を水面
上に形成した。この後、表面圧を一定に保ちながら、表
面が十分に清浄でかつ、親水性となっているガラス基板
を上下速度3.5Om/sinにて水面を横切る方向に
静かに上下させ、キレート錯体分子膜を基板上に移し取
り、キレート錯体単分子膜及び5.11.21層に累積
したキレート錯体分子膜を記録層とする光記録媒体を製
造した。
ンセンa[体をクロロホルムに5 X 1O−3Nの濃
度で溶かした後、pH5,2の塩化銅(CuC見?)4
×10 ANの水相上に展開した。溶媒のクロロホルム
を蒸発除去後550nmの光を照射しながら、表面圧を
30dyne/cmまで高め、キレート錯体の膜を水面
上に形成した。この後、表面圧を一定に保ちながら、表
面が十分に清浄でかつ、親水性となっているガラス基板
を上下速度3.5Om/sinにて水面を横切る方向に
静かに上下させ、キレート錯体分子膜を基板上に移し取
り、キレート錯体単分子膜及び5.11.21層に累積
したキレート錯体分子膜を記録層とする光記録媒体を製
造した。
この累積工程において、基板を水和から引き上げる都度
に30分間以上放置して基板に付着している水分を蒸発
除去した。なお、成膜装置としては、英国JOYCE社
製のLangmuir−Trough (ラングミュ
ア−トラフ)を使用した0作製した光記録媒体を水溶液
に浸し、パターンに従って、 450n+++光を照
射することにより、シス−トランス異性化反応を行ない
、情報を記録した。光記録媒体を液相から引き上げ、乾
燥した後、希硫酸溶液中に静かに浸し5分間反応させた
。これを取り出し、空気中にて乾燥した所、硫酸銅5水
塩(Cu5Oa ・5)120)による青色の画像が
形成された。得られた画像は分子オーダーの高密度、高
解像度なものであった。また、累積膜においては、ハー
フトーンの再現も可能であった。
に30分間以上放置して基板に付着している水分を蒸発
除去した。なお、成膜装置としては、英国JOYCE社
製のLangmuir−Trough (ラングミュ
ア−トラフ)を使用した0作製した光記録媒体を水溶液
に浸し、パターンに従って、 450n+++光を照
射することにより、シス−トランス異性化反応を行ない
、情報を記録した。光記録媒体を液相から引き上げ、乾
燥した後、希硫酸溶液中に静かに浸し5分間反応させた
。これを取り出し、空気中にて乾燥した所、硫酸銅5水
塩(Cu5Oa ・5)120)による青色の画像が
形成された。得られた画像は分子オーダーの高密度、高
解像度なものであった。また、累積膜においては、ハー
フトーンの再現も可能であった。
実施例4
キレート配位子分子として、式N0(ta)のアゾベン
ゼン誘導体をクロロホルムに5 X 10−3Mの濃度
で溶かした後、 pH5,2の塩化鉛(PbC12)
4X104Nの水相上に展開した。溶媒のクロロホルム
を蒸発除去後550nmの光を照射しながら、表面圧を
30d2ne/cmまで高め、キレート錯体の膜を水面
上に形成した。この後、表面圧を一定に保ちながら、表
面が十分に清浄でかつ、親木性となっているガラス基板
を上下速度3.5C厘/■inにて水面を横切る方向に
静かに上下させ、キレート錯体分子膜を基板上に移し取
り、キレート錯体単分子膜及び5.11.21層に累積
したキレート錯体分子膜を記録層とする光記録媒体を製
造した。
ゼン誘導体をクロロホルムに5 X 10−3Mの濃度
で溶かした後、 pH5,2の塩化鉛(PbC12)
4X104Nの水相上に展開した。溶媒のクロロホルム
を蒸発除去後550nmの光を照射しながら、表面圧を
30d2ne/cmまで高め、キレート錯体の膜を水面
上に形成した。この後、表面圧を一定に保ちながら、表
面が十分に清浄でかつ、親木性となっているガラス基板
を上下速度3.5C厘/■inにて水面を横切る方向に
静かに上下させ、キレート錯体分子膜を基板上に移し取
り、キレート錯体単分子膜及び5.11.21層に累積
したキレート錯体分子膜を記録層とする光記録媒体を製
造した。
この累積工程において、基板を水相から引き上げる都度
に30分間以上放置して基板に付着している水分を蒸発
除去した。なお、成膜装置としては、英国JOYGE社
製のLangmuir−Trough (ラングミュ
ア−トラフ)を使用した0作製した光記録媒体を水溶液
に浸し、パターンに従って、 45Onm光を照射する
ことにより、シス−トランス異性化反応を行ない、情報
を記録した。光記録媒体を液相から引き上げ、乾燥した
後、希硫酸溶液中に静かに浸し5分間反応させた。これ
を取り出し、乾燥した所、硫酸鉛(Pb5Oa )から
成る白色画像が形成された。得られた画像は分子オーダ
ーの高密度、高解像度な物であった。また、累積膜にお
いては、ハーフトーンの再現も可能であった。
に30分間以上放置して基板に付着している水分を蒸発
除去した。なお、成膜装置としては、英国JOYGE社
製のLangmuir−Trough (ラングミュ
ア−トラフ)を使用した0作製した光記録媒体を水溶液
に浸し、パターンに従って、 45Onm光を照射する
ことにより、シス−トランス異性化反応を行ない、情報
を記録した。光記録媒体を液相から引き上げ、乾燥した
後、希硫酸溶液中に静かに浸し5分間反応させた。これ
を取り出し、乾燥した所、硫酸鉛(Pb5Oa )から
成る白色画像が形成された。得られた画像は分子オーダ
ーの高密度、高解像度な物であった。また、累積膜にお
いては、ハーフトーンの再現も可能であった。
[発明の効果]
1、ラングミュア−プロジェット法により、単分子膜又
は累積膜を作成することにより、高密度。
は累積膜を作成することにより、高密度。
高規則性のある膜を容易に作成する事ができるため1分
子オーダーで高密度、高解像度の記録ができる: 2、キレート配位子分子の異性化が、はぼ定量的である
ため、記録安定性に富む。
子オーダーで高密度、高解像度の記録ができる: 2、キレート配位子分子の異性化が、はぼ定量的である
ため、記録安定性に富む。
3、記録読み出し方法において、金属イオンを比較的簡
単な反応で、安定な無機顔料とする事ができる。
単な反応で、安定な無機顔料とする事ができる。
4、記録再生時の反応で、有機物はなくなり、無機顔料
のみの画像が形成されるため、安定で長期保存が可能で
ある。
のみの画像が形成されるため、安定で長期保存が可能で
ある。
第1図(a)〜(d)は1本発明に係る記録媒体の1実
施例を示す縦断面の模式図である。各々(a)は本発明
の記録媒体、(b)は液相における記録過程、(C)液
相から取り出した、情報の記録された記録媒体、(d)
は記録媒体に残存する金属イオンを化学反応にて、発色
させ、記録を再生した記録媒体である。 第2図(a) 、 (b)は、従来の成膜装置の一例を
示す説明図である。 1・・・シス型キレート配位子分子 2・・・トランス型キレート配位子分子3・・・金属イ
オン(又は金属原子) 4・・・無機顔料 5・・・基板 6・・・液相 7・・・マスク 8・・・照射光 9・・・枠 10・・・浮子 11・・・重り 12・・・滑車 13・・・磁石 14・・・対磁石 15・・・吸引パイプ 16・・・吸引ノズル 17・・・液面 18・・・基板 11・・・基板上下腕 20・・・水槽
施例を示す縦断面の模式図である。各々(a)は本発明
の記録媒体、(b)は液相における記録過程、(C)液
相から取り出した、情報の記録された記録媒体、(d)
は記録媒体に残存する金属イオンを化学反応にて、発色
させ、記録を再生した記録媒体である。 第2図(a) 、 (b)は、従来の成膜装置の一例を
示す説明図である。 1・・・シス型キレート配位子分子 2・・・トランス型キレート配位子分子3・・・金属イ
オン(又は金属原子) 4・・・無機顔料 5・・・基板 6・・・液相 7・・・マスク 8・・・照射光 9・・・枠 10・・・浮子 11・・・重り 12・・・滑車 13・・・磁石 14・・・対磁石 15・・・吸引パイプ 16・・・吸引ノズル 17・・・液面 18・・・基板 11・・・基板上下腕 20・・・水槽
Claims (2)
- (1)光を当てると異性化し、金属イオン又は金属原子
を放出する金属キレート化合物からなる単分子膜又はそ
の累積膜から成る記録媒体上に、画情報に対応する光を
照射し金属イオン又は金属原子を放出させた後、前記記
録媒体を化学反応により発色させて記録を読み出す事を
特徴とする記録方法。 - (2)記録読み出しにおける化学反応において、単分子
膜あるいはその累積膜中の金属イオン又は金属原子を無
機顔料とし、かつ膜材料である有機物を取り去る事を特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の記録方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60003232A JPS61163338A (ja) | 1985-01-14 | 1985-01-14 | 記録方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60003232A JPS61163338A (ja) | 1985-01-14 | 1985-01-14 | 記録方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61163338A true JPS61163338A (ja) | 1986-07-24 |
Family
ID=11551699
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60003232A Pending JPS61163338A (ja) | 1985-01-14 | 1985-01-14 | 記録方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61163338A (ja) |
-
1985
- 1985-01-14 JP JP60003232A patent/JPS61163338A/ja active Pending
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